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用于高電子遷移率晶體管的高阻襯底以及生長(zhǎng)方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):9328774

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氮化物半導(dǎo)體如氮化鎵(GaN)及其合金氮化鋁鎵(AlGaN)等是重要的寬禁帶化合物半導(dǎo)體。由于具有大的禁帶寬度、高的擊穿電場(chǎng),高的電子飽和漂移速度和峰值漂移速度,更重要的是AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)界面形成有高電子濃度和高電子迀移率的二維電子氣(2DEG),因此氮化物半導(dǎo)體在高溫、高頻、大功率、抗輻射微波器件或高功率電子器件及其電路中有非常重要的應(yīng)用前景。為了實(shí)現(xiàn)氮化鎵基高電子迀移率晶體管(HEMT)的夾斷等性能,在氮化鎵基HEMT器件材料結(jié)構(gòu)中其導(dǎo)電溝道必...
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