曝光處理中能夠控制第二高度h2。
[0099]參考圖8B，在有機絕緣圖案143上形成第一透明導電層。圖案化第一透明導電層從而形成參考電極CE。參考電極CE的端部延伸至下部LP的上表面。此外，參考電極CE可以被開口從而曝露有機絕緣圖案143的下部LP的一部分。
[0100]參考圖8C，使用參考電極CE作為掩模部分地蝕刻有機絕緣圖案143的下部LP。因此，下部LP的一部分被開口，并且因此開口部0P通過有機絕緣層140形成。
[0101]當在蝕刻處理期間使用基本上同時蝕刻第一無機絕緣層131和有機絕緣圖案143的蝕刻劑時，第一無機絕緣層131可以被另外地蝕刻。在這種情況下，在一個蝕刻處理期間，開口部0P通過有機絕緣層140形成，并且基本上同時地，第一接觸孔H1通過保護層130形成。因此，第一接觸孔HI可以具有與開口部OP的尺寸和寬度對應的尺寸和寬度。
[0102]參考圖8D，在參考電極CE上形成第二無機絕緣層151，并且在第二無機絕緣層151上形成感光圖案155。
[0103]階梯差部分153a由于在上部HP和下部LP之間的階梯差而形成在感光圖案155中。開孔155b形成在階梯差部分153a中，從而曝露第二無機絕緣層151。當使用具有開孔155b的感光圖案155蝕刻第二無機絕緣層151時，如圖8E所示，形成第二接觸孔H2通過其形成的層間絕緣層150。
[0104]這里，第二接觸孔H2的尺寸和寬度小于第一接觸孔H1和開口部0P的尺寸和寬度。因此，層間絕緣層150的端部可以形成在通過第一接觸孔H1暴露的漏電極DE的上表面上。
[0105]然后，通過清除處理從層間絕緣層150去除感光圖案155。
[0106]參考圖8F，在層間絕緣層150上形成第二透明導電層。通過圖案化處理圖案化第二透明導電層從而在層間絕緣層150上形成像素電極PE。像素電極PE通過第一接觸孔H1和第二接觸孔H2接觸漏電極DE。
[0107]在圖7中示出的黑色矩陣170形成在像素電極PE上從而與阻擋區(qū)域對應。從而，完成第一基板100。
[0108]如上所述，有機絕緣層140包括在其中形成薄膜晶體管Tr的阻擋區(qū)域BA中具有相對小厚度的下部LP。因此，可以降低用來通過層間絕緣層150形成第二接觸孔H2的感光層153的厚度。因此，能夠改善感光層153的溶解能力。因此，可以精確地形成微接觸孔，并且可以降低曝光處理的難度。
[0109]盡管已經(jīng)描述了本發(fā)明的示例性實施方式，但應當理解的是，本發(fā)明不應局限于這些示例性實施方式，而是在如后文所要求的本發(fā)明的精神和范圍內，本領域技術人員可做出各種改變和變形。
【主權項】
1.一種液晶顯示器，包括: 第一基板； 第二基板，面向所述第一基板；以及 液晶層，插入所述第一基板與所述第二基板之間， 其中，所述第一基板包括: 第一絕緣基板； 薄膜晶體管，設置在所述第一絕緣基板上并且包括漏電極； 絕緣層，覆蓋所述薄膜晶體管并且包括具有不同高度的上部和下部，其中，所述絕緣層具有通過所述下部形成從而曝露所述漏電極的開口； 參考電極，設置在所述絕緣層上； 層間絕緣層，覆蓋所述參考電極；以及 像素電極，設置在所述層間絕緣層上并且通過所述開口電連接至所述漏電極。2.根據(jù)權利要求1所述的液晶顯示器，其中，所述參考電極進一步形成在所述上部和所述下部上方。3.根據(jù)權利要求2所述的液晶顯示器，其中，所述參考電極曝露所述漏電極的至少一部分。4.根據(jù)權利要求1所述的液晶顯示器，進一步包括保護層，設置在所述絕緣層下方從而覆蓋所述薄膜晶體管，其中，所述保護層包括貫通形成的第一接觸孔從而曝露所述漏電極的至少一部分。5.根據(jù)權利要求4所述的液晶顯示器，其中，所述層間絕緣層覆蓋所述參考電極并且具有貫通形成的第二接觸孔從而曝露所述漏電極的所述至少一部分。6.根據(jù)權利要求5所述的液晶顯示器，其中，所述第二接觸孔設置在所述開口中。7.根據(jù)權利要求6所述的液晶顯示器，其中，所述第二接觸孔的尺寸和寬度小于所述開口的尺寸和寬度。8.根據(jù)權利要求7所述的液晶顯示器，其中，所述第一接觸孔具有與所述第二接觸孔的所述尺寸和寬度對應的尺寸和寬度。9.根據(jù)權利要求7所述的液晶顯示器，其中，所述第一接觸孔的所述尺寸和寬度與所述開口的所述尺寸和寬度對應。