技術(shù)編號:9068881
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。作為LC復(fù)合元器件,可利用下述結(jié)構(gòu)通過設(shè)置于多層基板的層間的電極圖案來構(gòu)成線圈和電容器,并連接這些線圈和電容器來構(gòu)成LC濾波器(參照專利文獻(xiàn)I。)?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1日本專利特開平5-335866號公報(bào)實(shí)用新型內(nèi)容實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在現(xiàn)有的LC復(fù)合元器件中,由于越是靠近線圈在多層基板內(nèi)部產(chǎn)生的磁場越強(qiáng),因此,若電容器等電極圖案設(shè)置于線圈附近,則磁通會繞過電極圖案從而導(dǎo)致線圈的電感值下降。由此,為了在不對線圈結(jié)構(gòu)進(jìn)行較大改動的情況下將電感...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路,無完整電路圖,適合研究學(xué)習(xí)。