一種可重復利用的防水防霾抗菌口罩的制作方法
【專利摘要】本實用新型包括口罩本體和耳朵掛勾部，口罩本體兩側表面覆蓋有PECVD方法制備的納米涂層,本實用新型的有益效果:由于口罩本體表面覆蓋了連續(xù)致密的防水疏油納米涂層,配戴后，水分子接觸口罩表面，會從納米涂層上自動滑落,無法殘留,口罩始終保持較干燥的表面環(huán)境，抑制了細菌的產生，起到了防水和抗菌的效果，另外由于納米涂層的特性，空氣中的霾顆粒也無法通過，起到了防霾的作用。當表面弄臟后，也可以用清水對表面污物進行清洗，因為納米涂層的低表面能特性，污物很容易被沖走，故而口罩可以重復利用，節(jié)省了資源且不會因隨意丟棄而污染環(huán)境。
【專利說明】一種可重復利用的防水防霾抗菌口罩

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種口罩，尤其涉及一種可重復利用的防水防霾抗菌口罩。

【背景技術】
[0002]目前市面上的口罩都是結構簡單的無紡布組成，在使用過程中口水容易累積在口罩上，進而產生細菌，配戴一段時間后即丟棄，一次性使用，浪費資源且容易對環(huán)境造成污染，并且由于無紡布的網孔過大，對空氣中霧霾顆粒阻擋作用很小。
實用新型內容
[0003]本實用新型針對目前口罩上述之不足，提供了一種可重復利用的防水防霾抗菌口罩，本實用新型包括口罩本體和耳朵掛勾部，口罩本體兩側表面覆蓋有PECVD方法制備的納米涂層，口罩本體含有至少三層無紡布，其中兩外側為外包無紡布，中間為過濾無紡布，納米納層為氟碳聚合物，納米納層的厚度在5-30nm，所述的PECVD方法即等離子體增強化學氣相沉積法，是以氟碳化合物為工作氣體，在PECVD鍍膜設備對口罩本體進行表面處理得到的。
[0004]優(yōu)選的，可以對構成口罩本體的每層無紡布都進行等離子體覆膜。
[0005]本實用新型的有益效果:由于口罩本體表面覆蓋了連續(xù)致密的防水疏油納米涂層，配戴后，水分子接觸口罩表面，會從納米涂層上自動滑落，無法殘留，口罩始終保持較干燥的表面環(huán)境，抑制了細菌的產生，起到了防水和抗菌的效果，另外由于納米涂層的特性，空氣中的霾顆粒也無法通過，起到了防霾的作用。當表面弄臟后，也可以用清水對表面污物進行清洗，因為納米涂層的低表面能特性，污物很容易被沖走，故而口罩可以重復利用，節(jié)省了資源且不會因隨意丟棄而污染環(huán)境。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0006]圖1為本實用新型的結構示意圖。
[0007]圖2為本實用新型口罩本體I和納米涂層3的剖面結構示意圖。
[0008]【具體實施方式】:
[0009]本實用新型包括口罩本體1，耳朵掛勾部2和納米涂層3，口罩本體I優(yōu)選為三層紡織物，兩側為外包無紡布4，中間為過濾無紡布5，所述納米涂層3是以氟碳化合物為工作氣體，用等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD)對口罩本體I表面處理得到的，納米涂層3為氟碳聚合物，納米涂層3的厚度優(yōu)選為20nm，由于納米涂層3的防水透氣特性，配戴后，呼吸系統(tǒng)吸進和排出的氣體分子可以通過口罩，而氣流中的水分子直徑大于納米涂層3的間隔而無法通過，碰到納米涂層后會自動滑落，于是口罩保持了較清潔干燥的表面，抑制了細菌的生長，同時空氣中的固態(tài)霧霾顆粒由于直徑遠大于納米涂層3的間隙，被阻隔在口罩表面無法通過，起到了防霾的效果，當口罩表面沾有污物后，可以用清水對口罩表面進行沖洗，因為納米涂層的低表面能特性，污物很容易被沖洗干凈，故而口罩可以重復利用。
【權利要求】
1.一種可重復利用的防水防霾抗菌口罩，它包括口罩本體和耳朵掛勾部，其特征在于，所述口罩本體表面還覆蓋有PECVD方法制備的納米涂層。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種可重復利用的防水防霾抗菌口罩，其特征在于，所述口罩本體含有至少三層無紡布，其中兩外側為外包無紡布，中間為過濾無紡布。
3.根據(jù)權利要求2所述的一種可重復利用的防水防霾抗菌口罩，其特征在于，所述無紡布表面都覆蓋有納米涂層。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種可重復利用的防水防霾抗菌口罩，其特征在于，所述納米納層為氟碳聚合物。
5.根據(jù)權利要求1所述的一種可重復利用的防水防霾抗菌口罩，其特征在于，所述納米納層的厚度在5-30nm。
【文檔編號】A41D13/11GK204048149SQ201420555855
【公開日】2014年12月31日 申請日期:2014年9月26日 優(yōu)先權日:2014年9月26日
【發(fā)明者】陳正士, 板本昇一郎, 霍錦輝 申請人:東莞市和域戰(zhàn)士納米科技有限公司