技術(shù)編號：9916478
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。 半導(dǎo)體制造的光刻工序中，為了在晶圓上形成對應(yīng)集成電路的光致抗蝕劑圖案， 使用步進器(縮小投影曝光裝置)等半導(dǎo)體制造裝置。表膜是在具有框形狀的表膜框的一個 端面張架透明薄膜而得到的，防止異物直接附著于掩模上而形成電路圖案的缺陷。具體而 言，即使光刻工序中異物附著于表膜上，涂布有光致抗蝕劑的晶圓上運些異物也無法成像。 由此，能夠防止由異物的圖像導(dǎo)致的電路圖案的缺陷所引起的半導(dǎo)體集成電路的短路及斷 路等，能夠提局光刻工序的制造成品率。 近年，伴隨半導(dǎo)體裝置的高...
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