技術(shù)編號：8927080
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。 本文中公開的主題大體涉及中性射束注入器，并且更具體地涉及基于負離子的中 性射束注入器。背景技術(shù) 直至目前，在磁熔化研宄、材料加工、蝕刻、殺菌和其它應(yīng)用中使用的中性射束均 由正離子形成。通過靜電場從氣體放電等離子提取和加速正氫同位素離子。在加速器的地 平面之后，它們進入氣室，在此它們既經(jīng)受電荷交換反應(yīng)來獲取電子且又經(jīng)受碰撞離子化 反應(yīng)來再次失去電子。由于電荷交換剖面隨著增大的能量而比離子化更快地減少，因而厚 氣室中的平衡中性部分在用于氫粒子的大于60keV...
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