技術(shù)編號(hào)：8543026
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 光學(xué)投影曝光技術(shù)自1978年誕生W來，先后經(jīng)歷了g線、i線、248皿、193皿等幾 個(gè)技術(shù)發(fā)展階段。從出現(xiàn)至今的短短幾十年的時(shí)間里，受到社會(huì)信息化進(jìn)程的強(qiáng)烈牽引，與 光學(xué)投影曝光技術(shù)相關(guān)的集成電路先后經(jīng)歷了小規(guī)模、超大規(guī)模直至極大規(guī)模等幾個(gè)發(fā)展 階段，極大規(guī)模集成電路已經(jīng)成為高發(fā)展的基石，從衛(wèi)星、火箭等航空航天領(lǐng)域， 到雷達(dá)、激光制導(dǎo)導(dǎo)彈國防領(lǐng)域，W及人們?nèi)粘Ｉ畹母鱾€(gè)領(lǐng)域都離不開極大規(guī)模集成電 路，它不僅是主要的信息處理器件，同時(shí)也發(fā)展成為信息存儲(chǔ)的重...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。