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磁控濺射裝置及磁控濺射方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):9781250

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目前,磁控濺射鍍膜技術(shù)已經(jīng)發(fā)展比較成熟,具有沉積速度快、基材溫升低、濺射靶材種類多等優(yōu)勢(shì),所沉積的薄膜具有純度高、損傷小、致密性好、均勻性好、附著力強(qiáng)、工藝重復(fù)性好等系列優(yōu)點(diǎn)。此外,磁控濺射技術(shù)由于裝置較簡(jiǎn)單,同時(shí)可以精確控制膜層厚度,易于實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化,備受薄膜生產(chǎn)廠家的青睞。隨著平板顯示產(chǎn)業(yè)、光存儲(chǔ)器產(chǎn)業(yè)以及太陽(yáng)能電池產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展,人們對(duì)大面積鍍膜技術(shù)提出要求,主要面臨三個(gè)方面的問(wèn)題I)薄膜的均勻性(包括薄膜厚度、薄膜組成等)難以控制。2)薄膜生產(chǎn)工藝的...
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