技術(shù)編號：83540
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。技術(shù)領(lǐng)域公開的方法和系統(tǒng)一般涉及摻雜物擴散和激活控制，更具體地說，涉及使用光學(xué)照射的摻雜物擴散和激活控制。 背景技術(shù)常規(guī)的離子摻雜系統(tǒng)包括離子化摻雜物材料例如硼、加速這些離子以形成具有既定能級的離子束、以及將離子束能量引導(dǎo)到半導(dǎo)體表面或晶圓上，以將摻雜物材料引入半導(dǎo)體中并改變半導(dǎo)體的導(dǎo)電特性。一旦離子被嵌入到半導(dǎo)體的晶格中，就可使用幾種已知方法使離子激活，例如包括快速熱退火(RTA)(快速熱處理(RTP)的一種形式)。在RTA期間，半導(dǎo)體可例如曝光于熱源，以將半導(dǎo)體快速加熱到規(guī)定溫度，并保持規(guī)定時間。RTA或其它形...
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