本實(shí)用新型涉及一種美容器具，具體涉及一種指甲拋光條。

背景技術(shù)：

人類的指甲是皮膚附件之一，屬于結(jié)締組織。指甲甲床的血管和神經(jīng)特別豐富，指甲也是肝臟毒素的一個排泄口，同時指甲更是愛美女士手部護(hù)理的最重要部分，擁有靚麗的指甲是很多女士的夢想。

常用的指甲油多含有丙酮、乙酸乙酯、鄰苯二甲酸酯、甲醛、苯等有毒化學(xué)物質(zhì)，對人體有害無益，長期涂覆指甲油會損害指甲健康，再加上指甲油對指甲的包裹使指甲不能及時排除肝臟毒素，這更是對肝臟的一種損傷。當(dāng)指甲長出一部分時，新長出部分就沒有指甲油覆蓋，為了美觀不得不用洗甲水清洗指甲油而重新涂覆，洗甲水主要原料為丙酮，對人體的傷害更甚于指甲油，長期接觸指甲油和洗甲水將對人體造成重大危害。并且，指甲油和洗甲水的生產(chǎn)制造和使用后產(chǎn)生的廢料也會對環(huán)境造成一定的污染。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型公開一種指甲拋光條，該拋光條能夠?qū)⒅讣妆砻娲蚰伖?，使指甲表面呈現(xiàn)光亮美觀的色澤，無需使用對人體有危害的指甲油或洗甲水即可美化指甲表面，達(dá)到美甲的效果。

本實(shí)用新型通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒的底部固定在基板上。

指甲是皮膚附件之一，屬于結(jié)締組織。指甲甲床的血管和神經(jīng)特別豐富，指甲也是肝臟毒素的一個排泄口，目前指甲的護(hù)理美化多采用涂覆指甲油的方式，常用的指甲油含有丙酮、乙酸乙酯、鄰苯二甲酸酯、甲醛、苯等有毒化學(xué)物質(zhì)，對人體有害無益，長期涂覆指甲油會損害指甲健康，再加上指甲油對指甲的包裹使指甲不能及時排除肝臟毒素，這更是對肝臟的一種損傷。涂覆指甲油的同時難免還需要使用洗甲水，洗甲水主要原料為丙酮，對人體的傷害更甚于指甲油，長期接觸指甲油和洗甲水將對人體造成重大危害。并且，指甲油和洗甲水的生產(chǎn)制造和使用后產(chǎn)生的廢料也會對環(huán)境造成一定的污染。

本實(shí)用新型一種指甲拋光條，通過在基板上加工一層拋光層，拋光層包含密集分布拋光齒，利用大量微小的拋光齒對指甲表面進(jìn)行打磨拋光，消除指甲表面原有凹凸不平的紋理，使指甲表面平整光滑細(xì)膩，并帶有亮麗的光澤，達(dá)到類似涂覆指甲油后的視覺效果，因此本實(shí)用新型拋光條在無需使用指甲油的情況下，能夠使指甲達(dá)到光潔亮麗的視覺效果，美化指甲外觀，避免指甲和人體遭受指甲油和洗甲水的危害。既保證了指甲美觀，又使人體免于有毒化學(xué)物質(zhì)的損害，達(dá)到安全健康的美甲效果。

所述拋光齒呈垂直于基板的柱形，拋光齒徑向最大寬度為150～250μm，拋光齒間的間距為80～150μm。

本申請發(fā)明人做了大量嘗試，發(fā)現(xiàn)當(dāng)拋光齒徑向最大寬度在150～250μm，拋光齒間的間距在80～150μm范圍內(nèi)時，拋光條能夠?qū)χ讣妆砻孢M(jìn)行拋光，消除指甲表面凹凸不平的紋理和瑕疵，使指甲表面光澤細(xì)膩，可替代指甲油對指甲表面進(jìn)行美化處理，避免人體遭受指甲油和洗甲水的侵害。

當(dāng)拋光齒徑向最大寬度超出150～250μm范圍，拋光齒間的間距超出80～150μm范圍時，其拋光后的指甲表面較粗糙，光澤度差，或者無法進(jìn)行拋光打磨，難以在不使用指甲油的情況下使指甲美觀。

