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一種鉆石基托裝置及其實(shí)現(xiàn)方法與流程

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一種鉆石基托裝置及其實(shí)現(xiàn)方法與流程

發(fā)明涉及一種鉆石鑲嵌裝置及方法,尤其涉及的是一種為擴(kuò)大單鉆光彩效果的鉆石基托裝置及其實(shí)現(xiàn)方法。



背景技術(shù):

現(xiàn)有技術(shù)中的鉆石基托裝置通常有兩種,一種平板式,一種是錐形式,為擴(kuò)大鉆石的顯示效果,在基托的頂面上通常設(shè)置有分布設(shè)置的、用來(lái)反光的三角棱形。并為進(jìn)一步增大單鉆的光彩效果,可以在基座本體的外圍設(shè)置用來(lái)擴(kuò)大視覺(jué)效果的下斜面。

但現(xiàn)有技術(shù)僅僅依靠頂面三角棱形的反光來(lái)實(shí)現(xiàn)單鉆放大效果時(shí),會(huì)發(fā)現(xiàn)其鉆石的火彩不夠,也就是反射光的發(fā)射直接來(lái)自于頂面金屬面的反光,金屬面的反光與鉆石的晶瑩反光在肉眼的識(shí)別效果上會(huì)有區(qū)別,尤其是佩戴日久后,會(huì)逐漸被肉眼適應(yīng),看出其反光的火彩不夠,因而影響鉆石的真正放大效果。

因此,現(xiàn)有技術(shù)還有待于改進(jìn)和發(fā)展。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于提供一種鉆石基托裝置及其實(shí)現(xiàn)方法,進(jìn)一步改進(jìn)鉆石的基托結(jié)構(gòu),形成能夠提升鉆石火彩的基托結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下:

一種鉆石基托裝置,其用于裝配鉆石;所述鉆石基托裝置的本體外側(cè)壁呈錐形設(shè)置,所述本體的頂面上分布設(shè)置有用于反射鉆石光彩的三角形棱面;并在所述本體內(nèi)設(shè)置有安放所述鉆石的內(nèi)錐形壁;其中,在所述內(nèi)錐形壁上設(shè)置有朝向中心放射狀分布的反射槽面,所述反射槽面的環(huán)形下緣設(shè)置為貼合所述鉆石腰部的位置,所述反射槽面的上緣與所述本體頂面交線與所述鉆石分離設(shè)置。

所述的鉆石基托裝置,其中,所述反射槽面為截面圓弧形。

所述的鉆石基托裝置,其中,所述反射槽面設(shè)置通過(guò)切刀一次切削成型。

所述的鉆石基托裝置,其中,所述反射槽面部分配合所述鉆石腰部的位置為在所述鉆石腰部的一半左右的位置;所述反射槽面的下緣以下為光面內(nèi)壁,且貼合所述鉆石腰部設(shè)置。

所述的鉆石基托裝置,其中,所述反射槽面在所述內(nèi)錐形壁上相對(duì)位置的壁線角度為120度。

所述的鉆石基托裝置,其中,所述本體底部設(shè)置為透光孔。

一種鉆石基托裝置實(shí)現(xiàn)方法,其特征在于,包括以下步驟:

A、在現(xiàn)有的錐形基托本體上沿其內(nèi)側(cè)壁,從頂面向內(nèi)向下,依預(yù)定角度切削形成反射槽面;

B、沿所述內(nèi)側(cè)壁依放射狀加工,形成分布的反射槽面。

所述的鉆石基托裝置實(shí)現(xiàn)方法,其中,所述預(yù)定角度設(shè)置為所述反射槽面在所述內(nèi)錐形壁上相對(duì)位置的壁線角度為120度。

所述的鉆石基托裝置實(shí)現(xiàn)方法,其中,所述本體底部設(shè)置為透光孔。

所述的鉆石基托裝置實(shí)現(xiàn)方法,其中,所述反射槽面部分配合所述鉆石腰部的位置為在所述鉆石腰部的一半左右的位置;所述反射槽面的下緣以下為光面內(nèi)壁,且貼合所述鉆石腰部設(shè)置。

