技術(shù)編號：9685272
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及極紫外光學(xué)技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域，特別涉及。技術(shù)背景極紫外光刻(ExtremeUltrav1let Lithography，EUVL)技術(shù)是使用EUV波段，主要是13.5nm波段，進行光刻的微納加工技術(shù)。目前，EUVL技術(shù)已經(jīng)能夠?qū)崿F(xiàn)7nm線寬的刻蝕工藝，并具備進一步縮小刻蝕線寬的可能性。這在大規(guī)模集成電路制造領(lǐng)域具有重要意義，能夠?qū)崿F(xiàn)更大密度的元件集成，以及更低的能耗，極紫外光學(xué)相關(guān)技術(shù)的研究具有重大的社會和經(jīng)濟價值。極紫外光刻使用波長為10?14nm光...
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