所述拋光齒呈垂直于基板的柱形，拋光齒徑向最大寬度為180～220μm，拋光齒間的間距為100～110μm。

在發(fā)明人的大量反復(fù)試驗(yàn)過程中，發(fā)現(xiàn)當(dāng)拋光齒徑向最大寬度為180～220μm，拋光齒間的間距為100～110μm時，拋光條的拋光效果最佳，拋光后的指甲表面光滑細(xì)膩，光澤度高，能夠完全替代指甲油使指甲表面美觀亮麗。

所述拋光齒高度為18～22μm。當(dāng)拋光齒高度低于18μm時，拋光過程中指甲碎屑容易很快將拋光齒間間隙填充滿，使拋光條無法繼續(xù)拋光，需要經(jīng)過清理拋光齒間隙后使用，影響拋光效率和用戶體驗(yàn)。

所述拋光齒形狀為圓柱、四棱柱、六棱柱和三棱柱中的一種。

本實(shí)用新型是利用微米級的拋光齒頂面邊緣的棱角作用于指甲表面，對指甲表面進(jìn)行切削，將現(xiàn)有打磨工具難以處理的指甲表面最細(xì)微的突起或瑕疵處理干凈，使指甲表面光滑細(xì)膩，并產(chǎn)生亮麗的光澤，達(dá)到打磨拋光指甲的效果，美化指甲。

拋光齒底部與基板連接為一體式。

所述基板和拋光齒的材質(zhì)為玻璃。

所述基板和拋光齒的材質(zhì)為青玻璃、超白玻璃和康寧玻璃中的一種。

由于基板和拋光齒材質(zhì)為青玻璃、超白玻璃和康寧玻璃這一類硬度較高的玻璃，而人體指甲相對硬度低，因此拋光齒頂面能夠?qū)χ讣走M(jìn)行打磨拋光且自身難以被磨損，延長其使用壽命，且不會因?yàn)閽伖恺X磨損變形而影響拋光效果。

所述拋光齒頂部覆有一層鉻層。鉻層硬度高于玻璃，其厚度為100nm，用于保護(hù)拋光齒頂面不被硬物磨損，同時能夠改善拋光條的顏色和外觀。

所述拋光層為兩層，分別固定在基板的上表面和下表面，且上下兩層拋光層的拋光齒直徑不同、拋光齒間距不同。所述基板一側(cè)連接一個手柄。

本實(shí)用新型其中一層拋光齒的直徑更大、拋光齒也更大，另一層拋光齒直徑和拋光齒間距適中，尺寸更大的那一層拋光齒用于對指甲表面較明顯的凸起進(jìn)行打磨，減小精磨所有時間，提高效率，并在一定程度上減緩另一面拋光齒的磨損速度，尺寸適中的那一層拋光齒用于對指甲表面微小的凸起或瑕疵進(jìn)行精磨拋光，提高指甲光澤度和美觀度。

一種指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為150～250μm、相互間距為100～150μm的小凸點(diǎn)，小凸點(diǎn)頂面形狀為圓形、菱形、六邊形和三角形中的一種，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復(fù)合層；

紫外光刻：將基板復(fù)合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復(fù)合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層與掩膜版分離，再將基板復(fù)合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層上構(gòu)成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層置璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

于玻去除光刻膠：基板復(fù)合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

還可以在去除光刻膠后，去除柱狀凸起上層的鉻膜。再將蝕刻好的基板經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

所述高硬度玻璃板為青玻璃、超白玻璃和康寧玻璃中的一種。且高硬度玻璃板厚度為2～4mm。

本實(shí)用新型的指甲拋光條的制備方法，通過光刻工藝和化學(xué)腐蝕的方法，在玻璃表面獲得一定范圍大小和一定范圍深度的規(guī)律排布的微米級拋光齒，利用銳利的拋光齒頂面邊緣的切削能力對指甲表面進(jìn)行拋光，使指甲表面達(dá)到光滑亮麗的美甲效果，從而避免指甲油和洗甲水等有毒化工品對人體的傷害和對環(huán)境的污染，并且利用該方法制得的拋光條精度高、強(qiáng)度好、拋光效果佳、經(jīng)久耐用。

