本申請(qǐng)涉及霧化，具體是涉及一種噴嘴、霧化器及電子霧化裝置。

背景技術(shù)：

1、相關(guān)技術(shù)中電子霧化裝置用于將氣溶膠生成基質(zhì)霧化為氣溶膠。

2、采用噴嘴霧化是將氣溶膠生成基質(zhì)霧化為氣溶膠的一種方式。但是目前采用的噴嘴霧化方式，在氣溫波動(dòng)較大時(shí)，氣溶膠生成基質(zhì)粘度較大，容易堵塞通道，影響噴嘴霧化量，同時(shí)常溫霧化時(shí)氣溶膠容易在噴嘴出口處冷凝回流、產(chǎn)生大液滴及積液。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、有鑒于此，本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N噴嘴、霧化器及電子霧化裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中氣溶膠生成基質(zhì)粘度較大堵塞通道，影響噴嘴霧化量，以及在噴嘴出口處冷凝回流、產(chǎn)生大液滴及積液的問(wèn)題。

2、為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本申請(qǐng)?zhí)峁┑牡谝粋€(gè)技術(shù)方案為：提供一種噴嘴，包括噴射部和加熱體，噴射部具有霧化腔以及分別與所述霧化腔連通的進(jìn)氣通道、進(jìn)液通道；從所述進(jìn)氣通道進(jìn)入所述霧化腔的氣體與從所述進(jìn)液通道進(jìn)入所述霧化腔的氣溶膠生成基質(zhì)碰撞后進(jìn)行霧化形成氣溶膠；所述霧化腔具有出霧口，使得所述氣溶膠從所述出霧口流出；加熱體集成于所述噴射部上且至少對(duì)應(yīng)所述進(jìn)液通道設(shè)置，所述加熱體用于對(duì)所述進(jìn)液通道的所述氣溶膠生成基質(zhì)進(jìn)行加熱，以降低所述氣溶膠生成基質(zhì)的粘度。

3、其中，所述加熱體設(shè)置于所述進(jìn)液通道側(cè)壁內(nèi)表面和/或所述進(jìn)液通道的側(cè)壁外表面；或所述加熱體為所述進(jìn)液通道的側(cè)壁的一部分。

4、其中，所述加熱體還對(duì)應(yīng)所述進(jìn)氣通道設(shè)置；和/或所述加熱體還對(duì)應(yīng)所述霧化腔設(shè)置。

5、其中，所述進(jìn)液通道的高度為50-500μm。

6、其中，所述噴射部包括本體基板和蓋設(shè)基板，所述本體基板包括相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面，所述第二表面具有霧化槽以及分別與所述霧化槽連通的進(jìn)氣槽和進(jìn)液槽；蓋設(shè)基板覆蓋于所述第二表面，且與所述霧化槽、所述進(jìn)氣槽和所述進(jìn)液槽配合以分別形成所述霧化腔、所述進(jìn)氣通道和所述進(jìn)液通道；其中，所述加熱體設(shè)置于所述第一表面對(duì)應(yīng)所述進(jìn)液槽的部分，或所述加熱體設(shè)置于整個(gè)所述第一表面；和/或所述加熱體設(shè)置于所述進(jìn)液槽的底面；和/或所述加熱體設(shè)置于所述蓋設(shè)基板朝向所述進(jìn)液槽的表面，或所述加熱體設(shè)置于所述蓋設(shè)基板背離所述進(jìn)液槽的表面。

7、其中，所述本體基板具有相對(duì)的第一邊和第二邊，以及連接所述第一邊和所述第二邊的第三邊；所述霧化槽靠近所述第一邊設(shè)置且具有位于所述第一邊的所述出霧口，所述進(jìn)氣槽從所述第二邊延伸至所述霧化槽，所述進(jìn)液槽從所述第三邊延伸至所述霧化槽。

8、其中，所述進(jìn)氣槽與所述霧化槽連接的一端形成縮口結(jié)構(gòu)；其中，所述進(jìn)液槽包括入口段、中間段和出口段；所述入口段和所述出口段均相對(duì)于所述中間段收窄。

