技術(shù)編號(hào)：40403794
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)涉及pvd設(shè)備相關(guān)，尤其涉及一種便于更換靶材的裝置。背景技術(shù)、pvd物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下采用物理方法將材料源(固體或液體)表面氣化成氣態(tài)原子或分子，或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)，物理氣相沉積是主要的表面處理技術(shù)之一。、經(jīng)過海量檢索，發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)公開號(hào)為cnu，公開了一種組合式pvd鍍膜靶材及pvd鍍膜機(jī)，所述組合式pvd鍍膜靶材包括材質(zhì)不同的靶材本體和底座，所述靶材本體與所述底座分體設(shè)置，所...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
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