技術(shù)編號：9124885
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及一種在平板顯示面板等大型面板的制造工藝中，通過接近式曝光機主要形成線條圖案的接近式曝光用光掩膜。背景技術(shù)通過接近式曝光機使開口圖案曝光時，若開口寬度接近分辨率極限，則難以形成線寬。目前，通過縮短接近間隙(以下，簡稱“間隙”)，即通過縮短掩膜和被曝光對象之間的距離，對這些問題進行處理。針對接近式曝光，專利文獻I公開了一種在制造用于液晶顯示裝置的彩色濾光片時，優(yōu)選用于半色調(diào)曝光中的接近式曝光用灰度掩膜(專利文獻I)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻1日本特開...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。