技術(shù)編號：8344558
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。光刻設(shè)備是一種將期望的圖案應(yīng)用到襯底上，通常是襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(ICs)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩?；蜓谀０娴膱D案形成裝置用于生成將要在所述IC的單層上形成的電路圖案。這種圖案可以被轉(zhuǎn)移到襯底(例如娃晶片)上的目標(biāo)部分(例如包括部分管芯、一個或若干個管芯)上。通常，圖案轉(zhuǎn)移是通過將圖案成像到設(shè)置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)的層上。通常，單個襯底將包含被連續(xù)圖案化的相鄰的目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。已知的光刻設(shè)...
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