專利名稱：一種五谷精磨設備臭氧殺菌裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種精磨設備，尤其涉及一種應用在精磨設備的臭氧殺菌裝置。
背景技術：
五谷精磨設備使用后，雖可經清洗將磨盤磨片等零件上粘附的五谷殘渣清洗掉，但受環(huán)境等影響，磨盤磨片等零件和磨腔內壁仍會受到微生物及殘留的渣屑的污染，這給 下一次五谷磨粉造成品質和衛(wèi)生安全隱患。
發(fā)明內容本實用新型所要解決的技術問題是提供一種五谷精磨設備臭氧殺菌裝置，解決現 在的精磨設備在衛(wèi)生安全尤其是在殘留的殘渣被清洗后對可能的微生物的污染沒有進行 消毒殺菌而造成后續(xù)使用的產品發(fā)生二次污染的缺陷。技術方案一種五谷精磨設備臭氧殺菌裝置，包括進行磨粉的磨腔、磨盤和磨片，對磨盤和磨 片進行清洗的清洗槽，其特征是還包括臭氧發(fā)生器，所述臭氧發(fā)生器通過臭氧輸送管分別 與通至磨腔的臭氧氣體擴散器和通至清洗槽的臭氧微孔曝氣盤連接。所述臭氧發(fā)生器的臭氧產生速度固定為定值。所述臭氧發(fā)生器的臭氧產生速度大于等于1克每小時。所述臭氧輸送管采用耐氧化的硅膠材料制成。所述臭氧微孔曝氣盤包括氣體噴出孔盤，所述孔盤的孔徑小于等于1mm。有益效果本實用新型的五谷精磨設備臭氧殺菌裝置利用臭氧對精磨設備的磨腔和磨盤及 磨片進行工作后微生物的殺菌消毒，能徹底清除工作腔的各種潛在的衛(wèi)生隱患，有效防止 因為工作裝置的衛(wèi)生問題引起產品的二次污染。

圖1為本實用新型示意圖。其中1_磨腔，2-清洗槽，3-臭氧發(fā)生器，4-臭氧輸送管，5-臭氧微孔曝氣盤， 6_臭氧氣體擴散器。
具體實施方式
下面結合具體實施例，進一步闡述本實用新型。一種五谷精磨設備臭氧殺菌裝置，包括進行磨粉的磨腔1、磨盤和磨片，對磨盤和 磨片進行清洗的清洗槽2，還包括臭氧發(fā)生器3，所述臭氧發(fā)生器3通過臭氧輸送管4分別 與通至磨腔1的臭氧氣體擴散器6和通至清洗槽2的臭氧微孔曝氣盤5連接。所述臭氧發(fā)生器3的臭氧產生速度固定為定值，臭氧產生速度大于等于1克每小時。這樣針對臭氧的發(fā)生速度設定后，可以根據所需要的殺菌臭氧濃度控制臭氧的發(fā)生時 間，從而可以對臭氧殺菌進行自動控制。所述臭氧輸送管4采用耐氧化的硅膠材料制成。所述臭氧微孔曝氣盤5包括氣體噴出孔盤，所述孔盤的孔徑小于等于1mm。目的就 是臭氧微孔曝氣盤5能在清洗槽2的水中將噴出的臭氧氣體切割成直徑小于等于Imm的微 小氣泡，從而易溶于水，使水中的臭氧分布均勻。 臭氧氣體擴散器6能將臭氧氣體有效擴散至磨腔1內需要進行空間殺菌的各個角落。整個裝置的使用方法是臭氧發(fā)生器3產生臭氧，通過臭氧輸送管4輸送至臭氧氣 體擴散器6對五谷精磨設備磨腔1等空間進行殺菌，輸送至臭氧微孔曝氣盤5對五谷精磨 設備磨盤磨片等可以在水中進行清洗的零件進行殺菌。
權利要求一種五谷精磨設備臭氧殺菌裝置，包括進行磨粉的磨腔、磨盤和磨片，對磨盤和磨片進行清洗的清洗槽，其特征是還包括臭氧發(fā)生器，所述臭氧發(fā)生器通過臭氧輸送管分別與通至磨腔的臭氧氣體擴散器和通至清洗槽的臭氧微孔曝氣盤連接。
2.如權利要求1所述的五谷精磨設備臭氧殺菌裝置，其特征是所述臭氧發(fā)生器的臭 氧產生速度固定為定值。
3.如權利要求2所述的五谷精磨設備臭氧殺菌裝置，其特征是所述臭氧發(fā)生器的臭 氧產生速度大于等于1克每小時。
4.如權利要求1所述的五谷精磨設備臭氧殺菌裝置，其特征是所述臭氧輸送管采用 耐氧化的硅膠材料制成。
5.如權利要求1所述的五谷精磨設備臭氧殺菌裝置，其特征是所述臭氧微孔曝氣盤 包括氣體噴出孔盤，所述孔盤的孔徑小于等于1mm。
專利摘要本實用新型涉及一種精磨設備臭氧殺菌裝置，屬于精磨設備領域。一種五谷精磨設備臭氧殺菌裝置，包括進行磨粉的磨腔、磨盤和磨片，對磨盤和磨片進行清洗的清洗槽，其特征是還包括臭氧發(fā)生器，所述臭氧發(fā)生器通過臭氧輸送管分別與通至磨腔的臭氧氣體擴散器和通至清洗槽的臭氧微孔曝氣盤連接。本實用新型的五谷精磨設備臭氧殺菌裝置利用臭氧對精磨設備的磨腔和磨盤及磨片進行工作后微生物的殺菌消毒，能徹底清除工作腔的各種潛在的衛(wèi)生隱患，有效防止因為工作裝置的衛(wèi)生問題引起產品的二次污染。
文檔編號B02C11/00GK201586540SQ20102010528
公開日2010年9月22日 申請日期2010年1月29日 優(yōu)先權日2010年1月29日
發(fā)明者張澤軍, 楊昌亞 申請人:馥雅食品科技(深圳)有限公司