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一種可調(diào)節(jié)大小的栽培槽的制作方法

文檔序號:12598158閱讀:268來源:國知局

本發(fā)明涉及種植技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種可調(diào)節(jié)大小的栽培槽。



背景技術(shù):

隨著人口數(shù)量的激增,人均耕地占有量日益銳減,尤其與人口數(shù)量成正比的住房建設(shè)用地更對耕地安全造成嚴(yán)重沖擊,普通的栽培槽的規(guī)格為固定的,不能滿足大大小小的不同盆子的規(guī)格。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種可調(diào)節(jié)大小的栽培槽。

為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:一種可調(diào)節(jié)大小的栽培槽,包括:

一槽體,所述槽體四周開設(shè)有若干透氣孔,所述槽體兩側(cè)邊分別開設(shè)有第一滑槽;

若干豎隔條,若干所述豎隔條安裝在所述槽體上安裝有所述第一滑槽的兩側(cè)邊上,所述豎隔條底面兩端分別安裝有第一滑塊,所述豎隔條頂端開設(shè)有第二滑槽;

若干伸縮橫隔條,若干所述伸縮橫隔條安裝在兩所述豎隔條之間,所述伸縮橫隔條底面兩端分別安裝有第二滑塊。

在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述第一滑塊安裝在所述第一滑槽內(nèi)。

在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述第一滑塊與所述第一滑槽相配合。

在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述第二滑塊安裝在所述第二滑槽內(nèi)。

在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述第二滑塊與所述第二滑槽相配合。

本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明一種可調(diào)節(jié)大小的栽培槽,該栽培槽不僅結(jié)構(gòu)簡單,其內(nèi)隔條可以隨意進(jìn)行調(diào)節(jié),從而滿足不同盆子的安放需求,使得其具有良好的泛用性。

附圖說明

圖1是本發(fā)明一種可調(diào)節(jié)大小的栽培槽的結(jié)構(gòu)示意圖;

附圖中各部件的標(biāo)記如下:1、槽體;2、透氣孔;3、第一滑槽;4、豎隔條;5、第一滑塊;6、第二滑槽;7、伸縮橫隔條;8、第二滑塊。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述,以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解,從而對本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。

請參閱圖1,本發(fā)明實(shí)施例包括:一種可調(diào)節(jié)大小的栽培槽,包括:

一槽體1,所述槽體1四周開設(shè)有若干透氣孔2,所述透氣孔2用于所述槽體1單獨(dú)栽培時(shí)土壤的透氣。

所述槽體1兩側(cè)邊分別開設(shè)有第一滑槽3,所述第一滑槽3用于所述豎隔條4的滑動(dòng)。

若干豎隔條4,若干所述豎隔條4安裝在所述槽體1上安裝有所述第一滑槽3的兩側(cè)邊上,所述豎隔條4底面兩端分別安裝有第一滑塊5,所述第一滑塊5安裝在所述第一滑槽3內(nèi),所述第一滑塊5與所述第一滑槽3相配合,使得所述豎隔條4可以在所述槽體1上滑動(dòng)。

所述豎隔條4頂端開設(shè)有第二滑槽6,所述第二滑槽6用于所述伸縮橫隔條7的來回滑動(dòng)。

若干伸縮橫隔條7,若干所述伸縮橫隔條7安裝在兩所述豎隔條4之間,所述伸縮橫隔條7通過伸縮來調(diào)節(jié)所述伸縮橫隔條7所連接的兩所述豎隔條4之間的寬度。

所述伸縮橫隔條7底面兩端分別安裝有第二滑塊8,所述第二滑塊8安裝在所述第二滑槽6內(nèi),所述第二滑塊8與所述第二滑槽6相配合,使得所述伸縮橫隔條7可以在所述豎隔條4之間來回滑動(dòng)。

通過所述豎隔條4與所述伸縮橫隔條7的來回滑動(dòng),從而使得兩兩所述豎隔條4與所述伸縮橫隔條7可以圍成不同尺寸的槽,從而滿足不同盆子的安放需求。

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明一種可調(diào)節(jié)大小的栽培槽,該栽培槽不僅結(jié)構(gòu)簡單,其內(nèi)隔條可以隨意進(jìn)行調(diào)節(jié),從而滿足不同盆子的安放需求,使得其具有良好的泛用性。

以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。

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