技術(shù)編號(hào)：9706171
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。光刻機(jī)生產(chǎn)過(guò)程是一系列的極為復(fù)雜、昂貴、耗時(shí)的光刻工藝過(guò)程。光刻機(jī)的光刻精度和產(chǎn)率高低直接決定了光刻設(shè)備的設(shè)計(jì)和制造，市場(chǎng)急待高產(chǎn)量、高精度高質(zhì)量的光刻設(shè)備。在技術(shù)需求推動(dòng)下，國(guó)外主要光刻設(shè)備廠商均采用了平衡質(zhì)量或反力外引技術(shù)，克服光刻機(jī)工件臺(tái)運(yùn)動(dòng)時(shí)的反作用力，從而突破產(chǎn)率和系統(tǒng)精度制約。平衡質(zhì)量技術(shù)使工件臺(tái)粗動(dòng)模塊的負(fù)載質(zhì)量、速度和加速度都得到較大幅度增加；同時(shí)工件臺(tái)運(yùn)動(dòng)反作用于基礎(chǔ)框架的力大幅降低，在很大程度上減小了光刻機(jī)系統(tǒng)的減震難度，避免了工件臺(tái)運(yùn)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。