本發(fā)明涉及一種蒸汽理發(fā)設(shè)備，所述蒸汽理發(fā)設(shè)備包括通過蒸汽處理的便攜處理單元，所述便攜處理單元被設(shè)置用于通過噴霧處理頭發(fā)以便實現(xiàn)其成型。除了用噴霧處理頭發(fā)，該理發(fā)設(shè)備的便攜處理單元通常被配置用于加熱頭發(fā)以便使其成型。這種理發(fā)設(shè)備允許例如根據(jù)其配置實現(xiàn)頭發(fā)的拉直、打卷或波浪(gaufrage)。

背景技術(shù)：

已知允許處理頭發(fā)以便實現(xiàn)頭發(fā)的拉直，打卷或波浪的不同理發(fā)設(shè)備。這些理發(fā)設(shè)備包括尤其由兩個臂或頰板構(gòu)成的便攜處理單元，所述兩個臂或頰板各自包括可為平坦的或彎曲的表面。所述兩個臂彼此鉸接以便形成夾鉗，所述夾鉗被配置用于當兩個臂靠近時，在兩個相對設(shè)置的表面之間夾緊頭發(fā)。這兩個臂還包括允許打開和閉合夾鉗并且在理發(fā)時操作夾鉗的握持區(qū)域。這兩個表面中的至少一個表面包括加熱裝置，所述加熱裝置允許在所述兩個表面夾緊時對頭發(fā)進行熱處理。發(fā)綹的拉直通過在兩個表面之間夾緊發(fā)綹并且沿該發(fā)綹從發(fā)根朝向發(fā)梢移動閉合的夾鉗而實現(xiàn)。發(fā)綹的打卷通過在兩個表面之間夾緊發(fā)綹并且圍繞所述表面至少部分地纏繞該發(fā)綹而實現(xiàn)，熱量允許固定發(fā)卷。

為了改善發(fā)綹的成型，已知使用蒸汽處理作為熱處理的補充，蒸汽被朝向頭發(fā)噴射或擴散。這種理發(fā)設(shè)備的不同的實施例在文獻JP2000157322A，EP1396207A1，EP1515628B1，EP1515629B1，EP1516554B1，F(xiàn)R2967017A1中被描述。根據(jù)這些不同的實施例，除了理發(fā)設(shè)備上述的且已知的特征之外，便攜處理單元包括蒸汽噴射機構(gòu)，所述蒸汽噴射機構(gòu)被配置用于從所述兩個表面中的第一表面朝向所述兩個表面中的第二表面噴射蒸汽。在文獻EP1396207A1和EP1516554B1中，便攜處理單元包括蒸汽抽吸機構(gòu)，所述蒸汽抽吸機構(gòu)布置在所述第二表面上以便在蒸汽穿過發(fā)綹后，排出從所述第一表面噴射的蒸汽。在文獻EP1515628B1和EP1515629B1中，在一個實施變型例中，蒸汽的噴射機構(gòu)被配置用于在兩個相對設(shè)置的表面夾緊時，從所述兩個相對設(shè)置的表面噴射蒸汽。在由本申請人提交的專利申請FR2967017A1中，所述蒸發(fā)機構(gòu)的最優(yōu)化的設(shè)計允許約為3到4g/min的蒸汽流量，這高于提供小于2g/min的蒸汽流量的其他理發(fā)設(shè)備的設(shè)計，這允許在蒸汽處理過程中，在被夾緊的發(fā)綹的整個寬度上提供均勻的蒸汽，并且允許當便攜處理單元沿該發(fā)綹移動時，快速地通過蒸汽處理所述發(fā)綹。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于實施一種理發(fā)設(shè)備，所述理發(fā)設(shè)備具有與文獻FR2967017A1中所述的理發(fā)設(shè)備的性能類似的性能，且同時具有更小的體積，例如通過減少理發(fā)設(shè)備的寬度和/或例如減小理發(fā)設(shè)備的高度而實現(xiàn)。

本發(fā)明的目的在于實施一種理發(fā)設(shè)備，所述理發(fā)設(shè)備具有與文獻FR2967017A1中所述的理發(fā)設(shè)備的性能類似的性能，然而同時使用更低的蒸汽流量。

