技術(shù)編號(hào)：8338717
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及遠(yuǎn)紫外光刻工藝和掩模。交叉參考本專利申請(qǐng)與2013年9月6日提交的名稱為“遠(yuǎn)紫外光刻工藝和掩?！钡拿绹?4/020, 302號(hào)相關(guān)，其全部內(nèi)容通過引用結(jié)合于此。背景技術(shù)半導(dǎo)體集成電路(IC)產(chǎn)業(yè)在過去的幾十年里已經(jīng)經(jīng)歷了快速增長。半導(dǎo)體材料和設(shè)計(jì)中的技術(shù)進(jìn)步已經(jīng)產(chǎn)生越來越小并且更復(fù)雜的電路。由于與加工和制造相關(guān)的技術(shù)也已經(jīng)經(jīng)歷技術(shù)進(jìn)步，這些材料和設(shè)計(jì)進(jìn)步已經(jīng)成為可能。隨著器件部件尺寸(諸如柵極長度)降低，帶來了許多挑戰(zhàn)。高分辨率光刻工藝通常是降...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。