技術(shù)編號(hào):8302379
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。為了實(shí)現(xiàn)我國(guó)超大規(guī)模集成電路的跨越式發(fā)展,國(guó)家將2020年實(shí)現(xiàn)45nm?22nm刻線作為我國(guó)微電子產(chǎn)業(yè)的中長(zhǎng)期發(fā)展規(guī)劃,并由此制定了國(guó)家科技重大專項(xiàng)02專項(xiàng)。過(guò)去的幾十年,微電子產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展,集成電路最小特征尺寸決定了一個(gè)晶片上所能集成的晶體管數(shù)量,也決定了集成電路運(yùn)行速度和存儲(chǔ)容量。光刻技術(shù)作為集成電路的技術(shù)基礎(chǔ),是決定集成電路發(fā)展速度的一個(gè)重要因素。光刻機(jī)分辨率的物理極限R決定了集成電路的最小特征尺寸,光刻機(jī)分辨率的物理極限R決定了集成電路的最小特征尺...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路,無(wú)完整電路圖,適合研究學(xué)習(xí)。