本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下的優(yōu)點(diǎn)和有益效果：

本實(shí)用新型一種指甲拋光條，通過在基板上加工一層拋光層，拋光層包含密集分布拋光齒，利用大量微小的拋光齒對指甲表面進(jìn)行打磨拋光，消除指甲表面原有凹凸不平的紋理，使指甲表面平整光滑細(xì)膩，并帶有亮麗的光澤，達(dá)到類似涂覆指甲油后的視覺效果，在無需使用指甲油的情況下，能夠使指甲達(dá)到光潔亮麗的視覺效果，避免指甲和人體遭受指甲油和洗甲水的危害。既保證了指甲美觀，又使人體免于有毒化學(xué)物質(zhì)的損害。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本實(shí)用新型實(shí)施例的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請的一部分，并不構(gòu)成對本實(shí)用新型實(shí)施例的限定。在附圖中：

圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例4拋光條示意圖；

圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例4拋光條局部放大圖；

圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例6拋光條局部放大圖；

圖5為本實(shí)用新型指甲拋光條的制備流程圖。

附圖中標(biāo)記及對應(yīng)的零部件名稱：

1-基板，11-手柄，2-拋光層，3-拋光齒，4-掩膜版，41-玻璃板，42-鉻膜，43-小凸點(diǎn)，5-基板復(fù)合層，51-鉻膜，52-光刻膠。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，下面結(jié)合實(shí)施例和附圖，對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明，本實(shí)用新型的示意性實(shí)施方式及其說明僅用于解釋本實(shí)用新型，并不作為對本實(shí)用新型的限定。

實(shí)施例1

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的圓柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒直徑為205μm，拋光齒間的間距為155μm，所述拋光齒高度為20μm?；搴蛼伖恺X的材質(zhì)為青玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為205μm、相互間距為155μm的小凸點(diǎn)，小凸點(diǎn)頂面形狀為圓形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實(shí)施例采用厚度為2mm的青玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復(fù)合層；

紫外光刻：將基板復(fù)合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復(fù)合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層與掩膜版分離，再將基板復(fù)合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層上構(gòu)成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復(fù)合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實(shí)施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，可用肉眼分辨出拋光后的指甲表面具有很多細(xì)微的劃痕，手感粗糙且無光澤，因此本實(shí)施例的拋光條雖然能夠用于打磨指甲，但不能用于指甲拋光，無法達(dá)到使指甲光澤亮麗的效果。

實(shí)施例2

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的圓柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒直徑為145μm，拋光齒間的間距為140μm，所述拋光齒高度為19μm?；搴蛼伖恺X的材質(zhì)為青玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為145μm、相互間距為140μm的小凸點(diǎn)，小凸點(diǎn)頂面形狀為圓形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實(shí)施例采用厚度為4mm的青玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復(fù)合層；

紫外光刻：將基板復(fù)合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復(fù)合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層與掩膜版分離，再將基板復(fù)合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層上構(gòu)成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復(fù)合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實(shí)施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，在操作時較為費(fèi)力，拋光條難以打磨拋光指甲，經(jīng)處理后的指甲表面依然存在凹凸不平的指甲紋理，因此本實(shí)施例的拋光條不能用于指甲的打磨或拋光。

實(shí)施例3

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的圓柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒直徑為150μm，拋光齒間的間距為150μm，所述拋光齒高度為20μm?；搴蛼伖恺X的材質(zhì)為青玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為150μm、相互間距為150μm的小凸點(diǎn)，小凸點(diǎn)頂面形狀為圓形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實(shí)施例采用厚度為2mm的青玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復(fù)合層；

紫外光刻：將基板復(fù)合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復(fù)合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層與掩膜版分離，再將基板復(fù)合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層上構(gòu)成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復(fù)合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實(shí)施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，雖然無法用肉眼分辨出拋光后的指甲表面是否有劃痕，且指甲表面光滑，但指甲色澤較為暗淡，帶有啞光效果，因此本實(shí)施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，使指甲表面具有光潔的啞光效果，可在一定程度上替代指甲油使指甲光潔美觀。

