技術(shù)編號(hào):92478
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及的是產(chǎn)生具有加熱并展寬等離子噴射的等離子流的方法及裝置,尤其是,它涉及使用感應(yīng)線圈來(lái)加熱從等離子噴射槍噴出的等離子流。等離子噴槍經(jīng)常被用于將材料,例如金屬或陶瓷噴涂到一個(gè)物體工件上,進(jìn)行涂膜或成型,該工件通常被稱作靶。在典型的等離子體噴涂操作中,沉積材料先被形成粉狀質(zhì)點(diǎn),然后這些質(zhì)點(diǎn)注入到等離子體中。理想的情況,來(lái)自等離子體的熱射流氣體加熱粉末質(zhì)點(diǎn)到其熔點(diǎn),并加速質(zhì)點(diǎn)以備沉積在靶上。如果全部注入的質(zhì)點(diǎn)被相同地加熱和加速,以及如果全部的質(zhì)點(diǎn)停留在等離子體氣流中,直到被傳送到靶上,則沉積材料具有高的均勻密度及...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路,無(wú)完整電路圖,適合研究學(xué)習(xí)。