本發(fā)明涉及一種改進(jìn)的橢圓形鉆石，其在暴露于光線時(shí)產(chǎn)生八心八箭圖案，該八心八箭圖案的形狀更加嚴(yán)密地復(fù)制了理想打磨的圓形切割鉆石所產(chǎn)生的八心八箭。

背景技術(shù)：

假如圓形鉆石被切割成幾乎完美的圓形形狀，該圓形形狀具有相等且對(duì)稱地切割的面且其角部分在相對(duì)較窄的范圍內(nèi)被打磨，當(dāng)圓形切割鉆石暴露于光線時(shí)成功產(chǎn)生八心八箭圖案。不同于圓形的鉆石，橢圓形的鉆石根據(jù)定義具有帶有兩條長邊和兩條短邊的不對(duì)稱的幾何形狀。如美國專利第7,878,025號(hào)所示及所教導(dǎo)的那樣，申請(qǐng)人仍然能夠打磨橢圓形形狀的鉆石以在經(jīng)受光照時(shí)產(chǎn)生八心八箭圖案，該美國專利第7,878,025號(hào)的內(nèi)容通過引用被并入本文。在美國專利第7,878,025號(hào)所教導(dǎo)的產(chǎn)生于橢圓形形狀的鉆石中的八心八箭圖案模仿了產(chǎn)生于對(duì)稱圓形形狀鉆石中的八心八箭圖案。

已經(jīng)被發(fā)現(xiàn)的是，相比美國專利第7,878,025號(hào)中所產(chǎn)生的心形形狀，根據(jù)本發(fā)明，當(dāng)橢圓形鉆石被打磨成包括唯一的冠狀星形刻畫的構(gòu)造，并且該冠狀星形刻畫的構(gòu)造具有包含在橢圓形鉆石的兩個(gè)長邊和兩個(gè)短邊中的尺寸和幾何形狀相等的兩個(gè)刻面部的冠部星形刻面，以及具有包含在橢圓形鉆石的對(duì)角邊或肩部邊中的每個(gè)中的尺寸和幾何形狀不相等的兩個(gè)刻面部的冠部星形刻面時(shí)，產(chǎn)生于八心八箭圖案中的心形形狀可以在對(duì)稱性和美觀性上充分地提高。在優(yōu)選的實(shí)施方式中，在橢圓形鉆石的對(duì)角邊上的每個(gè)冠部星形刻面中的不相同的部分實(shí)質(zhì)上在尺寸和形狀上分別彼此相等。

本發(fā)明的改進(jìn)的橢圓形鉆石優(yōu)選地包括八個(gè)主冠部刻面和八個(gè)主亭部刻面，八個(gè)主冠部刻面中的每個(gè)都具有完美地平行的相對(duì)的主冠部刻面，并且八個(gè)主冠部刻面中的每個(gè)都與置于其上的主亭部刻面完美地對(duì)齊。無論是八個(gè)主冠部刻面還是八個(gè)主亭部刻面都不在鉆石的短邊或長邊上對(duì)齊。

同樣優(yōu)選的是，本發(fā)明的橢圓形鉆石打磨成使得八個(gè)主冠部刻面中沒有一個(gè)與橢圓形的形狀一致，并且事實(shí)上，鉆石應(yīng)被打磨成使得八個(gè)主冠部刻面中的四個(gè)(其至少部分地位于鉆石的短邊上)與橢圓形的形狀完全不一致，并且另外四個(gè)主冠部刻面(其至少部分地位于鉆石的長邊上)與橢圓形的形狀僅稍微不一致。此構(gòu)造導(dǎo)致在整個(gè)鉆石上高度不均勻的腰部厚度，即，在整個(gè)鉆石上腰部厚度廣泛地變化。然而，根據(jù)本發(fā)明，通過進(jìn)一步打磨本發(fā)明的橢圓形鉆石，使得其包括多個(gè)副亭部刻面(優(yōu)選地?cái)?shù)量為十二個(gè))，且所有的副亭部刻面對(duì)稱地位于鉆石的相對(duì)的亭部邊上，該相對(duì)的亭部邊在其對(duì)角肩部邊之間延伸，且沒有副亭部刻面位于鉆石的任何的短邊上，腰部厚度的變化程度被最小化。

