專利名稱：鉆石組合的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及珠寶首飾的設(shè)計及制作領(lǐng)域，特別指的是一種鉆石組合造型設(shè)計。
背景技術(shù)：
近年來，鉆石的設(shè)計及制作取得了許多新的發(fā)展，國家珠寶玉石標(biāo)準(zhǔn)的制定，鉆石 材料的定名已經(jīng)規(guī)范，鉆石設(shè)計及制作的名稱及其相關(guān)術(shù)語也趨于統(tǒng)一。隨著新款鉆石設(shè) 計不斷涌現(xiàn)，鉆石設(shè)計的理論研究更加深入，尤其是計算機技術(shù)在鉆石制作上的應(yīng)用，代表 了未來鉆石設(shè)計及制作的發(fā)展方向。如圖1所示，現(xiàn)有的鉆石造型可分為冠部100、腰棱200和亭部300。冠部100位 于腰棱200以上的部分，由臺面101和冠主面102構(gòu)成；腰棱200為鉆石的腰部，它將鉆石 分隔成冠部100和亭部300 ；亭部300指腰棱200以下的部分，由亭面301和底尖302構(gòu) 成。造型鉆石特殊的光學(xué)效果是體現(xiàn)其美感的重要特征，主要表現(xiàn)在亮度、火彩和閃爍三個 方面，所以，鉆石的造型設(shè)計所要解決的是光學(xué)問題，就是如何使進入鉆石的光線盡可能少 地從側(cè)面或背面透射，而是通過其內(nèi)部刻面的若干次內(nèi)部反射，最后盡可能多地從寶石正 面射出。鑒于鉆石的光學(xué)效果與其造型比例、角度有著密切的因果關(guān)系，因此，造型鉆石就 必須充分考慮各部份的角度和比例，如冠角、亭角、冠高、亭深等等。如圖2所示，鉆石的造型比例以腰棱直徑作為比例標(biāo)準(zhǔn)，用百分數(shù)來表示，包括 臺寬比、冠高比、腰厚比和亭深比；鉆石的造型角度是指冠主面、亭面與腰棱平面之間的夾 角，稱為冠角和亭角。目前，世界上已有幾種被認為是能最好地顯示鉆石光學(xué)效果的造型 比例，如國際鉆石委員會設(shè)計推出的鉆石造型的標(biāo)準(zhǔn)比例臺寬比為56% 66%，冠高 比為11.0% 15.0%，冠角為31° 0' 37° 0'，亭深比為41. 0 % 45. 0 %，亭角為 39° 40' 42° 10'。通過上述分析可以發(fā)現(xiàn)，單顆鉆石造型的標(biāo)準(zhǔn)比例雖然可以最大程度地體現(xiàn)鉆石 的光學(xué)效果，但是，鉆石亭深所占的比例也必須符合標(biāo)準(zhǔn)要求，這樣會造成單顆鉆石體積和 重量的增加，使得鉆石的成本居高不下。另外，隨著大顆鉆石價格昂貴且日益稀少，現(xiàn)有的 珠寶首飾設(shè)計均是采用小顆粒鉆石在金屬托架上拼成一個分散的鉆石分布區(qū)，例如將多 顆小鉆石鑲嵌在由金屬制成的戒指、項鏈、耳環(huán)等首飾上，由鉆石分布區(qū)的組合面來產(chǎn)生光 澤。這樣結(jié)構(gòu)的珠寶首飾由于必須采用金屬爪等方式來固定分散的鉆石，會影響鉆石的光 學(xué)效果，且產(chǎn)生的光學(xué)效果也遠遠要比大顆鉆石遜色。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種鉆石組合，它利用四顆鉆石組成一顆鉆石，組合后的 鉆石光學(xué)效果優(yōu)于的組合前，且減少了鉆石的體積和重量，降低了成本。為了達到上述目的，本發(fā)明由以下的技術(shù)方案來實現(xiàn)。一種鉆石組合，包括四顆造型鉆石，四顆造型鉆石無邊鑲嵌在一起，鑲嵌后的鉆石 具有冠部、腰棱和亭部，鑲嵌后的鉆石腰棱呈橢圓形，鑲嵌后的鉆石臺寬比為56% 66%，冠高比為11.0% 15.0%，冠角為31° 0' 37° 0'，亭角為39° 40' 42° 10'，其 特征在于鑲嵌后的鉆石亭深比為10. 25 11. 25%。所述的四顆造型鉆石每一顆的造型標(biāo)準(zhǔn)均為臺寬比為56% 66%，冠高比 為11.0% 15.0%，冠角為31° 0' 37° 0'，亭深比為41. 0 % 45. 0 %，亭角為 39° 40' 42° 10'。本發(fā)明的有益效果在于，它采用四顆造型鉆石無邊鑲嵌在一起，鑲嵌后的鉆石亭 深比為10. 25 11. 25%。鑲嵌后的鉆石冠面增大，使產(chǎn)品的價值提升，但亭部減少，從而減 少了鉆石的體積和重量，降低了鉆石成本。另外，本發(fā)明的四顆造型鉆石每一顆的造型標(biāo)準(zhǔn) 均為臺寬比為56% 66%，冠高比為11.0% 15.0%，冠角為31° 0' 37° 0'，亭深 比為41.0% 45.0%，亭角為39° 40' 42° 10'，該造型標(biāo)準(zhǔn)能使四顆造型鉆石每一 顆都達到最佳的光學(xué)效果。實驗表明，鑲嵌后亭深比為10. 25 11. 25%的鉆石組合的光學(xué) 效果更優(yōu)于的組合前，這是因為，其鑲嵌后的鉆石組合內(nèi)部刻面增多，刻面增多使光的折射 率大，光的折射率大反射力也越大，其鉆石表面的光學(xué)效果就會更優(yōu)越。接著，本發(fā)明鑲嵌 后的鉆石組合推翻了國際鉆石委員會設(shè)計推出的鉆石造型的標(biāo)準(zhǔn)比例，更是取得了意料不 到的技術(shù)效果，它可以使更多的小顆粒鉆石經(jīng)本發(fā)明的鉆石組合得到大顆粒鉆石，光學(xué)效 果卻比大顆粒鉆石更好，但付出的成本卻大大降低。


