種植深度可調(diào)節(jié)花盆的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于植物種植技術領域，特別是一種種種植深度可調(diào)節(jié)花盆。
【背景技術】
[0002]現(xiàn)有的花盆均為一體式結構，制造完成的花盆，其種植深度已被限定，當需要跟換種植植物品種時，由于不同植物品種對于種植深度的要求均不相同，因此，原本的花盆則可能由于不適用于種植新的植物品種而被丟棄，這樣不但種植新的植物品種成本增高，還會造成不必要的浪費。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型的目的在于提供一種能夠根據(jù)種植植物品種的不同調(diào)節(jié)種植深度的種植深度可調(diào)節(jié)花盆。
[0004]實現(xiàn)本實用新型目的的技術解決方案為:
[0005]—種種植深度可調(diào)節(jié)花盆，包括主體底盆和加高層，其中，主體底盆沿開口周向開有基層環(huán)形插裝槽，加高層的大開口端沿周向開有擴展環(huán)形插裝槽，加高層的小開口端開口與主體底盆的開口或下一層加高層的大開口端開有口尺寸配合，且小開口端開口沿周向設置有與基層環(huán)形插裝槽或下一層加高層的擴展環(huán)形插裝槽實現(xiàn)插裝配合的環(huán)形凸臺。
[0006]本實用新型與現(xiàn)有技術相比，其顯著優(yōu)點:
[0007]本實用新型采用主體底盆和加高層分體設計的方式，可以針對不同的植物所需要的種植深度對花盆進行組裝或拆卸，相比與現(xiàn)有的一體式花盆，本實用新型的使用范圍廣，利用率高，能夠節(jié)省不必要的種植成本。
[0008]下面結合附圖對本實用新型作進一步詳細描述。
【附圖說明】
[0009]圖1是本實用新型種植深度可調(diào)節(jié)花盆的一種實施方式的結構示意圖。
[0010]圖2是本實用新型種植深度可調(diào)節(jié)花盆的另一種實施方式的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0011]結合圖1和圖2:
[0012]本實用新型一種種植深度可調(diào)節(jié)花盆，包括主體底盆I和加高層2，其中，主體底盆I沿開口周向開有基層環(huán)形插裝槽3，加高層2的大開口端沿周向開有擴展環(huán)形插裝槽4，加高層2的小開口端開口與主體底盆I的開口或下一層加高層2的大開口端開有口尺寸配合，且小開口端開口沿周向設置有與基層環(huán)形插裝槽3或下一層加高層2的擴展環(huán)形插裝槽4實現(xiàn)插裝配合的環(huán)形凸臺5。
[0013]基層環(huán)形插裝槽3和擴展環(huán)形插裝槽4的槽底均設置有環(huán)形防水膠墊。
[0014]環(huán)形凸臺5的高度與擴展環(huán)形插裝槽4和基層環(huán)形插裝槽3的深度相同。
[0015]實施例1:
[0016]結合圖1:
[0017]—種種植深度可調(diào)節(jié)花盆，包括主體底盆I和加高層2，其中，主體底盆I沿開口周向開有基層環(huán)形插裝槽3，加高層2的大開口端沿周向開有擴展環(huán)形插裝槽4，加高層2的小開口端開口與主體底盆I的開口或下一層加高層2的大開口端開有口尺寸配合，且小開口端開口沿周向設置有與基層環(huán)形插裝槽3或下一層加高層2的擴展環(huán)形插裝槽4實現(xiàn)插裝配合的環(huán)形凸臺5。
[0018]實施例2:
[0019]結合圖2:
[0020]一種種植深度可調(diào)節(jié)花盆，包括主體底盆I和加高層2，其中，主體底盆I沿開口周向開有基層環(huán)形插裝槽3，加高層2的大開口端沿周向開有擴展環(huán)形插裝槽4，加高層2的小開口端開口與主體底盆I的開口或下一層加高層2的大開口端開有口尺寸配合，且小開口端開口沿周向設置有與基層環(huán)形插裝槽3或下一層加高層2的擴展環(huán)形插裝槽4實現(xiàn)插裝配合的環(huán)形凸臺5 ;環(huán)形凸臺5的高度與擴展環(huán)形插裝槽4和基層環(huán)形插裝槽3的深度相同；基層環(huán)形插裝槽3和擴展環(huán)形插裝槽4的槽底均設置有環(huán)形防水膠墊。
【主權項】
1.一種種植深度可調(diào)節(jié)花盆，其特征在于:包括主體底盆(I)和加高層(2)，其中，主體底盆(I)沿開口周向開有基層環(huán)形插裝槽(3)，加高層(2)的大開口端沿周向開有擴展環(huán)形插裝槽(4)，加高層(2)的小開口端開口與主體底盆(I)的開口或下一層加高層(2)的大開口端開有口尺寸配合，且小開口端開口沿周向設置有與基層環(huán)形插裝槽(3)或下一層加高層(2)的擴展環(huán)形插裝槽(4)實現(xiàn)插裝配合的環(huán)形凸臺(5)。2.根據(jù)權利要求1所述的種植深度可調(diào)節(jié)花盆，其特征在于:所述基層環(huán)形插裝槽(3)和擴展環(huán)形插裝槽(4)的槽底均設置有環(huán)形防水膠墊。3.根據(jù)權利要求1或2所述的種植深度可調(diào)節(jié)花盆，其特征在于:所述環(huán)形凸臺(5)的高度與擴展環(huán)形插裝槽(4)和基層環(huán)形插裝槽(3)的深度相同。
【專利摘要】本實用新型公開了一種種植深度可調(diào)節(jié)花盆，包括主體底盆和加高層，其中，主體底盆沿開口周向開有基層環(huán)形插裝槽，加高層的大開口端沿周向開有擴展環(huán)形插裝槽，加高層的小開口端開口與主體底盆的開口或下一層加高層的大開口端開有口尺寸配合，且小開口端開口沿周向設置有與基層環(huán)形插裝槽或下一層加高層的擴展環(huán)形插裝槽實現(xiàn)插裝配合的環(huán)形凸臺；本實用新型采用主體底盆和加高層分體設計的方式，可以針對不同的植物所需要的種植深度對花盆進行組裝或拆卸，相比與現(xiàn)有的一體式花盆，本實用新型的使用范圍廣，利用率高，能夠節(jié)省不必要的種植成本。
【IPC分類】A01G9/02
【公開號】CN204811201
【申請?zhí)枴緾N201520475773
【發(fā)明人】昝家乾, 李偉, 徐平
【申請人】南京江寧臺灣農(nóng)民創(chuàng)業(yè)園發(fā)展有限公司
【公開日】2015年12月2日
【申請日】2015年6月30日