而且，本發(fā)明的改進(jìn)的橢圓形鉆石包括16個(gè)冠部半部(半刻面)，并且優(yōu)選地，十六個(gè)冠部半部不會(huì)如同具有八個(gè)主冠部刻面和16個(gè)冠部半部的傳統(tǒng)橢圓形鉆石那樣在主冠部刻面上的中途位置處彼此相遇。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的橢圓形鉆石包括：橢圓形形狀，該橢圓形形狀具有被四個(gè)對(duì)角邊或肩部邊分開的兩個(gè)長邊和兩個(gè)短邊，并且進(jìn)一步包括八個(gè)主冠部刻面、八個(gè)主亭部刻面、16個(gè)冠部和亭部半部(半刻面)、多個(gè)副亭部刻面以及對(duì)稱構(gòu)造的冠部星形刻面(優(yōu)選地八個(gè))，其具有在鉆石的短邊上的兩個(gè)星形刻面、在鉆石的長邊上的兩個(gè)星形刻面以及在鉆石的對(duì)角邊或肩部邊上的四個(gè)星形刻面，該對(duì)稱構(gòu)造被布置成使得在鉆石的長邊和短邊上的每個(gè)冠部星形刻面包括尺寸和幾何形狀相等的兩個(gè)刻面部，并且鉆石的對(duì)角邊或肩部邊上的每個(gè)冠部星形刻面包括尺寸和幾何形狀不相等的兩個(gè)刻面部。在優(yōu)選的實(shí)施方式中，在橢圓形鉆石的對(duì)角邊上的每個(gè)冠部星形刻面中的不相同部在尺寸和形狀上彼此大致相等。

而且，在本發(fā)明的橢圓形鉆石的八個(gè)主冠部刻面的位置優(yōu)選地相對(duì)于鉆石的兩個(gè)長邊和兩個(gè)短邊偏置，使得八個(gè)主冠部刻面中的四個(gè)部分地位于或延伸進(jìn)入鉆石的短邊，造成這四個(gè)主冠部刻面與橢圓的形狀不一致，并且使得其他四個(gè)主冠刻面部地位于或延伸進(jìn)入鉆石的長邊，并且與橢圓的形狀僅稍微不一致。此外，本發(fā)明的橢圓形鉆石還包括多個(gè)副亭部刻面，優(yōu)選的十二個(gè)，所有 的副亭部刻面對(duì)稱地位于鉆石的相對(duì)的亭部邊上、該鉆石的亭部邊在鉆石的對(duì)角邊或肩部邊之間延伸，并且副亭部刻面位于鉆石的任一短邊上。

附圖說明

當(dāng)結(jié)合附圖閱讀本發(fā)明以下詳細(xì)的說明時(shí)，其他的優(yōu)點(diǎn)將變得顯而易見，其中：

圖1是示出本發(fā)明的初始打磨操作期間、從臺(tái)部刻面?zhèn)鹊谋景l(fā)明的橢圓形鉆石的放大頂視圖，其八個(gè)主刻面中的每個(gè)都具有一個(gè)直邊邊緣，該邊緣與相對(duì)的主冠部刻面的直邊邊緣平行；

圖2是從臺(tái)部刻面?zhèn)鹊谋景l(fā)明的完成的橢圓形鉆石的頂視圖，其示出本發(fā)明的冠部半刻面、主刻面以及唯一的冠部星形刻面構(gòu)造。

圖3是本發(fā)明的完成的橢圓形的鉆石的側(cè)輪廓視圖；以及

圖4是本發(fā)明的完成的橢圓形鉆石的底視圖，其示出鉆石的相對(duì)的亭部側(cè)上的副亭部刻面的構(gòu)造。

具體實(shí)施方式

鉆石是被用作為用于借助反射和折射散射光的棱鏡的晶體。傳統(tǒng)的橢圓形鉆石具有八個(gè)主冠部刻面、八個(gè)主亭部刻面和十六個(gè)亭部半刻面，它們根據(jù)它們?cè)跈E圓形狀上的位置在主亭部刻面和腰部之間以不同的角度被拋光。在傳統(tǒng)的橢圓形鉆石中，主亭部刻面和亭部半刻面被放置為符合鉆石的形狀和/或者輪廓，并且所選擇的角度使得腰部在整個(gè)鉆石上是一致的且厚度均勻的。

