專利名稱：一種首飾蠟鑲石頭工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種首飾加工領(lǐng)域，尤指一種不貫穿蠟?zāi)５南炶偸^工藝。
背景技術(shù)：
在首飾加工領(lǐng)域，采用蠟鑲石頭技術(shù)已被廣泛采用以解決石頭鑲嵌時需要手工起丁、吸珠等作業(yè)效率低且平整度不好的問題，但由于受到倒模(失蠟鑄造)過程高溫烘烤及冷熱變化的影響，之前一直采用在石頭底部的蠟?zāi)ｃ@洞的技術(shù)，以防止石頭位發(fā)生巨大溫差而導致石頭破裂，但采用底部鉆洞的方式會在進行細線條鑲石時，線條不夠細致，且在唧蠟時容易造成底洞的堵塞，并容易造成蠟?zāi)５臄嗔押偷鼓r石膏堵塞。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種線線條更細致且不易斷裂的蠟鑲石頭工藝。為此，本發(fā)明提供了一種首飾蠟鑲石頭工藝，其特征在于:包括如下工藝流程，第一步，制作蠟?zāi)?，并在所述蠟?zāi)５谋砻嫔显O(shè)置不貫穿所述蠟?zāi)５氖^鑲嵌位，在所述石頭鑲嵌位的橫向側(cè)部設(shè)置凹槽位；第二步，在制作好的蠟?zāi)Ｉ线M行鑲石操作，即將石頭鑲嵌在所述蠟?zāi)５氖^鑲嵌位上；第三步，將鑲嵌好石頭的蠟?zāi)＿M行倒模操作獲得金屬首飾粗坯；第四步，對所述金屬首飾粗坯進行細加工后獲得首飾成品。優(yōu)選地，所述石頭鑲嵌位在所述蠟?zāi)５谋砻姘枷菪纬伞?yōu)選地，所述石頭鑲嵌位橫向兩側(cè)部的凹槽位不貫穿所述蠟?zāi)！?yōu)選地，所述石頭鑲嵌位橫向兩側(cè)部的凹槽位在橫向方向上貫通所述石頭鑲嵌位。優(yōu)選地，所述蠟?zāi)Ｔ谥谱鬟^程將多個蠟?zāi)２捎靡惑w成型的方式制作成一個整體。優(yōu)選地，所述第四步中對金屬首飾粗坯進行的細加工工藝包括打磨、拋光、電鍍
坐寸ο優(yōu)選地，所述蠟?zāi)榄h(huán)狀、塊狀、或條狀結(jié)構(gòu)。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的首飾蠟鑲工藝通過在蠟?zāi)５氖^鑲嵌位的橫向側(cè)部設(shè)置不貫穿蠟?zāi)５陌疾畚?，大大提高了鑲石線條的細致度，且避免了現(xiàn)有技術(shù)中采用蠟?zāi)Ｊ足@洞工藝造成蠟?zāi)Ｈ菀讛嗔押褪喽氯娜毕荨?br>

圖1所示為本發(fā)明首飾蠟鑲石頭工藝的工藝流程圖。圖2所示為本發(fā)明首飾蠟鑲石頭工藝的蠟?zāi)ｈ偳队惺^后的立體圖。圖3所示為本發(fā)明首飾蠟鑲石頭工藝的蠟?zāi)ｈ偳队惺^后的側(cè)面視圖。
具體實施例方式請參閱圖1至圖3所示，本發(fā)明的首飾蠟鑲石頭工藝包括如下工藝流程:第一步，制作環(huán)形蠟?zāi)?0，并在所述蠟?zāi)?0的環(huán)形表面上設(shè)置石頭鑲嵌位11，在所述石頭鑲嵌位11的兩側(cè)部橫向設(shè)置貫通所述石頭鑲嵌位11的凹槽位12，所述石頭鑲嵌位11是在所述環(huán)形蠟?zāi)?0的環(huán)形表面上沿徑向方向凹陷形成的，且所述石頭鑲嵌位11、及石頭鑲嵌位11兩側(cè)部的凹槽位12不會在徑向方向上貫穿蠟?zāi)?0 ;第二步，在制作好的蠟?zāi)?0上進行鑲石操作，即將石頭20鑲嵌在所述蠟?zāi)５氖^鑲嵌位11上；第三步，將鑲嵌好石頭20的蠟?zāi)?0進行倒模操作，并形成金屬首飾粗坯；第四步，對所述金屬首飾粗坯進行打磨、拋光、電鍍等工藝即可獲得首飾成品。