技術(shù)編號(hào):9328774
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。氮化物半導(dǎo)體如氮化鎵(GaN)及其合金氮化鋁鎵(AlGaN)等是重要的寬禁帶化合物半導(dǎo)體。由于具有大的禁帶寬度、高的擊穿電場(chǎng),高的電子飽和漂移速度和峰值漂移速度,更重要的是AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)界面形成有高電子濃度和高電子迀移率的二維電子氣(2DEG),因此氮化物半導(dǎo)體在高溫、高頻、大功率、抗輻射微波器件或高功率電子器件及其電路中有非常重要的應(yīng)用前景。為了實(shí)現(xiàn)氮化鎵基高電子迀移率晶體管(HEMT)的夾斷等性能,在氮化鎵基HEMT器件材料結(jié)構(gòu)中其導(dǎo)電溝道必...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。