專利名稱：具有雙密度中底的鞋具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明與鞋具有關(guān)，特別是指一種具有雙密度中底的鞋具。
背景技術(shù)：
一般鞋具大多包含有一中底、一底臺，以及一鞋面，中底供使用者的腳掌接觸，底 臺連接于中底下方，與地面接觸，鞋面則與中底之間形成供使用者足部穿置的空間。通常，底臺的硬度較高，以使底臺具有較佳的耐磨性并可達到支撐的功能，而中底 的硬度則較低，因此具有相當?shù)娜彳浶砸跃彌_使用者的腳掌壓力，但是這樣的設計過于簡 單，無法滿足使用者對鞋具舒適性的要求，因此還有待改進。

發(fā)明內(nèi)容
針對上述問題，本發(fā)明的主要目的在于提供一種具有雙密度中底的鞋具，其使用 舒適性更佳。為達到上述目的，本發(fā)明所提供的一種具有雙密度中底的鞋具，其特征在于包含 有一中底，具有一供使用者的腳掌接觸的第一層，以及一連接于所述第一層下方的第二 層，所述第一層具有一底部，以及多個從所述底部朝上延伸的凸肋，且所述第一層的硬度大 于所述第二層的硬度；一底臺，連接于所述中底下方，以與地面接觸。上述本發(fā)明的技術(shù)方案中，所述中底的第一層以符合日本工業(yè)規(guī)格JIS S 6050或 是日本橡膠學會SRIS 0101規(guī)格的硬度計量測，其硬度值介于35 40之間。所述中底的第二層以符合日本工業(yè)規(guī)格JIS S 6050或是日本橡膠學會SRIS0101 規(guī)格的硬度計量測，其硬度值介于25 30之間。所述中底第一層的各所述凸肋頂端與所述第一層底部的距離為2至4毫米。所述中底第一層的各所述凸肋為橫向地朝所述中底的左側(cè)及右側(cè)延伸。所述中底第一層的凸肋為等距離地分布。所述底臺具有一前支撐區(qū)及一后支撐區(qū)，所述前支撐區(qū)具有二用以與地面接觸的 前凸塊，以及一形成于所述二前凸塊之間的前凹槽。所述底臺具有一前支撐區(qū)及一后支撐區(qū)，所述后支撐區(qū)具有二與地面接觸的后凸 塊，以及一形成于所述二后凸塊之間的后凹槽。所述中底的第一層及第二層以符合日本工業(yè)規(guī)格JIS S 6050或是日本橡膠學會 SRIS 0101規(guī)格的硬度計量測，兩者硬度值的差值介于5 10之間。采用上述技術(shù)方案，當使用者穿著本發(fā)明所提供的鞋具時，由于中底的第二層可 產(chǎn)生壓縮變形，以緩沖使用者腳掌的壓力，而且，中底第一層的凸肋可順著腳掌的施力方向 彈性彎折變形，使中底釋放腳掌壓力的效果更加良好，因此本發(fā)明的鞋具具有較好的使用 舒適性。


圖1是本發(fā)明第一較佳實施例所提供的具有雙密度中底的鞋具的立體組合圖；圖2是本發(fā)明第一較佳實施例所提供的具有雙密度中底的鞋具的立體分解圖；圖3是本發(fā)明第一較佳實施例所提供的具有雙密度中底的鞋具的側(cè)視圖；圖4是一局部放大圖，顯示本發(fā)明第一較佳實施例所提供的具有雙密度中底的鞋 具的使用形態(tài)；圖5是本發(fā)明第二較佳實施例所提供的具有雙密度中底的鞋具的剖視示意圖。
具體實施例方式現(xiàn)舉以下實施例并結(jié)合附圖對本發(fā)明的結(jié)構(gòu)及功效進行詳細說明。如圖1 圖3所示，本發(fā)明第一較佳實施例所提供的具有雙密度中底的鞋具10包 含有一中底20、一底臺30，以及一鞋面40。中底20包含有一供使用者的腳掌接觸的第一層21，以及一連接于第一層21下方 的第二層22。第二層22呈平板狀；第一層21則具有一底部212，以及多個自底部212 —體朝 上延伸的凸肋214，各凸肋214為橫向地延伸至中底20的左側(cè)及右側(cè)，且各凸肋214為等距 離地分布，各凸肋214的頂端與第一層21底部212的距離L為2 4毫米。中底20的第一 層21及第二層22可由以乙烯醋酸乙烯酯共聚合物(Ethylene Vinyl Acetate Copolymer ； 簡稱EVA)、聚胺基甲酸酯(Polyurethane ；簡稱PU)或聚氯乙烯(Polyvinylchloride ；簡 稱PVC)等聚合物為原料的發(fā)泡材料所制成，但第一層21的材料密度比第二層22的材料 密度大，且第一層21的硬度大于第二層22的硬度，中底以符合日本工業(yè)規(guī)格(Japanese Industrial Standards) JIS S6050 或是日本橡膠學會(Japan Rubber Association) SRIS 0101規(guī)格的硬度計加以量測，第一層21及第二層22的硬度值分別為37及28。當然，制造 者也可自由調(diào)整中底20的硬度，實際測試發(fā)現(xiàn)，第一層21的硬度值以介于35 40之間較 好，第二層的硬度值以介于25 30之間較好，第一層21及第二層22的硬度值差異以介于 5 10之間較好。