技術(shù)編號：8429921
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。隨著多構(gòu)圖技術(shù)(例如雙構(gòu)圖技術(shù))的應用，不可避免地會給光刻工藝帶來更加嚴格的對準規(guī)定(Overlay Spec.)。對于每個單獨的掩膜版,現(xiàn)有的光學臨近修正(OpticalProximity Correct1n, 0PC)制程僅致力于滿足關(guān)鍵尺寸(⑶)這一目標。尤其是對于金屬層，傳統(tǒng)的選擇性尺寸調(diào)整(Selective Size Adjustment, SSA)處理方法將原始設計分離成多個相互獨立的圖案。當這些分開的掩膜版上的圖案特征(feature)通過...
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