實(shí)施例4

如圖1～3所示，一種指甲拋光條，包括基板1和拋光層2，所述拋光層2包括若干密集分布的拋光齒3，拋光齒3形狀為軸線垂直于基板的圓柱，拋光齒3底部與基板1連接為一體式。其中，拋光齒3直徑為165μm，拋光齒3間的間距為135μm，所述拋光齒3高度為18μm?；?和拋光齒3的材質(zhì)為青玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

本實(shí)施例中，所述拋光層2為兩層，分別固定在基板1的上表面和下表面，且上下兩層拋光層2的拋光齒3直徑不同、拋光齒3間距不同。所述基板1一側(cè)連接一個手柄11。

如圖5所示，上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板41，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜42，鉻膜42包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜42表面形成若干直徑為165μm、相互間距為135μm的小凸點(diǎn)43，小凸點(diǎn)43頂面形狀為圓形，即制得掩膜版4；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板1，本實(shí)施例采用厚度為3mm的青玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜51，再在鉻膜51上旋涂一層光刻膠52，得到基板復(fù)合層5；

紫外光刻：將基板復(fù)合層5的光刻膠52與掩膜版4的鉻膜42接觸，使基板復(fù)合層5與掩膜版4緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層5與掩膜版4分離，再將基板復(fù)合層5置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)43接觸部位的光刻膠52保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠52下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層5上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)43頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層上構(gòu)成了與掩膜版4一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層5置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜51接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復(fù)合層5的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜51上方的光刻膠52即得拋光齒3。

最后將蝕刻好的基板1經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實(shí)施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經(jīng)拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有光澤，因此本實(shí)施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可完全替代指甲油使指甲光潔美觀。

實(shí)施例5

一種指甲拋光條，包括基板1和拋光層2，所述拋光層2包括若干密集分布的拋光齒3，拋光齒3形狀為軸線垂直于基板1的四棱柱，拋光齒3底部與基板1連接為一體式。其中，拋光齒3徑向最大寬度為180μm，拋光齒3間的間距為120μm，所述拋光齒3高度為21μm。基板1和拋光齒3的材質(zhì)為肖特B270超白玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為180μm、相互間距為120μm的小凸點(diǎn)，小凸點(diǎn)頂面形狀為菱形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實(shí)施例采用厚度為4mm的肖特B270超白玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復(fù)合層；

紫外光刻：將基板復(fù)合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復(fù)合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層與掩膜版分離，再將基板復(fù)合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層上構(gòu)成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復(fù)合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實(shí)施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經(jīng)拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有較好的光澤度，因此本實(shí)施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可完全替代指甲油使指甲光潔美觀。

實(shí)施例6

如圖1、4所示，一種指甲拋光條，包括基板1和拋光層2，所述拋光層2包括若干密集分布的拋光齒3，拋光齒3形狀為軸線垂直于基板的六棱柱，拋光齒3底部與基板1連接為一體式。其中，拋光齒3徑向最大寬度為190μm，拋光齒3間的間距為110μm，所述拋光齒3高度為19μm?；?和拋光齒3的材質(zhì)為肖特B270超白玻璃，在拋光齒3頂部覆有一層鉻層。

如圖5所示，上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板41，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜42，鉻膜42包括與玻璃板41接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜42表面形成若干直徑為190μm、相互間距為110μm的小凸點(diǎn)43，小凸點(diǎn)43頂面形狀為六邊形，即制得掩膜版4；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板1，本實(shí)施例采用厚度為2mm的肖特B270超白玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜51，再在鉻膜51上旋涂一層光刻膠52，得到基板復(fù)合層5；

紫外光刻：將基板復(fù)合層5的光刻膠52與掩膜版4的鉻膜42接觸，使基板復(fù)合層5與掩膜版4緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層5與掩膜版4分離，再將基板復(fù)合層5置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層5上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層5上構(gòu)成了與掩膜版4一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層5置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜51接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復(fù)合層5的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜51上方的光刻膠52即得拋光齒3。

最后將蝕刻好的基板1經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實(shí)施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經(jīng)拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有非常好的光澤度，因此本實(shí)施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可完全替代指甲油使指甲表面光潔亮麗。

