技術(shù)編號(hào)：9236667
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的形態(tài)涉及一種靜電吸盤。背景技術(shù)在進(jìn)行蝕刻(etching)、化學(xué)汽相沉積(CVD(Chemical Vapor Deposit1n))、派射(sputtering)、離子注入、灰化、曝光、檢查等的基板處理裝置中，作為吸附保持半導(dǎo)體晶片或玻璃基板等被吸附物(處理對(duì)象物)的單元而使用靜電吸盤。靜電吸盤是在氧化鋁等的陶瓷電介體基板之間夾住電極并進(jìn)行燒成而制作的。靜電吸盤是在內(nèi)置的電極上外加靜電吸附用電力，并通過靜電力來吸附硅晶片等的基板。在這樣的基板處理...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。