9、其中，所述中間段的兩個(gè)側(cè)壁其中一個(gè)為直線型，另一個(gè)為曲線型。

10、其中，所述進(jìn)液槽的側(cè)壁具有第一開口和第二開口；所述加熱體設(shè)置于所述進(jìn)液槽的底面；所述加熱體包括第一電極和第二電極；所述第一電極延伸至所述第一開口，所述第二電極延伸至所述第二開口。

11、其中，所述第一開口和所述第二開口均位于所述進(jìn)液槽的靠近所述第一邊的側(cè)壁上，或均位于所述進(jìn)液槽的靠近所述第二邊的側(cè)壁上。

12、其中，所述噴射部包括本體基板和蓋設(shè)基板，本體基板具有相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面；所述第二表面具有霧化槽以及環(huán)繞所述霧化槽的流體槽、以及連通所述流體槽和所述霧化槽的多個(gè)進(jìn)液槽；所述霧化槽的底壁具有第一通孔作為進(jìn)氣通道；所述流體槽的外側(cè)壁具有進(jìn)液口；蓋設(shè)基板蓋設(shè)于所述第二表面；所述蓋設(shè)基板與所述霧化槽配合形成所述霧化腔；所述蓋設(shè)基板與所述進(jìn)液槽和所述流體槽配合形成所述進(jìn)液通道；所述蓋設(shè)基板具有第二通孔作為所述出霧口；其中，所述加熱體設(shè)置于所述流體槽的底壁上；或所述加熱體設(shè)置于所述蓋設(shè)基板靠近所述本體基板的表面。

13、其中，所述本體基板的材料為硅、玻璃或金屬，所述蓋設(shè)基板的材料為硅、玻璃或金屬。

14、其中，所述噴嘴還包括傳感器，用于獲取所述氣溶膠生成基質(zhì)的檢測(cè)信息；所述檢測(cè)信息包括溫度信息或粘度信息。

15、其中，所述傳感器設(shè)置于所述噴射部的外表面，用于檢測(cè)所述噴射部所在的環(huán)境溫度，以根據(jù)所述環(huán)境溫度對(duì)所述進(jìn)液通道內(nèi)的氣溶膠生成基質(zhì)加熱預(yù)設(shè)溫度；或所述傳感器設(shè)置于所述進(jìn)液通道內(nèi)，用于檢測(cè)流經(jīng)所述進(jìn)液通道的所述氣溶膠生成基質(zhì)的溫度信息或粘度信息，并根據(jù)所述檢測(cè)信息對(duì)所述氣溶膠生成基質(zhì)進(jìn)行加熱。

16、其中，所述加熱體為發(fā)熱膜；所述發(fā)熱膜的厚度0.05μm-5μm，所述發(fā)熱膜的寬度為10-1000μm。

17、為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本申請(qǐng)?zhí)峁┑牡诙€(gè)技術(shù)方案為：提供一種霧化器，包括儲(chǔ)液倉(cāng)、噴嘴和微泵，儲(chǔ)液倉(cāng)用于存儲(chǔ)氣溶膠生成基質(zhì)；所述噴嘴為上述任一項(xiàng)所述的噴嘴；所述進(jìn)液通道連接所述儲(chǔ)液倉(cāng)；微泵與所述進(jìn)氣通道連接，用于為所述噴嘴供氣，以將所述噴嘴內(nèi)的所述氣溶膠生成基質(zhì)進(jìn)行霧化。

18、為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本申請(qǐng)?zhí)峁┑牡谌齻€(gè)技術(shù)方案為：提供一種電子霧化裝置，包括霧化器和電源組件；所述霧化器為上述任一項(xiàng)所述的霧化器；電源組件與所述霧化器耦接，用于對(duì)所述霧化器提供電源。