圖1為現(xiàn)有的鉆石造型結(jié)構(gòu)示意2為現(xiàn)有的鉆石造型比例示意3為本發(fā)明鉆石組合亭部造型結(jié)構(gòu)分解示意4為本發(fā)明鉆石組合亭部造型結(jié)構(gòu)組合示意圖
具體實施例方式下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
作進一步詳細地描述。如圖3所示，本發(fā)明包括四顆造型鉆石1，四顆造型鉆石1大小、形狀一致，四顆造 型鉆石1可采用較小鉆石切割，每顆鉆石1都具有亭部11和冠部、腰棱。四顆造型鉆石1每 一顆的造型標(biāo)準(zhǔn)均為臺寬比為56% 66%，冠高比為11.0% 15.0%，冠角為31° 0' 37° 0'，亭深比為 41. 0% 45. 0%，亭角為 39° 40' 42° 10'。如圖4所示，本發(fā)明四顆造型鉆石1無邊鑲嵌在一起。鑲嵌后的鉆石2具有冠部、 腰棱和亭部21，附圖3、4給出的是鉆石的亭部。鑲嵌后的鉆石2腰棱呈橢圓形，鑲嵌后的鉆 石臺寬比為56% 66%，冠高比為11.0% 15.0%，冠角為31° 0' 37° 0'，亭角為 39° 40' 42° 10'，本發(fā)明的創(chuàng)新點在于，鑲嵌后的鉆石2亭深比為10. 25 11.25%。 本發(fā)明鑲嵌后的鉆石2冠面增大，使產(chǎn)品的價值提升，但亭部21減少，從而減少了鉆石的體 積和重量，降低了鉆石成本。經(jīng)實驗表明，臺寬比為57. 5%、冠高比為14. 6%、冠角為35°、 亭角為41°和亭深比為11%的鑲嵌后的鉆石2光學(xué)效果最佳。本發(fā)明的四顆造型鉆石1腰部無邊鑲嵌在一起。本發(fā)明的無邊鑲嵌是在鉆石1的 亭部或腰部的一個面設(shè)有相應(yīng)的鑲槽，對應(yīng)鑲嵌的鉆石1的亭部或腰部的一個面設(shè)有相應(yīng) 的突條，突條設(shè)在鑲槽內(nèi)即可形成無邊鑲嵌。采用無邊鑲嵌，鑲嵌后的鉆石2的冠部是看不
4到任何的接縫。本發(fā)明能使得四顆造型鉆石1每一顆都達到最佳的光學(xué)效果，實驗表明，鑲 嵌后亭深比為10. 25 11. 25%的鉆石組合的光學(xué)效果更優(yōu)于的組合前，可應(yīng)用在由金屬 制成的戒指、項鏈、耳環(huán)等首飾上，外形如同大顆鉆石，但成本卻大大降低。
權(quán)利要求
1.一種鉆石組合，包括四顆造型鉆石，四顆造型鉆石無邊鑲嵌在一起，鑲嵌后的鉆石具 有冠部、腰棱和亭部，鑲嵌后的鉆石腰棱呈橢圓形，鑲嵌后的鉆石臺寬比為56% 66%，冠 高比為11.0% 15. 0%，冠角為31° 0' 37° 0'，亭角為39° 40' 42° 10'，其特 征在于鑲嵌后的鉆石亭深比為10. 25 11. 25%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉆石組合，其特征在于所述的四顆造型鉆石每一顆的造型 標(biāo)準(zhǔn)均為臺寬比為56% 66%，冠高比為11.0% 15. 0%，冠角為31° 0' 37° 0'， 亭深比為41.0% 45. 0%，亭角為39° 40' 42° 10'。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉆石組合，其特征在于鑲嵌后的鉆石臺寬比為57.5%、冠高 比為14.6%、冠角為；35°、亭角為41°和亭深比為11%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉆石組合，其特征在于無邊鑲嵌是在鉆石的亭部或腰部的 一個面設(shè)有相應(yīng)的鑲槽，對應(yīng)鑲嵌的鉆石的亭部或腰部的一個面設(shè)有相應(yīng)的突條，突條設(shè) 在鑲槽內(nèi)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種鉆石組合，四顆造型鉆石無邊鑲嵌在一起，鑲嵌后的鉆石臺寬比為56％～66％，冠高比為11.0％～15.0％，冠角為31°0′～37°0′，亭角為39°40′～42°10′，鑲嵌后的鉆石亭深比為10.25～11.25％。組合后的鉆石光學(xué)效果優(yōu)于的組合前，且減少了鉆石的體積和重量，降低了成本。
文檔編號A44C17/00GK102138716SQ201010204018
公開日2011年8月3日 申請日期2010年6月18日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月18日
發(fā)明者林惠烔, 林惠鋒 申請人:林惠鋒