本發(fā)明的目的在于實施一種理發(fā)設(shè)備，所述理發(fā)設(shè)備具有與文獻FR2967017A1中所述的理發(fā)設(shè)備的性能類似的性能，且同時簡化其設(shè)計。

本發(fā)明的目的在于實施一種理發(fā)設(shè)備，所述理發(fā)設(shè)備具有與文獻FR2967017A1中所述的理發(fā)設(shè)備的性能類似的性能，且同時降低其制造成本。

本發(fā)明的目的在于實施一種理發(fā)設(shè)備，所述理發(fā)設(shè)備具有與文獻FR2967017A1中所述的理發(fā)設(shè)備的性能類似的性能，且同時減少被用于蒸發(fā)的液體的體積。

因此，本發(fā)明涉及一種理發(fā)設(shè)備，所述理發(fā)設(shè)備包括配備有兩個臂的便攜處理單元，所述兩個臂被配置用于形成配備有兩個相對設(shè)置的表面的夾鉗，所述兩個表面同時允許發(fā)綹的夾緊。所述便攜處理單元包括蒸汽擴散機構(gòu)，所述蒸汽擴散機構(gòu)被配置用于從所述兩個表面中的第一表面朝向所述兩個表面中的第二表面擴散蒸汽。值得注意地，所述理發(fā)設(shè)備包括在彼此貼靠的所述兩個表面之間用于封閉擴散的蒸汽的封閉機構(gòu)。這些封閉機構(gòu)允許將均勻的分布的與發(fā)綹接觸的一定量的蒸汽保存在設(shè)置在夾緊所述發(fā)綹的兩個表面之間的封閉空間中，以便有利于通過蒸汽的處理。在蒸汽的流量的作用下導(dǎo)致蒸汽排出之前，該蒸汽在封閉空間中停留一段時間。所述蒸汽的封閉允許有利地減少便攜處理單元的蒸發(fā)機構(gòu)的蒸汽流量。蒸汽被擴散機構(gòu)或還被噴射機構(gòu)引導(dǎo)且流動，事實上流動可在不具有過壓或具有過壓的情況下實現(xiàn)。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備，所述蒸汽的封閉機構(gòu)包括布置在所述兩個表面中的第二表面中且在所述擴散機構(gòu)的對面的溝槽。因此，蒸汽穿過發(fā)綹并且被保持封閉在所述溝槽中。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備的該實施方式，所述溝槽通到所述第二表面的兩個縱向邊中的至少一個縱向邊上，以便允許在保持該蒸汽封閉在所述溝槽中之后，該蒸汽在從擴散機構(gòu)中的排出的蒸汽流量的作用下的排出。在封閉空間中的蒸汽因此被更新。這允許在封閉空間中保持蒸汽的壓力，該壓力可大致是恒定的。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備的該實施方式，所述溝槽具有介于2mm和6mm之間、優(yōu)選為2.5mm的寬度，和介于0.5mm和2mm之間、優(yōu)選等于1mm的深度。這些尺寸允許封閉空間的最優(yōu)化，以便保持更新的蒸汽與發(fā)綹的寬度充分接觸以便處理發(fā)綹。此外，所述溝槽具有介于20mm和220mm之間、優(yōu)選等于90mm的長度，以便對于介于0.5g/min和2g/min之間，優(yōu)選介于0.9g/min和1.2g/min之間的減小的蒸汽流量而最優(yōu)化封閉空間的容積。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備，所述第一表面包括配備有底部的凹槽，所述蒸汽擴散機構(gòu)被布置用于從所述底部擴散蒸汽，蒸汽的所述封閉機構(gòu)包括凹槽，所述凹槽作為布置在兩個表面中的第二表面中的所述溝槽的補充甚至替換。

當根據(jù)本發(fā)明的所述理發(fā)設(shè)備同時包括諸如上述的溝槽和凹槽時，所述溝槽布置在所述凹槽的對面。此外，所述溝槽和所述凹槽優(yōu)選地具有大致相同的容積。