19、本申請(qǐng)的有益效果：區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)，本申請(qǐng)的噴嘴包括噴射部和加熱體，噴射部具有霧化腔以及分別與霧化腔連通的進(jìn)氣通道、進(jìn)液通道；從進(jìn)氣通道進(jìn)入霧化腔的氣體與從進(jìn)液通道進(jìn)入霧化腔的氣溶膠生成基質(zhì)碰撞后進(jìn)行霧化形成氣溶膠；霧化腔的出霧口使得氣溶膠從出霧口流出；加熱體集成于噴射部上且至少對(duì)應(yīng)進(jìn)液通道設(shè)置，用于對(duì)進(jìn)液通道的氣溶膠生成基質(zhì)進(jìn)行加熱，從而降低氣溶膠生成基質(zhì)的粘度，保證氣溶膠生成基質(zhì)在進(jìn)液通道內(nèi)的流動(dòng)速率，防止堵塞通道，同時(shí)提高霧化效果。同時(shí)防止氣溶膠在噴嘴出口處冷凝回流，避免產(chǎn)生大的液滴以及積液的問(wèn)題，提高噴嘴的使用壽命。

技術(shù)特征：

1.一種噴嘴，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴，其特征在于，所述加熱體設(shè)置于所述進(jìn)液通道側(cè)壁內(nèi)表面和/或所述進(jìn)液通道的側(cè)壁外表面；或

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的噴嘴，其特征在于，所述加熱體還對(duì)應(yīng)所述進(jìn)氣通道設(shè)置；和/或

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的噴嘴，其特征在于，所述噴射部包括：

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的噴嘴，其特征在于，所述本體基板具有相對(duì)的第一邊和第二邊，以及連接所述第一邊和所述第二邊的第三邊；所述霧化槽靠近所述第一邊設(shè)置且具有位于所述第一邊的所述出霧口，所述進(jìn)氣槽從所述第二邊延伸至所述霧化槽，所述進(jìn)液槽從所述第三邊延伸至所述霧化槽。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的噴嘴，其特征在于，所述進(jìn)氣槽與所述霧化槽連接的一端形成縮口結(jié)構(gòu)；

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的噴嘴，其特征在于，所述進(jìn)液槽的側(cè)壁具有第一開口和第二開口；所述加熱體設(shè)置于所述進(jìn)液槽的底面；所述加熱體包括第一電極和第二電極；所述第一電極延伸至所述第一開口，所述第二電極延伸至所述第二開口；

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴，其特征在于，所述噴射部包括：

9.根據(jù)權(quán)利要求4或8所述的噴嘴，其特征在于，所述本體基板的材料為硅、玻璃或金屬，所述蓋設(shè)基板的材料為硅、玻璃或金屬；

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴，其特征在于，所述噴嘴還包括：

11.一種霧化器，其特征在于，包括：

12.一種電子霧化裝置，其特征在于，包括：

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)公開了一種噴嘴、霧化器及電子霧化裝置，噴嘴包括噴射部和加熱體，噴射部具有霧化腔以及分別與霧化腔連通的進(jìn)氣通道、進(jìn)液通道；從進(jìn)氣通道進(jìn)入霧化腔的氣體與從進(jìn)液通道進(jìn)入霧化腔的氣溶膠生成基質(zhì)碰撞后進(jìn)行霧化形成氣溶膠；霧化腔的出霧口使得氣溶膠從出霧口流出；加熱體集成于噴射部上且至少對(duì)應(yīng)進(jìn)液通道設(shè)置，用于對(duì)進(jìn)液通道的氣溶膠生成基質(zhì)進(jìn)行加熱，從而降低氣溶膠生成基質(zhì)的粘度，保證氣溶膠生成基質(zhì)在進(jìn)液通道內(nèi)的流動(dòng)速率，防止堵塞通道，提高霧化效果。同時(shí)防止氣溶膠在噴嘴出口處冷凝回流，避免產(chǎn)生大的液滴以及積液的問(wèn)題，提高噴嘴的使用壽命。

技術(shù)研發(fā)人員：巫永鵬,徐志鋒,高椋,林作飄,雷桂林
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳麥克韋爾科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19