所述蠟?zāi)?0在制作過程中，可以采用多個蠟?zāi)?0制作成一個整體的方式，大大提
高了生產(chǎn)效率。本發(fā)明的首飾蠟鑲工藝通過在蠟?zāi)?0的石頭鑲嵌位11的橫向側(cè)部設(shè)置不在徑向方向上貫穿環(huán)形蠟?zāi)?0的凹槽位12，大大提高了鑲石線條的細致度，且避免了先前技術(shù)中采用蠟?zāi)Ｊ足@洞工藝造成蠟?zāi)Ｈ菀讛嗔训娜毕荨?br> 權(quán)利要求
1.一種首飾蠟鑲石頭工藝，其特征在于:包括如下工藝流程，第一步，制作蠟?zāi)?，并在所述蠟?zāi)５谋砻嫔显O(shè)置不貫穿所述蠟?zāi)５氖^鑲嵌位，在所述石頭鑲嵌位的橫向側(cè)部設(shè)置凹槽位；第二步，在制作好的蠟?zāi)Ｉ线M行鑲石操作，即將石頭鑲嵌在所述蠟?zāi)５氖^鑲嵌位上；第三步，將鑲嵌好石頭的蠟?zāi)＿M行倒模操作獲得金屬首飾粗坯；第四步，對所述金屬首飾粗坯進行細加工后獲得首飾成品。
2.如權(quán)利要求1所述的首飾蠟鑲石頭工藝，其特征在于:所述石頭鑲嵌位在所述蠟?zāi)５谋砻姘枷菪纬伞?br> 3.如權(quán)利要求1所述的首飾蠟鑲石頭工藝，其特征在于:所述石頭鑲嵌位橫向兩側(cè)部的凹槽位不貫穿所述蠟?zāi)！?br> 4.如權(quán)利要求1所述的首飾蠟鑲石頭工藝，其特征在于:所述石頭鑲嵌位橫向兩側(cè)部的凹槽位在橫向方向上貫通所述石頭鑲嵌位。
5.如權(quán)利要求1所述的首飾蠟鑲石頭工藝，其特征在于:所述蠟?zāi)Ｔ谥谱鬟^程將多個蠟?zāi)２捎靡惑w成型的方式制作成一個整體。
6.如權(quán)利要求1所述的首飾蠟鑲石頭工藝，其特征在于:所述第四步中對金屬首飾粗坯進行的細加工工藝包括打磨、拋光、電鍍等。
7.如權(quán)利要求1所述的首飾蠟鑲石頭工藝，其特征在于:所述蠟?zāi)榄h(huán)狀、塊狀、或條狀結(jié)構(gòu)。
全文摘要
一種首飾蠟鑲石頭工藝，包括如下工藝流程，第一步，制作蠟?zāi)＃⒃谒鱿災(zāi)５谋砻嫔显O(shè)置不貫穿所述蠟?zāi)５氖^鑲嵌位，在所述石頭鑲嵌位的橫向側(cè)部設(shè)置凹槽位；第二步，在制作好的蠟?zāi)Ｉ线M行鑲石操作，即將石頭鑲嵌在所述蠟?zāi)５氖^鑲嵌位上；第三步，將鑲嵌好石頭的蠟?zāi)＿M行倒模操作獲得金屬首飾粗坯；第四步，對所述金屬首飾粗坯進行細加工后獲得首飾成品，本發(fā)明的首飾蠟鑲石頭工藝的蠟?zāi)２灰讛嗔?，可以采用蠟鑲工藝，提高了生產(chǎn)效率，降低了成本。
文檔編號A44C27/00GK103156346SQ201310128068
公開日2013年6月19日 申請日期2013年4月15日 優(yōu)先權(quán)日2013年4月15日
發(fā)明者董信群 申請人:董信群