在根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備的一種實施變型例中，所述理發(fā)設(shè)備配備有諸如上述的溝槽，所述第一表面包括各自配備有底部的兩個相鄰的凹槽，所述擴散機構(gòu)被設(shè)置用于從所述兩個底部中的至少一個底部開始擴散蒸汽。此外，所述溝槽布置在所述兩個凹槽的對面。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備，所述至少一個凹槽通到所述第一表面的兩個縱向邊中的至少一個縱向邊上，這允許在將蒸汽擴散且保持在封閉空間中之后使蒸汽排出。

在根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備的一個實施方式中，所述蒸汽擴散機構(gòu)包括多個擴散孔，所述多個擴散孔布置在所述至少一個凹槽的底部的長度上。在一個實施變型例中，這些蒸汽擴散機構(gòu)包括布置在所述至少一個凹槽的底部的長度上的擴散縫隙。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備的一個實施方式，網(wǎng)布置在第一表面上的所述至少一個凹槽的上方。這有助于在發(fā)綹上更好地分布蒸汽。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備的另一個實施方式，所述理發(fā)設(shè)備配備有唯一的凹槽，所述凹槽具有彎曲的形狀。此外，所述溝槽包括具有與所述彎曲的凹槽互補的形狀的凸起的網(wǎng)。這有助于更好地在發(fā)綹上分配蒸汽，同時在夾住所述發(fā)綹的便攜處理單元移動時拉抻發(fā)綹。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備的另一個實施方式，所述理發(fā)設(shè)備包括凹槽和溝槽，所述凹槽和所述溝槽具有圓形的形狀，以便在夾鉗處于閉合位置時形成圓柱體。此外，所述理發(fā)設(shè)備包括鉆孔的滾筒，所述鉆孔的滾筒旋轉(zhuǎn)地安裝在所述圓柱體的內(nèi)部。這允許在由所述圓柱體構(gòu)成的封閉空間中分布蒸汽，所述滾筒的旋轉(zhuǎn)在便攜處理單元沿該發(fā)綹移動時避免拉抻發(fā)綹。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備，所述蒸汽的封閉機構(gòu)在所述表面上偏心。需要理解的是，所述封閉機構(gòu)不在表面的中央，而在所述表面的上游或下游處。更確切地，所述封閉機構(gòu)可具有在所述處理表面上偏心的封閉系統(tǒng)的形式，例如具有至少由溝槽形成的唯一的組件的形式，溝槽在處理表面上或拉直板上相對于垂直地穿過所述處理表面或拉直板的中平面而偏心。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備，所述兩個表面各自配備有加熱板，所述加熱板相對地設(shè)置并且同時允許發(fā)綹的夾緊。這允許在蒸汽處理的同時實現(xiàn)發(fā)綹的熱處理。

優(yōu)選地，根據(jù)具有兩個加熱板的理發(fā)設(shè)備的該實施例，所述蒸汽的封閉機構(gòu)布置在所述兩個加熱板之間。這具有的優(yōu)點是加熱存在于封閉空間中的蒸汽。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備的該優(yōu)選的實施方式，所述蒸汽的封閉機構(gòu)在設(shè)置在所述加熱板的下游的部分上偏心，這允許當便攜處理單元沿所述發(fā)綹移動時，在通過加熱處理發(fā)綹之前通過蒸汽處理發(fā)綹。優(yōu)選地，所述封閉機構(gòu)的中線與所述加熱板的下游邊相距距離d1，所述距離d1和所述加熱板的寬度l1的比介于0.1和0.4之間。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備，梳布置在所述表面中的一個表面的下游。這允許在蒸汽處理發(fā)綹之前，梳理發(fā)綹并且使發(fā)綹通氣，因此有利于蒸汽在頭發(fā)之間通過。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備，所述理發(fā)設(shè)備包括蒸汽擋板，所述蒸汽擋板被配置用于阻擋從所述封閉機構(gòu)朝向所述夾鉗的近端部分排出的蒸汽，所述近端部分被配置用于操作所述便攜處理單元。因此保護操作便攜處理單元的手，使其不受到蒸汽的燙傷。

根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備，所述蒸汽擴散機構(gòu)被配置用于具有介于0.5g/min和2g/min之間，優(yōu)選介于0.9g/min和1.2g/min之間的蒸汽流量。這允許在所述便攜處理單元上使用傳統(tǒng)的甚至新型的蒸發(fā)機構(gòu)，與在文獻FR2967017A1中描述的蒸發(fā)機構(gòu)相比，所述蒸發(fā)機構(gòu)具有更小的體積和簡化的設(shè)計。

