技術(shù)編號：9439086
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。極紫外(EUV)光源，例如具有約50nm或更小波長(有時也稱作軟x射線)以及包括在約13nm波長的電磁輻射，可以用于光刻工藝以在例如硅晶片之類的襯底中產(chǎn)生極小的特征。用于產(chǎn)生EUV光的方法包括但不必限于采用EUV范圍中的幅射線將具有例如氙、鋰或錫元素的材料轉(zhuǎn)換為等離子體狀態(tài)。在通常稱作激光產(chǎn)生等離子體(LPP)的一個這種方法中，等離子體可以通過采用可以稱作驅(qū)動激光的放大光束照射形式例如為材料的微滴、平板、條帶、流束或簇而產(chǎn)生。對于該過程，等離子體通常產(chǎn)生在...
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