本發(fā)明涉及首飾。

背景技術(shù)：

珠寶的寶石鑲嵌方式、光澤是衡量其價(jià)值的重要因素，但眾所周知，現(xiàn)有珠寶的鑲嵌主要以爪鑲、包鑲、邊鑲等主流鑲法鑲嵌為主，在看到的款式中主要寶石都是靠邊上的金屬固定的，這樣會(huì)導(dǎo)致寶石部分被遮擋，從而影響到了其光澤和視覺效果，為此如何利用合理的鑲嵌方式完美的展示一顆寶石，是各大珠寶商們所期待解決的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于，提供一種改進(jìn)了鑲嵌方式的首飾。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：隱秘式鑲嵌的首飾，包括首飾本體，所述首飾本體上設(shè)有寶石以及用于鑲嵌寶石的底托，所述寶石包括用于鑲嵌安裝的亭部，亭部側(cè)壁上設(shè)有內(nèi)凹槽，所述底托上形成與所述亭部對(duì)應(yīng)的嵌接腔，嵌接腔中設(shè)有與內(nèi)凹槽對(duì)應(yīng)的插接柱，所述插接柱凸出設(shè)置于所述嵌接腔的內(nèi)側(cè)壁上。

如前所述的隱秘式鑲嵌的首飾，所述底托為圓柱筒，所述插接柱設(shè)置于嵌接腔側(cè)壁的上端，所述內(nèi)凹槽設(shè)置于所述亭部上端。

如前所述的隱秘式鑲嵌的首飾，三個(gè)所述插接柱均勻分布于嵌接腔側(cè)壁上。

實(shí)施本發(fā)明的技術(shù)方案，至少具有以下的有益效果：在俯視角度時(shí)珠寶的正表面完全無遮擋，能更好的展示珠寶體的光澤，本案的鑲嵌方式拋棄繁雜的連接件并最大程度上保存了珠寶的整體美感。

附圖說明

下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明，附圖中：

圖1為本實(shí)用新型的組合示意圖；

圖2為本實(shí)用新型底托與寶石的分散狀態(tài)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型底托與寶石分散狀態(tài)剖視角度示意圖；

圖4為本實(shí)用新型底托與寶石組裝狀態(tài)剖視角度示意圖；

圖中標(biāo)識(shí)說明如下：

1、寶石；10、亭部；11、內(nèi)凹槽；2、底托；20、插接柱；21、嵌接腔。

具體實(shí)施方式

為了對(duì)本發(fā)明的技術(shù)特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對(duì)照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的具體實(shí)施方式。

如圖1-4所示的隱秘式鑲嵌的首飾，包括首飾本體，所述首飾本體上設(shè)有寶石1以及用于鑲嵌寶石1的底托2，所述寶石1包括用于鑲嵌安裝的亭部10，亭部10側(cè)壁上設(shè)有內(nèi)凹槽11，所述底托2上形成與所述亭部10對(duì)應(yīng)的嵌接腔21，嵌接腔21中設(shè)有與內(nèi)凹槽11對(duì)應(yīng)的插接柱20，所述插接柱20凸出設(shè)置于所述嵌接腔21的內(nèi)側(cè)壁上。鑲嵌好的寶石1其亭部10嵌入底托2的嵌接腔21內(nèi)，并且插接柱20插入對(duì)應(yīng)的內(nèi)凹槽11中，由此實(shí)現(xiàn)寶石1與底托2之間的固定，然后通過底托2將整個(gè)飾品安裝在戒指或項(xiàng)鏈上。觀察時(shí)，如果是俯視的角度，首先映入眼簾的是珠寶單體完全無遮擋，因此整個(gè)飾品由于珠寶的拼合會(huì)讓人忽略掉連接件的存在。當(dāng)然這種隱秘式的鑲嵌飾品還可以使更多鑲口一同在珠寶上展示，璀璨只見石，不見金。并且隱秘式的鑲嵌方式將寶石1和底托2的連接處隱藏，避免連接處易受外力作用影響，確保寶石1與底托2連接的穩(wěn)定性。

在一些實(shí)施例中，所述底托2為圓柱筒，所述插接柱20設(shè)置于嵌接腔21側(cè)壁的上端，所述內(nèi)凹槽11設(shè)置于所述亭部10上端。插接柱20、內(nèi)凹槽11都設(shè)置在各結(jié)構(gòu)部位較上端的位置，使得兩者的連接結(jié)構(gòu)處于較均衡的部位，連接力度更強(qiáng)、更穩(wěn)定。

在一些實(shí)施例中，插接柱20的數(shù)量為三塊，且均勻分布于嵌接腔21側(cè)壁上。三點(diǎn)確定一個(gè)平面，在保證連接穩(wěn)定同時(shí)兼顧了工藝的簡(jiǎn)化。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改、組合和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍之內(nèi)。