技術(shù)編號(hào)：8285873
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積技術(shù)大量運(yùn)用于平板顯示、光學(xué)、微電子、傳感器及各種器件的研發(fā)和生產(chǎn)中。而薄膜沉積過程中的生長速度和厚度以及它的均勻度是非常重要的參數(shù)。特別在生產(chǎn)中其均勻性對(duì)產(chǎn)品的成品率有很大的影響，因此在一些大型儀器的調(diào)試、檢測和驗(yàn)收中都是一個(gè)重要的指標(biāo)。但是現(xiàn)有的測量方法是用在腔體內(nèi)沉積整片樣品或在主要的檢測點(diǎn)放置小的基片后取出用臺(tái)階儀、橢偏儀等膜厚測試設(shè)備來測量厚度，其過程相當(dāng)繁復(fù)，耗時(shí)而且所用設(shè)備也相當(dāng)昂貴。此外用這種方式來進(jìn)行測試不僅費(fèi)時(shí)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。