本發(fā)明所提供的一種鉆石基托裝置及其實(shí)現(xiàn)方法,由于采用了在基托上設(shè)置的反射槽面,可以將反射光線從所述鉆石腰部向鉆石內(nèi)反射,從而增加了所承托鉆石的火彩效果。本發(fā)明所述實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)及方法也可以應(yīng)用于其他寶玉石的鑲嵌產(chǎn)品。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明所述鉆石基托裝置在裝配到戒指上時(shí)的爆炸示意圖。

圖2為本發(fā)明所述鉆石基托裝置在裝配到戒指上時(shí)的側(cè)面示意圖。

圖3為本發(fā)明所述鉆石基托裝置在裝配到戒指上時(shí)的俯視示意圖。

圖4為本發(fā)明所述鉆石基托裝置與鉆石的適配側(cè)面示意圖。

圖5為本發(fā)明所述鉆石基托裝置與鉆石配合的俯視示意圖。

圖6為本發(fā)明所述鉆石基托裝置與鉆石配合的剖視示意圖。

圖7為本發(fā)明所述鉆石基托裝置與鉆石分離的示意圖。

圖8為本發(fā)明所述鉆石基托裝置側(cè)面視圖。

圖9為本發(fā)明所述鉆石基托裝置俯視圖。

圖10為本發(fā)明所述鉆石基托裝置的立體示意圖。

圖11是本發(fā)明所述鉆石基托裝置的剖視示意圖。

具體實(shí)施方式

以下對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例加以詳細(xì)說(shuō)明。

本發(fā)明所述的鉆石基托裝置,相比現(xiàn)有技術(shù)的基托裝置,主要是在錐形體基托上改進(jìn),原有的錐形體基托通常設(shè)置為頂面為分布的三角棱形,內(nèi)側(cè)錐形壁為光環(huán)金屬面,并在底部設(shè)孔。本發(fā)明所述鉆石基托裝置100,如圖1所示,通常設(shè)置在戒指200上,作為戒指頭201上的鉆石固定基座。該鉆石基托裝置可以采用貴重金屬制成,在某些情況下,也可能采用其他材質(zhì),例如假冒貴重金屬的情況,采用本發(fā)明方案結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品都應(yīng)屬于侵權(quán)范圍之內(nèi)。此外,所述鉆石300也可以是其他珠寶玉石,例如藍(lán)寶石,紅寶石,只要是需要火彩增強(qiáng)的珠寶首飾,采用本發(fā)明的基托裝置結(jié)構(gòu)都應(yīng)屬于侵權(quán)。

本發(fā)明所述鉆石基托裝置100,如圖2和圖3所示,其上裝配有鉆石300,并通過(guò)外部棘爪301將鉆石固定在基托上面,所述棘爪301的結(jié)構(gòu)設(shè)置可以有多種,在此不再贅述。本發(fā)明所述鉆石基托裝置100,包括有底部具有錐形特點(diǎn)的本體,其錐形外側(cè)壁光滑可反光設(shè)置,并在本體的頂面上設(shè)置有分布的三角形棱面101,可以沿頂面分布,棱面的頂線朝向頂面圓心形成放射狀分布。在所述鉆石基托裝置100的內(nèi)側(cè)錐形面中也設(shè)置有光滑反射面,本發(fā)明的改進(jìn)之處在于將原有的裝配鉆石之內(nèi)側(cè)光滑錐形面與頂面之間設(shè)置有朝向中心的放射狀分布之反射槽面102,如圖6和圖7所示,該反射槽面的圍繞所述錐形內(nèi)壁的環(huán)形下緣直至錐底的內(nèi)側(cè)壁103都是貼合所述鉆石腰部的光滑反射面;為保證所述反射槽面102的光反射入射到鉆石300中,所述反射槽面102的上緣與所述本體的頂面交線須與所述鉆石300分離設(shè)置,從而保證在所述分布的反射槽面102與鉆石300之間保證一定的間隙,從而使得光線可以充分投射到所述反射槽面102上來(lái)。

所述反射槽面102的形成可以通過(guò)本發(fā)明實(shí)現(xiàn)方法實(shí)現(xiàn),其主要是在現(xiàn)有的錐形基托基礎(chǔ)上,通過(guò)切刀依照預(yù)定角度一次性切削成型,該切削需要沿著本發(fā)明所述鉆石基托裝置的頂面,斜向下切削掉所述鉆石基托裝置的內(nèi)側(cè)壁,從由切刀之間的切削間距保證分布形成放射狀的反射槽面102,該反射槽面102的較佳實(shí)施方式是采用圓弧的截面槽形,從而可以保證光線的反射出該槽形時(shí)能夠入射到鉆石的腰部302中,從而增加本發(fā)明所裝配鉆石的火彩效果。

