技術編號:8341310
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。 本發(fā)明涉及半導體領域,尤其涉及。背景技術 由于各種電子組件(例如,晶體管、二極管、電阻器、電容器等)的集成密度的不斷 改進,半導體工業(yè)已經經歷了快速增長。集成密度的這種改進主要來自最小部件尺寸的反 復減?。ɡ?,將半導體工藝節(jié)點向著亞20nm節(jié)點縮?。@允許更多的組件集成到給定 區(qū)域。產生的增大的集成密度通常產生改進的集成電路,諸如具有減小的延遲的集成電路。 然而,最小部件尺寸的減小和密度的增大可能導致制造的集成電路中的問題,該問題可能 降低集成電路的...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。