如圖1至4所示，本發(fā)明的橢圓形鉆石在如何切割橢圓形的鉆石方面忽略傳統(tǒng)的教導(dǎo)，并且也與美國專利7878025中所示的橢圓形鉆石不同，美國專利7878025的內(nèi)容通過引用被包含于此。在本發(fā)明的橢圓形鉆石中，并且如圖1更具體地所示的，最靠近鉆石的短邊的主冠部刻面M1、M2、M3和M4與橢圓形高度不重合，而四個(gè)主冠部刻面M5、M6、M7和M8僅與橢圓形狀略微不重合。八個(gè)主冠部刻面M1至M8中的每一個(gè)都具有一個(gè)直線側(cè)邊緣，直線邊緣與對(duì)面的主冠部刻面的直線側(cè)邊緣平行。例如，如圖1所示，主冠部刻面M2的邊緣A與主冠部刻面M4的邊緣B平行。而且，所有的八個(gè)主冠部刻面M1至M8的位置都相對(duì)于鉆石的兩條長邊和兩條短邊偏置，以便鉆石的每條長邊僅與主冠部刻面M5、M6以及M7和M8在鉆石的每條相對(duì)的邊上部分重 疊，并且每條短邊僅與主冠部刻面M1、M2以及M3和M4分別在鉆石的每條相對(duì)的短邊上的部分重疊。這導(dǎo)致了每個(gè)主冠部刻面M1、M2、M3和M4與鉆石的形狀大致不重合，并且與主冠部刻面M1、M2、M3和M4相比，其他的四個(gè)主冠部刻面M5、M6、M7和M8的每個(gè)都與鉆石的形狀略微不重合。

鉆石的對(duì)角邊或肩部邊分別位于鉆石的長邊和短邊之間，并且類似于美國專利7878025中的角邊。然而，與美國專利7878025不同，沒有一個(gè)主冠部刻面與鉆石的短邊或長邊一致。相反地，四個(gè)主冠部刻面M1、M2以及M3、M4在鉆石的每個(gè)相對(duì)側(cè)分別與短邊和對(duì)角邊或肩部邊部分重疊。另外，主冠部刻面M5、M6以及M7、M8在鉆石的每個(gè)相對(duì)側(cè)分別與長邊和對(duì)角邊或肩部邊部分重疊。

本發(fā)明的唯一的冠部星刻面布局需要每個(gè)冠部星刻面包括在橢圓形鉆石的兩條長邊和兩條短邊中的每條中的兩個(gè)同等尺寸和幾何形狀的刻面部，以及在橢圓形鉆石的四條對(duì)角邊或肩部邊的每條中的兩個(gè)不同尺寸和幾何形狀的刻面部。如圖2所示，兩個(gè)冠部星刻面C1和C2與鉆石的短邊對(duì)齊，并且分別包括兩個(gè)刻面部a、b和c、d，其中刻面部a、b、c和d的尺寸和幾何形狀相同。同樣地，兩個(gè)冠部刻面C3和C4與鉆石的長邊對(duì)齊，并且分別包括兩個(gè)刻面部e、f和g、h，其中刻面部e、f、g和h的尺寸和幾何形狀相同。在鉆石的對(duì)角邊或肩部邊上的四個(gè)冠部刻面C5、C6、C7和C8的尺寸和幾何形狀與在短邊和長邊上的冠部星刻面C1、C2、C3和C4的尺寸和形狀不相似。在相對(duì)的對(duì)角邊上的冠部星刻面C5和C6分別包括兩個(gè)刻面部i、j以及兩個(gè)刻面部k和l。同樣的，位于相對(duì)的對(duì)角邊上的冠部刻面C7和C8每個(gè)都分別具有兩個(gè)刻面部m、n和o、p。在鉆石的對(duì)角邊上的刻面部i、j、k和l以及刻面部m、n、o和p都具有相等的尺寸和幾何形狀，并且比在鉆石的短邊上的刻面部大致地更大。八個(gè)主冠部刻面M1至M8和冠部星刻面C1至C8圍繞桌刻面T。圖2還示出了具有十六個(gè)冠部半刻面的鉆石，十六個(gè)冠部半刻面分別具有附圖標(biāo)記MC1至MC16。十六個(gè)冠部半刻面在主冠部刻面上的中間點(diǎn)彼此不接觸。這確保了箭的形狀不會(huì)扭曲。