本發(fā)明所述鉆石基托裝置的較佳實(shí)施例中,所述鉆石300與基托裝置100的配合方式如圖4和圖5,其中未示出棘爪的結(jié)構(gòu)但示出了配合棘爪的缺口部303,棘爪在不同的實(shí)現(xiàn)方式中是可以有變化的,例如本發(fā)明所述鉆石基托裝置可以用于鉆戒或吊墜或其他首飾中,通過(guò)固定和鑲嵌單顆鉆石,應(yīng)用到對(duì)應(yīng)的具體產(chǎn)品中。

本發(fā)明所述反射槽面102與所述鉆石腰部302的貼合位置設(shè)置在所述鉆石腰部側(cè)面的一半左右位置,除所述反射槽面102以外的光滑內(nèi)壁面103,其設(shè)置角度與所述鉆石的腰部302貼合,以便能夠更加牢靠地固定所述鉆石300,如圖8、圖9和圖10、圖11所示,所述光滑內(nèi)壁面103的相對(duì)側(cè)邊線之間的夾角,也即錐形角度為90度左右,與鉆石腰部錐形的角度大致匹配;而所述反射槽面的相對(duì)在所述內(nèi)錐形壁上的側(cè)線夾角為120度左右,這樣所述反射槽面102的上緣就會(huì)與鉆石300分離設(shè)置,從而方便光線的入射。

在發(fā)明所述鉆石基托裝置100的最外圈,設(shè)置為一圈用于擴(kuò)展視覺(jué)效果的下斜槽104,其特點(diǎn)是從所述用于反射的三角形棱面101的外緣向下形成垂壁,與該垂壁向外向下形成鈍角的下斜開(kāi)槽,即所述下斜槽104,該下斜槽的所述鈍角角度可以在100-135度之間,較佳的是125度,如圖11所示。該下斜槽104可以進(jìn)一步從側(cè)面形成加大基托層次感的效果,形成二次折射,增厚鉆石冠部以得到鉆石擴(kuò)大的視覺(jué)效果。

本發(fā)明所述鉆石基托裝置100的底部還設(shè)置有一孔部105,如圖8至圖10所示,該孔部105可以進(jìn)一步方便光線從底部的入射。底部入射的光線容易在鉆石的上側(cè)形成局部的火彩效果,而配合本發(fā)明基托裝置的反射槽面102,可以增加鉆石冠部周邊的火彩效果,從而能夠相互彌補(bǔ),形成更佳的火彩效果,比單純的中央光滑反射面要美麗閃耀的多。

而本發(fā)明所述鉆石基托裝置100的實(shí)現(xiàn)方法相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)并不復(fù)雜,其在現(xiàn)有的錐形基托本體上,通過(guò)切刀沿其內(nèi)側(cè)壁,從頂面向內(nèi)向下,朝向錐形內(nèi)壁的中心軸方向,與中心軸成預(yù)定的角度進(jìn)行切削形成反射槽面即可。該反射槽面沿所述內(nèi)側(cè)壁依放射狀分布,所述反射槽面下緣形成的環(huán)形線位置及以下是與鉆石腰部的外側(cè)壁進(jìn)行貼合設(shè)置的,因此,可以設(shè)置所述反射槽面的相對(duì)側(cè)線角度為120度左右,從而與現(xiàn)有技術(shù)原有的光滑內(nèi)側(cè)錐形壁面形成一定角度,使得在裝配鉆石后,底部的光滑內(nèi)側(cè)錐形壁面能夠更牢靠地固定鉆石;所述鉆石基托裝置底部的孔部105能夠從底部透光;所述反射槽面能夠從鉆石的側(cè)面即鉆石的冠部邊緣進(jìn)行光線透射,形成更好的火彩效果。

應(yīng)當(dāng)理解的是,對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),可以根據(jù)上述說(shuō)明加以改進(jìn)或變換,而所有這些改進(jìn)和變換都應(yīng)屬于本發(fā)明所附權(quán)利要求的保護(hù)范圍。

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