10.根據(jù)權利要求5所述的液晶顯示器，其中，所述像素電極通過所述第一接觸孔和所述第二接觸孔直接接觸所述漏電極。11.根據(jù)權利要求1所述的液晶顯示器，其中，所述第一基板進一步包括: 濾色層，包括多個彩色像素；以及 黑色矩陣，形成在所述彩色像素之間， 其中，當在平面圖中觀察時，所述下部和所述開口形成在形成有所述黑色矩陣的區(qū)域中。12.根據(jù)權利要求1所述的液晶顯示器，其中，所述第二基板進一步包括: 第二絕緣基板，面向所述第一絕緣基板并且連接到所述第一絕緣基板； 濾色層，設置在所述第二絕緣基板上并且包括多個彩色像素；以及 黑色矩陣，設置在所述彩色像素之間，其中，當在平面圖中觀察時，所述下部和所述開口設置在形成有所述黑色矩陣的區(qū)域中。13.—種制造液晶顯示器的方法，所述液晶顯示器包括第一基板、面向所述第一基板的第二基板、以及插入在所述第一基板和所述第二基板之間的液晶層，所述方法包括: 形成第一基板，包括: 在第一絕緣基板上形成包括漏電極的薄膜晶體管； 形成有機絕緣圖案，所述有機絕緣圖案i)覆蓋所述薄膜晶體管并且ii)包括具有不同高度的上部和下部，其中，所述下部至少形成在所述漏電極上方； 在所述有機絕緣圖案上方形成參考電極； 使用所述參考電極作為掩模蝕刻所述有機絕緣圖案從而形成具有貫通形成的開口的絕緣層，其中，所述開口曝露所述漏電極； 形成層間絕緣層從而覆蓋所述參考電極；以及 在所述層間絕緣層上方形成像素電極，使得所述像素電極通過所述開口電連接至所述漏電極。14.根據(jù)權利要求13所述的方法，進一步包括在形成所述薄膜晶體管之后形成覆蓋所述薄膜晶體管的第一無機絕緣層。15.根據(jù)權利要求14所述的方法，其中，所述形成有機絕緣圖案包括: 在所述第一無機絕緣層上方形成感光有機絕緣層；以及 使用半色調掩模通過曝光處理圖案化所述感光有機絕緣層，從而形成包括所述上部和所述下部的所述有機絕緣圖案。16.根據(jù)權利要求15所述的方法，其中，所述形成層間絕緣層包括: 在所述參考電極和所述有機絕緣圖案上方形成第二無機絕緣層； 在所述第二無機絕緣層上形成感光圖案，所述感光圖案具有貫通形成的開孔；以及使用所述感光圖案作為掩模蝕刻所述第一無機絕緣層和所述第二無機絕緣層，從而形成通過所述第一無機絕緣層的第一接觸孔和通過所述第二無機絕緣層的第二接觸孔，其中，所述第一接觸孔和所述第二接觸孔曝露所述漏電極的至少一部分。17.根據(jù)權利要求15所述的方法，其中，蝕刻所述第一無機絕緣層從而形成保護層，所述保護層具有貫通形成的第一接觸孔，其中，當使用所述參考電極作為掩模蝕刻所述有機絕緣圖案時，所述第一接觸孔對應于所述開口。18.根據(jù)權利要求17所述的方法，其中，所述形成層間絕緣層包括: 在所述參考電極和所述有機絕緣圖案上方形成第二無機絕緣層； 在所述第二無機絕緣層上方形成感光圖案，所述感光圖案具有貫通形成的開孔；以及使用所述感光圖案作為掩模蝕刻所述第二無機絕緣層，從而形成通過所述第二無機絕緣層的第二接觸孔，使得通過所述第二接觸孔曝露所述漏電極的至少一部分。19.根據(jù)權利要求18所述的方法，其中，所述第二接觸孔形成在所述開口中。20.根據(jù)權利要求19所述的方法，其中，所述第二接觸孔的尺寸和寬度小于所述開口的尺寸和寬度。
【專利摘要】公開了液晶顯示器及其制造方法。在一個方面中，液晶顯示器包括第一基板、面向第一基板的第二基板、以及插入第一基板和第二基板之間的液晶層。第一基板包括第一絕緣基板；形成在第一絕緣基板上方并且包括漏電極的薄膜晶體管(TFT)；以及絕緣層，覆蓋TFT并且包括具有不同高度的上部和下部，其中，絕緣層具有通過下部形成從而曝露漏電極的開口。第一基板也包括形成在絕緣層上方的參考電極；覆蓋參考電極的層間絕緣層；以及形成在層間絕緣層上方并且通過開口電連接至漏電極的像素電極。
【IPC分類】H01L27/12, G02F1/1362, G02F1/1368
【公開號】CN105278188
【申請?zhí)枴緾N201510279563
【發(fā)明人】樸廷敏, 金智賢, 樸成均, 李政洙, 田俊, 曹基鉉
【申請人】三星顯示有限公司
【公開日】2016年1月27日
【申請日】2015年5月27日
【公告號】US20150346529