技術(shù)編號(hào)：9781246
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。二硫化鎢薄膜由于具有優(yōu)異的減摩耐磨特性，較高的光吸收系數(shù)、較強(qiáng)的熱穩(wěn)定性和化學(xué)惰性，使其在機(jī)械、電子、光電轉(zhuǎn)換、工業(yè)催化、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域具有廣闊的研究前景和應(yīng)用價(jià)值。目前，制備二硫化鎢薄膜材料的主要方法有物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積法、脈沖激光沉積和硫化法等。在這些方法中，物理氣相沉積制備的薄膜膜-基結(jié)合強(qiáng)度較高，因而在航空航天領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。其中射頻濺射技術(shù)不但解決了半導(dǎo)體靶材不易導(dǎo)電引起靶表面的電荷積累問題，而且有效提高了靶材的離化率，保證薄膜有...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。