技術(shù)編號：8281621
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。現(xiàn)有的曝光機(jī)對基板的主體部分進(jìn)行曝光，但是基板的邊緣，特別是基板相對的兩長邊(在光阻涂布的起始端與末端位置)較容易形成光阻殘留，從而導(dǎo)致后段部件所需要用到的對位圖案被遮住，造成基板報廢。為了解決此問題，現(xiàn)在普遍的做法為在主體曝光完成后增加一個邊緣曝光的工藝，其主要功用為防止靜電的產(chǎn)生及后段框膠貼附的質(zhì)量，另一個功用就是去除基板四周的不必要的殘留。圖1示出了現(xiàn)有的用于曝光顯影的設(shè)備，其包括主體曝光機(jī)10、邊緣曝光裝20及顯影裝置30?；逵芍黧w曝光機(jī)10進(jìn)行...
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