如圖4所示，本發(fā)明的橢圓形鉆石的亭部側(cè)包括八個(gè)主亭部刻面P1至P8、十六個(gè)亭部半刻面PHF1至PHF16以及十二個(gè)副亭部刻面PSF1至PSF12，其 中所有的副亭部刻面PSF1至PSF12對(duì)稱地位于鉆石的相對(duì)的亭部側(cè)上。沒有一個(gè)副亭部刻面PSF1至PSF12位于鉆石的任何一條短邊上，并且由此，沒有副亭部刻面接觸在鉆石的短邊上的亭部半刻面PHF1、PHF2和PH9、PH10。這導(dǎo)致了如圖3所示的腰部G在整個(gè)鉆石中的厚度均勻變化。

為了提供足夠的光線折射以產(chǎn)生八心八箭圖案的目的，以非常接近但略微不同的角度和深度來拋光主冠部和亭部刻面。

本發(fā)明的橢圓形鉆石包括下列刻面：

8 主冠部刻面

8 主亭部刻面

16 冠部半刻面

16 亭部半刻面

8 冠部星刻面

桌刻面

12 副亭部刻面

為了獲得八心八箭圖案，主亭部角度和主冠部角度必須在很窄的范圍內(nèi)被拋光。優(yōu)選地，主亭部角度應(yīng)該在40.5°至41.1°的范圍內(nèi)，并且主冠部角度在33.8°至35.2°之間被拋光。亭部半刻面應(yīng)該在42.0°至42.6°的角度范圍內(nèi)被拋光，其中在短邊上的亭部半刻面的深度分別比在長邊和角邊上的深度更大。

為了在橢圓形鉆石中產(chǎn)生最優(yōu)的八心八箭圖案，鉆石應(yīng)該被切割以滿足在下面的表Ⅱ中所列的最優(yōu)參數(shù)：

表Ⅱ

亭部半部高度(測(cè)量的從鉆石的腰部到底尖點(diǎn)的距離)應(yīng)在下列范圍中：71.5％-78.8％。

冠部星角度范圍：比主冠部刻面角度更平7.6°–12.8°，冠部星刻面彼此不接觸。

冠部半部：根據(jù)它們的位置比主冠部刻面角度更陡3.2°–8.2°。

腰部厚度：1％–7.5％

底尖必須被拋光在完美地中心的點(diǎn)中：允許0.8％的容差。

除了實(shí)現(xiàn)八心八箭圖案的上述參數(shù)，更優(yōu)的美觀的鉆石刻面應(yīng)該被切割以滿足下面的表Ⅲ中的標(biāo)準(zhǔn)：

表Ⅲ

彼此45°地拋光八個(gè)主亭部刻面；在長邊上的兩個(gè)主亭部刻面在40.9°至41.2°，在對(duì)角邊上的四個(gè)主亭部刻面在40.6°至40.9°，并且在短邊上的兩個(gè)主亭部刻面在40.4至40.7°；

以65°至73°的角度拋光副亭部刻面；

十六個(gè)亭部半部的拋光：亭部半部必須在42.0°至42.6°的角度范圍被拋光。在短邊上的亭部半刻面在相對(duì)地靠近底尖的點(diǎn)彼此相交，在對(duì)角邊上的亭部半刻面也在某點(diǎn)相交，并且在長邊上的亭部半刻面在相對(duì)靠近底尖的點(diǎn)彼此相交，其中亭部半部相交的每個(gè)點(diǎn)與底尖間隔相同的距離；

十六個(gè)冠部半部比根據(jù)其位置的主亭部刻面更陡3.8°至82°地拋光。