附圖說明

不同的實施變型例的下面的描述示出根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備的特征和優(yōu)點。該描述參考附圖，在附圖中：

-圖1示出根據(jù)本發(fā)明的蒸汽拉直器類型的理發(fā)設(shè)備；

-圖2和圖3示出諸如布置在便攜處理單元的兩個臂上的兩個加熱板，其分別處于夾鉗的夾緊位置和打開位置；

-圖4示出根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備，其示出蒸汽擋板的存在；

-圖5示出配備有具有蒸汽擴散機構(gòu)的兩個相鄰的凹槽的加熱板；

-圖6示出配備有凹槽的加熱板，所述凹槽裝配有鉆孔的網(wǎng)；

-圖7示出處于夾緊位置的兩個加熱板，并且示出凹槽的彎曲的形狀和在溝槽上的凸起且鉆孔的網(wǎng)；

-圖8示出處于夾緊位置的兩個加熱板，并且示出由凹槽和溝槽構(gòu)成的圓柱體形狀，且具有在所述圓柱體中的鉆孔的滾筒；

-圖9，10，11，12示出封閉機構(gòu)的實施方式的其他替換例。

具體實施方式

在下文的描述中，相同的標號用于指代參考圖1至圖12描述的根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備的設(shè)計的不同的變型例的相同的或相似的特征。

如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備1是頭發(fā)拉直器。所述理發(fā)設(shè)備包括便攜處理單元2。該便攜處理單元2通過連接電纜8被供電。便攜處理單元2包括兩個臂3，4，也被稱為頰板，其借助于樞轉(zhuǎn)連接件21而彼此鉸接，這允許構(gòu)成夾鉗。

兩個臂3，4各自包括近端部分3a，4a。這兩個近端部分3a，4a可同時被一只手握持，這允許便攜處理單元2的操作和當所述兩個近端部分3a，4a被夾緊時閉合夾鉗。

兩個臂3，4在其內(nèi)面上和在其遠端部分3b，4b處分別包括表面5，6，所述表面5，6同時允許夾緊發(fā)綹。根據(jù)圖1所示的實施方式，所述表面5，6是平坦的，其具有兩個加熱板17，18的形式。當夾鉗閉合時，所述相對設(shè)置的加熱板17，18彼此接觸，這允許所述夾緊。

在一個實施方式中，關(guān)于加熱板17，18的加熱機構(gòu)(未示出)的實施方式，根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備1的便攜處理單元2可采用與由本申請人提交的專利申請FR2967017A1中描述的便攜處理單元相似的技術(shù)特征。因此，加熱板17，18的加熱機構(gòu)各自包括加熱裝置(未示出)和加熱裝置的溫度測量裝置(未示出)，所述加熱裝置由具有正溫度系數(shù)、被稱為PTC的熱敏電阻構(gòu)成，所述溫度測量裝置由由具有負溫度系數(shù)、被稱為NTC的熱敏電阻構(gòu)成。對于加熱板17，18中的每個加熱板17，18，這些加熱裝置和測量裝置將布置在每個臂3，4上的容腔區(qū)域22，23中。所述加熱板17，18的這種加熱機構(gòu)的特征被本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知，所述特征將不詳細說明。在不超出本發(fā)明的范圍的情況下，對于加熱板17，18的這些加熱機構(gòu)，本領(lǐng)域技術(shù)人員甚至創(chuàng)新者已知的變型例也可考慮。此外，表面5，6的形狀的變型例是可考慮的?？捎绕鋵嵤澢谋砻?，正如尤其在允許頭發(fā)的卷曲的所述理發(fā)設(shè)備上實施所述彎曲的表面，甚至可實施波浪形的表面，正如尤其在允許頭發(fā)的波浪的理發(fā)設(shè)備上實施所述波浪形的表面。此外，可考慮便攜處理單元2的實施變型例，其中兩個表面5或6中僅一個表面是加熱的，另一個表面僅有助于發(fā)綹的夾緊以便使其成型。

