技術(shù)編號：8423443
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展,在運動傳感器(mot1n sensor)類產(chǎn)品的市場上,智能手機(jī)、集成CMOS和微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)器件日益成為最主流、最先進(jìn)的技術(shù)，并且隨著技術(shù)的更新，這類傳動傳感器產(chǎn)品的發(fā)展方向是規(guī)模更小的尺寸，高質(zhì)量的電學(xué)性能和更低的損耗?，F(xiàn)有技術(shù)中制備所述運動傳感器(mot1n sensor)時大多數(shù)時候需要用到深反應(yīng)離子刻蝕(DRIE)系統(tǒng)，反應(yīng)離子刻蝕是集成電路制造、MEMS加工及其他器件加工的重要工序之一。主要用于多晶硅、氮化硅、...
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