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八十一個刻面圓形鉆石的制作方法

文檔序號:746061閱讀:297來源:國知局
專利名稱:八十一個刻面圓形鉆石的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
八十一個刻面圓形鉆石技術(shù)領(lǐng)壤本實用新型涉及一種首飾鉆石。背暈技術(shù)金剛石具有很高的折射率和很強的色散,表面泛有典型的金剛光澤,天然金剛石中僅有約20%的寶石級原石經(jīng)過打磨師的精雕細琢, 才能發(fā)出無與倫比的彩虹般絢爛奪目的光芒。備受青睞的五十七個刻 面"八心八箭"琢型雖然盡善盡美的展現(xiàn)了打磨師的精湛工藝技術(shù)。 鉆石是一種價格昂貴、無法重新塑造的自然資源, 一般情況下,每克 拉寶石級原礦石的產(chǎn)成率約為三分之一。但是由于刻面較少,并不能 最大程度的展現(xiàn)鉆石的火彩和明亮度,因此,如何在保證鉆石的產(chǎn)成 率的前提下,合理有效的提高鉆石的光學效果,展現(xiàn)鉆石最璀璨閃耀 的光芒,是一直難以解決的技術(shù)問題。實用新纘內(nèi)容本實用新型的目的在于解決上述技術(shù)問題,而提供一種在保證鉆 石產(chǎn)成率的前提下,提高其光學效果的鉆石。 本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的-八十一個刻面圓形鉆石,鉆石本體具有冠部和亭部,所述冠部上 設(shè)有十個冠上刻面、十個冠下刻面、二十個上腰小刻面和十個星小刻面,亭部上設(shè)有十個亭主刻面和二十個下腰小刻面;所述鉆石本體的 臺寬比為56% 59.9%,冠高比為13.51% 15.5%,全深比為56% 64%,冠下刻面角為33.5%-35.5%,亭角為39. 5° 41. 5° ,邊厚 為1. 5% 4%。本實用新型還可以采用以下技術(shù)措施解決作為優(yōu)選方式,所述鉆石本體上的刻面采用中心對稱、上下對應(yīng) 的方式均勻分布在鉆石的冠部和亭部。所述鉆石本體的臺寬比為56%,冠高比為13.51%,全深比為56%, 冠下刻面角為33.5%,亭角為39.5° 。所述鉆石本體的臺寬比為59.9%,冠高比為15.5%,全深比為 64%,冠下刻面角為35.5%,亭角為41.5° 。所述鉆石本體的邊厚為1.5%。所述鉆石本體的邊厚為4%。本實用新型的有益效果是本實用新型是在現(xiàn)有的五十七個刻面的"八心八箭"標準琢型的 基礎(chǔ)上,增加了共二十四個刻面,并將各個刻面采用中心對稱、上下 對應(yīng)的方式均勻分布在鉆石的冠部和亭部,既能提高鉆石的產(chǎn)成率, 又能有效的增加鉆石的火彩和明亮度約25%;再者,因其工藝和加工 精良,對稱性優(yōu),故而在切工鏡下從鉆石正上方切面俯視,可以看到 大小一致、光芒璀璨且對稱的十支箭,從鉆石的正下方則呈現(xiàn)出完美 對稱、飽滿的十顆心——即"十心十箭"的效果。附閨說明


圖1是本實用新型鉆石的結(jié)構(gòu)示意圖圖2是本實用新型鉆石的主視圖 圖3是本實用新型鉆石的俯視圖 圖4是本實用新型^l石的仰視圖 具體實臃方式如
圖1至圖4所示,八十一個刻面圓形鉆石,鉆石本體具有冠部 1和亭部2,其特征是,所述冠部1上設(shè)有十個冠上刻面101、十個 冠下刻面102、 二十個上腰小刻面103和十個,小刻面104,亭部2 上設(shè)有十個亭主刻面201和二十個下腰小刻面202,所述鉆石本體上 的刻面采用中心對稱、上下對應(yīng)的方式均勻分布在鉆石的冠部1和亭 部2;所述鉆石本體的臺寬比d/D為56% 59.9%,冠高比hl/D為 13.51% 15.5°/。,全深比H/D為56% 64%,冠下刻面角a為 33.5%—35.5%,亭角b為39.5。 41.5。,邊厚c為1. 5% 4%。作為一實施例上述鉆石本體的臺寬比d/D為56%,冠高比hl/D 為13.51%,全深比H/D為56。/Q,冠下刻面角a為33.5%,亭角b為 39.5。。作為另一實施例上述鉆石本體的臺寬比d/D為59.9W,冠高比 hl/D為15.5n/。,全深比H/D為64c/。,冠下刻面角a為35.5%,亭角 b為41.5。。上述實施例一和二中,所述鉆石本體的邊厚c為1.5%或4%。
權(quán)利要求1. 八十一個刻面圓形鉆石,鉆石本體具有冠部(1)和亭部(2),其特征是,所述冠部(1)上設(shè)有十個冠上刻面(101)、十個冠下刻面(102)、二十個上腰小刻面(103)和十個星小刻面(104),亭部(2)上設(shè)有十個亭主刻面(201)和二十個下腰小刻面(202);所述鉆石本體的臺寬比為56%~59.9%,冠高比為13.51%~15.5%,全深比為56%~64%,冠下刻面角為33.5%-35.5%,亭角為39.5°~41.5°,邊厚為1.5%~4%。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的八十一個刻面圓形鉆石,其特征是, 所述鉆石本體上的刻面釆用中心對稱、上下對應(yīng)的方式均勻分布在鉆 石的冠部(1)和亭部(2)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的八十一個刻面圓形鉆石,其特征是, 所述鉆石本體的臺寬比為56%,冠高比為13.51%,全深比為56%, 冠下刻面角為33.5%,亭角為39.5° 。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的八十一個刻面圓形鉆石,其特征是, 所述鉆石本體的臺寬比為59.9%,冠高比為15.5%,全深比為64°/。, 冠下刻面角為35.5%,亭角為4L5。。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的八十一個刻面圓形鉆石,其特征 是,所述鉆石本體的邊厚為1.5%。
6. 根據(jù)權(quán)剩要求3或4所述的八十一個刻面圓形鉆石,其特征 是,所述鉆石本體的邊厚為4%。
專利摘要本實用新型公開了一種八十一個刻面圓形鉆石,鉆石本體具有冠部和亭部,所述冠部上設(shè)有十個冠上刻面、十個冠下刻面、二十個上腰小刻面和十個星小刻面,亭部上設(shè)有十個亭主刻面和二十個下腰小刻面;所述鉆石本體的臺寬比為56%~59.9%,冠高比為13.51%~15.5%,全深比為56%~64%,冠下刻面角為33.5%-35.5%,亭角為39.5°~41.5°,邊厚為1.5%~4%。本實用新型的八十一個刻面圓形鉆石具有可提高鉆石產(chǎn)成率,提高其光學效果優(yōu)點。
文檔編號A44C17/00GK201108098SQ2007200515
公開日2008年9月3日 申請日期2007年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月17日
發(fā)明者張振宇 申請人:佛山市順德區(qū)倫教首飾鉆石加工廠
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