所述理發(fā)設(shè)備1的便攜處理單元2還包括將蒸汽從第一表面5朝向第二表面6噴射或擴散的蒸汽噴射或擴散機構(gòu)7。如圖1至3所示，第一臂3包括配備有底部11的凹槽10，所述孔12布置在底部11中，所述孔12允許當夾鉗閉合時朝向第二臂4的方向噴射或擴散蒸汽。第一臂3在其遠端部分3b處還包括蒸發(fā)室(未示出)，所述蒸發(fā)室允許蒸汽的產(chǎn)生和該蒸汽穿過孔12的噴射或擴散。在一個實施方式中，關(guān)于蒸發(fā)室的實施方式，根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備1的便攜處理單元2可采用與由本申請人提交的專利申請FR2967017A1中的描述的便攜處理單元相似的技術(shù)特征。因此，該蒸發(fā)室尤其包括由具有正溫度系數(shù)、被稱為PTC的熱敏電阻構(gòu)成的加熱裝置(未示出)和加熱裝置的溫度測量裝置(未示出)，所述溫度測量裝置由具有負溫度系數(shù)、被稱為NTC的熱敏電阻構(gòu)成。這些加熱裝置和測量裝置布置在圖2所示的第二容腔區(qū)域24中，在第一容腔區(qū)域22的下方。在不超出本發(fā)明的范圍的情況下，對于該蒸發(fā)室，本領(lǐng)域技術(shù)人員或創(chuàng)新者已知的變型例也可考慮。優(yōu)選地，直徑為1.2mm的八個孔12布置在凹槽10的底部11中。此外，蒸汽噴射或擴散機構(gòu)被配置用于以介于0.5g/min和2g/min之間、優(yōu)選介于0.9g/min和1.2g/min之間的流量噴射或擴散蒸汽。本領(lǐng)域技術(shù)人員可對蒸汽噴射機構(gòu)或擴散機構(gòu)定尺寸，以便獲得這種流量。然而，介于0.5g/min和5g/min之間的流量、例如大致等于4g/min的流量對于比在文獻FR2967017A1中描述的能夠產(chǎn)生相同的流量的理發(fā)設(shè)備的體積更小的理發(fā)設(shè)備是可能的。

本領(lǐng)域技術(shù)人員所知的其他特征也在根據(jù)本發(fā)明的理發(fā)設(shè)備1上所使用。便攜處理單元2尤其包括電子卡(未示出)，所述電子卡被配置用于管理蒸發(fā)室和兩個加熱板17，18的啟動。該電子卡布置在兩個臂3，4中的一個臂的內(nèi)部，例如在第一臂3的近端部分3a中。便攜處理單元2包括如圖1所示的被稱為ILS的具有撓性薄片的開關(guān)類型的磁傳感器25，所述磁傳感器允許檢測夾鉗的閉合位置，在該閉合位置中，所述兩個表面5，6彼此靠近并且夾緊發(fā)綹。在一個變型例中，可將具有撓性薄片的開關(guān)更換成被稱為MRS的磁阻傳感器。

如圖1至圖3所示，凹槽10在第一加熱板17的下游部分17a(或第一表面5，不必為加熱表面)中實施，所述下游部分指相對于如圖2中箭頭26所示的便攜處理單元2從發(fā)根朝向發(fā)梢移動的方向所處的下游位置。這允許在熱處理(或通過不被迫加熱的夾緊處理)之前通過蒸汽處理發(fā)綹。凹槽10優(yōu)選地在其兩個端部處通到第一表面5的縱向邊5a，5b上。然而可設(shè)計變型例，根據(jù)該變型例，所述凹槽10僅通向縱向邊5a，5b中的一個縱向邊上。如圖2所示，凹槽10的中線27與第一加熱板17的下游側(cè)邊29相距距離為d1地定位。該距離d1相對于該加熱板17的寬度l1的比優(yōu)選地介于0.1和0.4之間。例如，板的寬度等于28.9mm并且距離d1等于6.25mm，對應(yīng)于0.22的比值。

