技術(shù)編號(hào)：9374317
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 最近，半導(dǎo)體行業(yè)已發(fā)展到具有幾納米到幾十納米尺寸的圖案的超精細(xì)技術(shù)。所 述超精細(xì)技術(shù)主要需要有效的光刻技術(shù)。典型的光刻技術(shù)包含在半導(dǎo)體襯底上提供材料 層；在材料層上涂布光刻膠層；曝光且顯影所述光刻膠層以提供光刻膠圖案；以及使用所 述光刻膠圖案作為掩模來蝕刻所述材料層。當(dāng)今，根據(jù)即將形成的圖案的較小尺寸，僅僅通 過上述典型的光刻技術(shù)難以提供輪廓清晰的精細(xì)圖案。因此，可在材料層與光刻膠層之間 形成被稱作硬掩模層的層來得到精細(xì)圖案。硬掩模層起到中間層的作用，用...
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