技術編號：8256592
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。投影曝光裝置廣泛應用于制造半導體元件或液晶顯示元件中，將掩模上的圖案經(jīng)過投影光學系統(tǒng)，投影到硅片或者玻璃基板上。近年來，隨著液晶，LED等元件尺寸的不斷提高，單個投影光學系統(tǒng)已經(jīng)不能滿足尺寸需求，將多個具有相同倍率的投影光學系統(tǒng)以規(guī)定間隔配置起來，組成一個大的投影光學系統(tǒng)，一邊將掩模和玻璃基板進行同時運動掃描，一邊利用投影光學系統(tǒng)將掩模上的圖案曝光至玻璃基板上。日本專利JP2005024584提出一種多個物鏡組成的拼接式光學系統(tǒng)，各物鏡均為I倍放大倍率，單...
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