技術(shù)編號(hào)：8458267
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 光刻工藝是通過(guò)一系列生產(chǎn)步驟將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝。在此之 后，晶圓表面會(huì)留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。 在晶圓的制造過(guò)程中，晶體三極管、二極管、電容、電阻和金屬層等的各種物理部 件在晶圓表面或表層內(nèi)構(gòu)成。這些部件是每次在一個(gè)掩膜層上生成的，并且結(jié)合生成薄膜 及通過(guò)光刻工藝過(guò)程去除特定部分，最終在晶圓上保留特征圖形的部分。光刻工藝的目標(biāo) 是根據(jù)電路設(shè)計(jì)的要求，在晶圓表面的正確位置生成尺寸精確且與其它部件正確關(guān)聯(lián)的特 征圖形。 光刻是所有半導(dǎo)體制造...
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