技術(shù)編號(hào)：9816504
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。在集成電路的制造中使用的光學(xué)光刻(Photolithography或opticallithography)系統(tǒng)已存在一段時(shí)間。已證明此些系統(tǒng)在產(chǎn)品中的極小細(xì)節(jié)的精確制造及形成中極為有效。在一些光學(xué)光刻系統(tǒng)中，通過經(jīng)由光或輻射束(例如，UV或紫外光)轉(zhuǎn)印圖案而將電路圖像寫入于襯底上。舉例來說，光刻系統(tǒng)可包含將電路圖像投影穿過比例光罩且投影到涂覆有對(duì)輻照敏感的材料(例如，光致抗蝕劑)的硅晶片上的光或輻射源。經(jīng)暴露光致抗蝕劑通常形成在顯影之后在后續(xù)處理步驟(如(...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。