如圖1至圖3所示，溝槽9布置在第二加熱板18的下游部分18a中、在凹槽10的對面。根據(jù)該實施方式，溝槽9和凹槽10具有大致相同的形狀和容積。溝槽或溝槽和凹槽整體允許形成擴散的蒸汽的封閉機構(gòu)。如同凹槽10，溝槽9在其兩個端部處通到第二表面6的縱向邊6a，6b上。溝槽9和凹槽10被定尺寸以便同時構(gòu)成蒸汽的封閉空間28，所述蒸汽從孔12流出。在使該蒸汽由于通過孔12循環(huán)的蒸汽的更新而通過溝槽9和凹槽10的端部排出之前，該封閉空間28允許圍繞在兩個表面5，6之間夾緊的發(fā)綹而包含蒸汽。蒸汽的封閉有助于發(fā)綹的蒸汽處理，同時使用減小的蒸汽流量，其優(yōu)選介于0.9g/min和1.2g/min之間，同時確保便攜處理單元2沿發(fā)綹的或快或慢的移動。此外，在兩個加熱板17，18之間的封閉空間28的實施允許有利地加熱封閉在所述空間中的蒸汽。為了實施該封閉空間28，優(yōu)選地選擇介于2mm和6mm之間、優(yōu)選為2.5mm的凹槽10的寬度，介于0.5mm和2mm之間，優(yōu)選為1mm的凹槽10的深度。此外，凹槽10的容積優(yōu)選介于200mm³和275mm³之間，優(yōu)選為225mm³。凹槽10的長度優(yōu)選地介于20mm和220mm之間，優(yōu)選為90mm。溝槽9的尺寸和容積優(yōu)選地相似，這允許獲得介于400mm³和550mm³之間、優(yōu)選為450mm³的封閉空間28的容積。

如圖4所示，便攜處理單元2包括布置在第一臂3上、在第一表面5的近端縱向邊5a處的蒸汽擋板20。該蒸汽擋板20允許防止從封閉空間28排出的蒸汽進入到便攜處理單元2的握持區(qū)域中，所述握持區(qū)域由兩個臂3，4的近端部分3a，4a構(gòu)成。

圖5示出在第一表面5上的蒸汽噴射或擴散機構(gòu)7的實施變型例。這些蒸汽噴射或擴散機構(gòu)7包括設(shè)計與圖1至圖3所示的凹槽類似的兩個相鄰的凹槽10，10’，所述兩個相鄰的凹槽10，10’布置在第一加熱板17的下游部分17a上。每個凹槽10，10’包括布置在所述凹槽10，10’的底部11，11’中的孔12，12’，蒸汽通過所述孔12，12’而噴射，擴散，傳輸。根據(jù)該實施方式，布置在第二加熱板18上的溝槽9具有對應(yīng)于兩個凹槽10，10’的總寬度的寬度。蒸汽量還介于0.5g/min和2g/min之間，優(yōu)選介于0.9g/min和1.2g/min之間。封閉空間的容積在該情況下由溝槽9和凹槽10，10’的容積構(gòu)成。該容積在圖1至圖3所示的實施方式的封閉空間28的容積的兩倍的值的范圍中。實際上，將上述實施方式的蒸汽槽道或溝槽翻倍導(dǎo)致蒸汽順著兩個槽道傳輸并且發(fā)綹被蒸汽處理兩次。所述槽道可在一個或多個表面的端部中的一個端部處流體循環(huán)。在通過完整的U形槽道的平行槽道的蒸汽循環(huán)的該配置中，一個替換例為，蒸汽的輸出孔僅在槽道(未示出)中的一個槽道上存在。

在圖6中，蒸汽噴射或擴散機構(gòu)7與圖1至3的蒸汽噴射或擴散機構(gòu)7類似。此外，網(wǎng)13布置在凹槽10的上方，這有利于產(chǎn)生的且移動的蒸汽在與圖1至圖3中所述的封閉空間28類似的封閉空間28中的均勻分布。這種網(wǎng)13可在圖5所示的實施方式的每個凹槽10，10’上被實施。

根據(jù)圖7所示的實施方式，凹槽10包括彎曲的形狀。所述溝槽9包括與彎曲的凹槽10的形狀互補的凸起的網(wǎng)14。該凸起的網(wǎng)允許在封閉空間28中以均勻的方式分布蒸汽，并且當便攜處理單元2移動時拉抻發(fā)綹。封閉空間28的容積處于與在圖1至圖3所示的實施方式的容積相似的值的范圍中。

