技術(shù)編號(hào)：9437441
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 近年來(lái)，電子設(shè)備的小型化、高性能化日益進(jìn)展，尤其是W個(gè)人電腦、智能手機(jī)為 代表的數(shù)碼設(shè)備、移動(dòng)終端正在實(shí)現(xiàn)飛躍性的進(jìn)步。眾所周知，在牽引、支持該進(jìn)步的各種 各樣的技術(shù)中，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的技術(shù)革新發(fā)揮了重大作用。在近年來(lái)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，就布線 圖案尺寸而言，已呈現(xiàn)為在小于20nm的領(lǐng)域開發(fā)競(jìng)爭(zhēng)的態(tài)勢(shì)，各公司正急于建立最先進(jìn)的 生產(chǎn)線。 光刻（lithography)工序是在半導(dǎo)體部件的制造中形成圖案的工序。隨著近年來(lái) 的圖案微細(xì)化，不僅對(duì)光刻工序中使用的藥液本...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。