實(shí)施例7

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的六棱柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒徑向最大寬度為200μm，拋光齒間的間距為100μm，所述拋光齒高度為20μm?；搴蛼伖恺X的材質(zhì)為康寧玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為200μm、相互間距為100μm的小凸點(diǎn)，小凸點(diǎn)頂面形狀為六邊形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實(shí)施例采用厚度為4mm的康寧玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復(fù)合層；

紫外光刻：將基板復(fù)合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復(fù)合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層與掩膜版分離，再將基板復(fù)合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層上構(gòu)成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復(fù)合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實(shí)施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經(jīng)拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有非常好的光澤度，因此本實(shí)施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可完全替代指甲油使指甲表面光潔亮麗。

實(shí)施例8

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的三棱柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒徑向最大寬度為220μm，拋光齒間的間距為95μm，所述拋光齒高度為22μm?；搴蛼伖恺X的材質(zhì)為康寧玻璃。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為220μm、相互間距為95μm的小凸點(diǎn)，小凸點(diǎn)頂面形狀為三角形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實(shí)施例采用厚度為3mm的康寧玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復(fù)合層；

紫外光刻：將基板復(fù)合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復(fù)合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層與掩膜版分離，再將基板復(fù)合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層上構(gòu)成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復(fù)合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

在去除光刻膠后，去除柱狀凸起上層的鉻膜，再將蝕刻好的基板經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實(shí)施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經(jīng)拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有較好的光澤度，因此本實(shí)施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可完全替代指甲油使指甲表面光潔亮麗。

實(shí)施例9

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的三棱柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒徑向最大寬度為235μm，拋光齒間的間距為130μm，所述拋光齒高度為21μm?；搴蛼伖恺X的材質(zhì)為肖特B270超白玻璃。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為235μm、相互間距為130μm的小凸點(diǎn)，小凸點(diǎn)頂面形狀為三角形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實(shí)施例采用厚度為4mm的肖特B270超白玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復(fù)合層；

紫外光刻：將基板復(fù)合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復(fù)合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層與掩膜版分離，再將基板復(fù)合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層上構(gòu)成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復(fù)合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

在去除光刻膠后，去除柱狀凸起上層的鉻膜。再將蝕刻好的基板經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實(shí)施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經(jīng)拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有較好的光澤度，因此本實(shí)施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可完全替代指甲油使指甲光潔美觀。

實(shí)施例10

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的圓柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒直徑為250μm，拋光齒間的間距為90μm，所述拋光齒高度為18μm?；搴蛼伖恺X的材質(zhì)為肖特B270超白玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為250μm、相互間距為90μm的小凸點(diǎn)，小凸點(diǎn)頂面形狀為圓形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實(shí)施例采用厚度為3mm的肖特B270超白玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復(fù)合層；

紫外光刻：將基板復(fù)合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復(fù)合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層與掩膜版分離，再將基板復(fù)合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層上構(gòu)成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復(fù)合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實(shí)施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經(jīng)拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有一定光澤度，拋光效果尚可，因此本實(shí)施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可替代指甲油使指甲光潔美觀。

實(shí)施例11

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的六棱柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒徑向最大寬度為240μm，拋光齒間的間距為80μm，所述拋光齒高度為22μm。基板和拋光齒的材質(zhì)為康寧玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為240μm、相互間距為80μm的小凸點(diǎn)，小凸點(diǎn)頂面形狀為圓形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實(shí)施例采用厚度為2mm的康寧玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復(fù)合層；

紫外光刻：將基板復(fù)合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復(fù)合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層與掩膜版分離，再將基板復(fù)合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層上構(gòu)成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復(fù)合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實(shí)施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，拋光過程較為費(fèi)力，拋光效率低，經(jīng)拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有一定光澤度，拋光效果尚可，因此本實(shí)施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可替代指甲油使指甲光潔美觀。

實(shí)施例12

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的三棱柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒徑向最大寬度為210μm，拋光齒間的間距為77μm，所述拋光齒高度為18μm。基板和拋光齒的材質(zhì)為青玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為210μm、相互間距為77μm的小凸點(diǎn)，小凸點(diǎn)頂面形狀為三角形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實(shí)施例采用厚度為4mm的青玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復(fù)合層；