如圖8所示，凹槽10和溝槽9是圓形的并且當夾鉗閉合時限定圓柱體15，所述圓柱體15限定封閉空間28。此外，鉆孔的滾筒16沿圓柱體15的內(nèi)部的軸X旋轉(zhuǎn)地布置。該鉆孔的滾筒16可被電動化。圓柱體15的容積處于與在圖1至圖3的實施方式的封閉空間28的容積類似的值的范圍內(nèi)。

圖9、圖10、圖11、圖12各自示出圖2的封閉機構(gòu)的實施方式的替換例，但可單獨地或組合地應(yīng)用在所有描述的實施方式上。這些實施方式的共同點在于一個或兩個特殊參考零件30，30a，所述參考零件中的一個或每個參考零件插入到布置在一個或多個加熱板中的一個或兩個空間(也被稱為槽)中。插入到所述板中的這種零件至少部分地限定封閉機構(gòu)的周邊。該零件或這些零件允許對于封閉的蒸汽處理而導(dǎo)入額外的功能。

因此，圖9示出具有一個或兩個由玻璃實現(xiàn)的零件的空間的實施方式，所述零件分別插入到被布置大于加熱板的最終的溝槽的空間的空間中。所述一個或多個溝槽在一個或兩個由玻璃實現(xiàn)的零件中形成。所述一個或多個由玻璃實現(xiàn)的零件可由一個或多個發(fā)光二極管(LED)照明以便形成封閉溝槽的每個邊上的發(fā)光小擋塊。

圖10示出變型例，其中蒸汽被來自蒸發(fā)室的兩個蒸汽引導(dǎo)槽道31，31a導(dǎo)入。為此，特殊零件插入到布置在板的處理表面上的更大的空間中。該零件允許使通過來自蒸發(fā)室的槽道而到達的蒸汽改變方向。

圖11示出一種替換例，其中一個或多個特殊零件是由鋁制成的，并且例如上漆，例如滑動地進入到布置的空間中。固定可通過燕尾榫接合實現(xiàn)?？稍O(shè)想通過替換所述一個或多個特殊零件而更改所述一個或多個溝槽的尺寸。

最后，圖12示出一個替換例，其中一個或多個特殊零件30，30a由硅樹脂實現(xiàn)。有利地，且根據(jù)所示，所述硅樹脂實現(xiàn)的零件30，30a可在其就位時，凸起超過加熱板17的表面，以便因此產(chǎn)生在溝槽側(cè)的頭發(fā)的壓力區(qū)域32或拉抻區(qū)域32，從而允許更好的拉直且對發(fā)綹的保護更好。

如圖1所示，梳19布置在第一臂3上的第一表面5的下游。該梳19允許在發(fā)綹通過兩個表面5，6之間之前梳理發(fā)綹并且使發(fā)綹通氣。

在本發(fā)明的范圍內(nèi)，其他實施變型例是可考慮的?？捎绕湓O(shè)置僅由在第二表面6上的溝槽9的容積構(gòu)成的封閉空間，或僅由在第一表面5上包含擴散或噴射蒸汽的孔12的凹槽10的容積構(gòu)成的封閉空間。在該情況下，可對所述溝槽9或凹槽10的容積定尺寸，以便構(gòu)成所述蒸汽的封閉。

還可與加熱板17，18分開地在表面5，6上設(shè)置封閉機構(gòu)和蒸汽噴射或擴散機構(gòu)7，所述封閉機構(gòu)和所述蒸汽噴射或擴散機構(gòu)7設(shè)置在所述加熱板17，18的下游。

根據(jù)上述不同的實施變型例，可另外將蒸汽的擴散或噴射孔12用布置在凹槽10，10’的底部11，11’中的蒸汽的擴散或噴射縫隙替換，同時保存介于0.5g/min和2g/min之間，優(yōu)選介于0.9g/min和1.2g/min之間的蒸汽流量。

根據(jù)上述不同的實施變型例，可添加被嵌入的離子發(fā)生器，所述離子發(fā)生器用于將離子帶入到蒸汽封閉機構(gòu)中以便消除靜電。