技術(shù)編號：9467188
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種提高低氣壓下等離子體噴涂沉積率的方法，屬于等離子應(yīng)用領(lǐng)域。背景技術(shù)等離子噴涂是涂層制備中最常用的技術(shù)之一，通常是將粉體材料輸送到高溫等離子體束中，粉體材料在高溫等離子體束中被瞬間加熱到熔化或者半熔化狀態(tài)，并以一定的速度噴射撞擊到工件表面形成涂層。目前低氣壓等離子噴涂已成為該領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)，在低氣壓條件下，等離子體束表面出與常壓條件下不同的特性。低氣壓條件下，環(huán)境對等離子體束的影響減小，粉體顆粒在等離子體束中的加熱時(shí)間延長，利于粉體材料充分熔化...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。