底臺30包含有一連接于中底20第二層22下方的間隔層31，以及一連接于間隔 層31下方的鞋底層32。間隔層31呈平板狀，并穿設有三個容置孔312 ；鞋底層32由五個 厚度較小的片體322及四個厚度較大的塊體324所組成，且各塊體324連接于二相鄰片體 322之間，使得底臺30的底部由前向后依序形成有一前鏤空區(qū)33、一前支撐區(qū)34、一后支撐 區(qū)35，以及一后鏤空區(qū)36，其中，前支撐區(qū)34具有二與地面接觸的前凸塊342，以及一形成 于二前凸塊342之間的前凹槽344，后支撐區(qū)35具有二與地面接觸的后凸塊352，以及一形 成于二后凸塊352之間的后凹槽354。鞋面40設于中底20的上方，并具有三個分別被限位于間隔層31的容置孔312中 的固定部42。鞋面40與中底20之間形成可供使用者足部穿置的空間，使得使用者在走動 時，其足部不會與鞋具10分離。鞋具10于使用時，底臺30的特殊設計不但可讓使用者的腳掌不易因涉水而浸濕， 并可有效地釋放腳掌壓力，讓使用者順暢地行走。更重要的是，如圖4所示，當使用者的腳 掌與中底20接觸時，中底20具有相當柔軟性的第二層22會彈性壓縮變形，同時緩沖使用 者腳掌的壓力。另外，中底20第一層21的凸肋214會順著使用者腳掌的施力方向產(chǎn)生彈
4性彎折變形，使得中底20釋放腳掌壓力的效果更加良好，進而提升鞋具10的使用舒適性。上述的中底20其實也可以應用于拖鞋以外的其它鞋種，如圖5所示的皮鞋，且鞋 面40及底臺30可隨不同鞋具種類而變化。另外，中底20的凸肋214也可以縱向地前后延 伸，或是朝其它任意方向延伸，而不限于橫向左右延伸。最后，必須再次說明，本發(fā)明于前述實施例中所揭示的構(gòu)成組件，僅為舉例說明， 并不能用來限制本發(fā)明的專利保護范圍，其它等效組件的替代或變化，均應被涵蓋在本發(fā) 明的專利保護范圍中。
權(quán)利要求
一種具有雙密度中底的鞋具，其特征在于包含有一中底，具有一供使用者的腳掌接觸的第一層，以及一連接于所述第一層下方的第二層，所述第一層具有一底部，以及多個從所述底部朝上延伸的凸肋，且所述第一層的硬度大于所述第二層的硬度；一底臺，連接于所述中底下方，以與地面接觸。
2.如權(quán)利要求1所述的具有雙密度中底的鞋具，其特征在于所述中底的第一層以符 合日本工業(yè)規(guī)格JIS S 6050或是日本橡膠學會SRIS 0101規(guī)格的硬度計量測，其硬度值介 于35 40之間。
3.如權(quán)利要求1所述的具有雙密度中底的鞋具，其特征在于所述中底的第二層以符 合日本工業(yè)規(guī)格JIS S 6050或是日本橡膠學會SRIS 0101規(guī)格的硬度計量測，其硬度值介 于25 30之間。
4.如權(quán)利要求1所述的具有雙密度中底的鞋具，其特征在于所述中底第一層的各所 述凸肋頂端與所述第一層底部的距離為2至4毫米。
5.如權(quán)利要求1所述的具有雙密度中底的鞋具，其特征在于所述中底第一層的各所 述凸肋為橫向地朝所述中底的左側(cè)及右側(cè)延伸。
6.如權(quán)利要求1所述的具有雙密度中底的鞋具，其特征在于所述中底第一層的凸肋 為等距離地分布。
7.如權(quán)利要求1所述的具有雙密度中底的鞋具，其特征在于所述底臺具有一前支撐 區(qū)及一后支撐區(qū)，所述前支撐區(qū)具有二用以與地面接觸的前凸塊，以及一形成于所述二前 凸塊之間的前凹槽。
8.如權(quán)利要求1所述的具有雙密度中底的鞋具，其特征在于所述底臺具有一前支撐 區(qū)及一后支撐區(qū)，所述后支撐區(qū)具有二與地面接觸的后凸塊，以及一形成于所述二后凸塊 之間的后凹槽。
9.如權(quán)利要求1所述的具有雙密度中底的鞋具，其特征在于所述中底的第一層及第 二層以符合日本工業(yè)規(guī)格JIS S 6050或是日本橡膠學會SRIS 0101規(guī)格的硬度計量測，兩 者硬度值的差值介于5 10之間。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種具有雙密度中底的鞋具，其包含有一中底，具有一供使用者的腳掌接觸的第一層，以及一連接于所述第一層下方的第二層，所述第一層具有一底部，以及多個從所述底部朝上延伸的凸肋，且所述第一層的硬度大于所述第二層的硬度；一底臺，連接于所述中底下方，以與地面接觸。由此，使用者穿著該鞋具時，中底可產(chǎn)生壓縮變形且凸肋可彈性彎折變形，可以有效地緩沖使用者腳掌的壓力，使得鞋具具有良好的使用舒適性。
文檔編號A43B13/18GK101912179SQ20101026552
公開日2010年12月15日 申請日期2010年8月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月25日
發(fā)明者潘光圣 申請人:潘光圣