紫外光刻：將基板復(fù)合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復(fù)合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層與掩膜版分離，再將基板復(fù)合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層上構(gòu)成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復(fù)合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實(shí)施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，拋光過程十分費(fèi)力，經(jīng)拋光后的指甲表面表面依然存在凹凸不平的指甲紋理，因此本實(shí)施例的拋光條無法用于打磨指甲和拋光指甲。不能替代指甲油使指甲光潔美觀。

實(shí)施例13

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的六棱柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒徑向最大寬度為255μm，拋光齒間的間距為105μm，所述拋光齒高度為17μm?；搴蛼伖恺X的材質(zhì)為康寧玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為255μm、相互間距為105μm的小凸點(diǎn)，小凸點(diǎn)頂面形狀為六邊形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實(shí)施例采用厚度為4mm的康寧玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復(fù)合層；

紫外光刻：將基板復(fù)合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復(fù)合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機(jī)上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復(fù)合層與掩膜版分離，再將基板復(fù)合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點(diǎn)接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復(fù)合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點(diǎn)頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復(fù)合層上構(gòu)成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復(fù)合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復(fù)合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經(jīng)過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實(shí)施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經(jīng)拋光后的指甲表面表面雖然不存在凹凸不平的指甲紋理，但其手感粗糙，無光澤，并且打磨過程中，拋光齒深度過淺，常常由于指甲碎屑填充了拋光齒間的間隙，拋光條一段時間后便無法打磨，需要清理后才能繼續(xù)使用，使用不方便。因此本實(shí)施例的拋光條雖然可用于打磨指甲，但不能用于拋光指甲，不能替代指甲油使指甲光潔美觀。

本申請發(fā)明人對指甲拋光條的形狀、尺寸和材質(zhì)做了大量的試驗(yàn)，在此不一一例舉，僅例舉上述13個較為典型的實(shí)施方式。

實(shí)施例3～11中的指甲拋光條均能夠?qū)χ讣走M(jìn)行拋光，替代指甲油使指甲光澤亮麗，避免人體受到指甲油和洗甲水的傷害，其中實(shí)施例5～8中的拋光條拋光效果尤其好，實(shí)施例3的拋光條拋光效果較為一般，實(shí)施例9、11的拋光條拋光效果較好，實(shí)施例10的拋光條拋光效果尚可。

將實(shí)施例1與其他實(shí)施例對比分析可得出，由于實(shí)施例1中拋光齒間的距離過大，當(dāng)拋光齒作用于指甲表面時，其邊緣棱角在指甲表面的切削深度過深，使指甲表面產(chǎn)生劃痕，使指甲粗糙無光澤，因此不能替代指甲油使指甲光澤亮麗。將實(shí)施例2與其他實(shí)施例對比分析可得出，由于實(shí)施例2中拋光齒直徑過小，拋光齒邊緣棱角難以作用于指甲表面進(jìn)行切削，因此不能替代指甲油使指甲光澤亮麗。同樣的，實(shí)施例12中由于拋光齒間間距過小，拋光齒邊緣棱角在指甲表面的切削深度過淺，幾乎可忽略不計，無法對指甲進(jìn)行拋光處理，因此不能替代指甲油使指甲光澤亮麗。實(shí)施例13中拋光齒直徑過大，由于作用于指甲表面的顆粒不夠細(xì)致，因此導(dǎo)致打磨出的指甲表面手感粗糙無光澤，不能替代指甲油使指甲光澤亮麗。

綜上所述，結(jié)合本申請發(fā)明人的大量反復(fù)試驗(yàn)以及實(shí)施例1～13可以得出，當(dāng)拋光齒徑向最大寬度為150～250μm，拋光齒間的間距為80～150μm時，指甲拋光條能夠?qū)χ讣走M(jìn)行拋光，使指甲表面光潔亮麗，達(dá)到美甲效果，可替代指甲油，使人體免受指甲油和洗甲水的損害，在保證指甲美觀的同時保護(hù)了人體健康。其中，當(dāng)拋光齒徑向最大寬度為180～220μm，拋光齒間的間距為100～110μm時，指甲拋光條的拋光效果達(dá)到最佳，指甲拋光后光澤度非常好，美觀度高，適宜在美甲領(lǐng)域廣泛推廣使用。

以上所述的具體實(shí)施方式，對本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式而已，并不用于限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。