技術(shù)編號:8256580
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。 本發(fā)明的一個方面涉及包含取代的碳環(huán)或雜芳基的新型鎗產(chǎn)酸劑。背景技術(shù) 光刻膠是能夠?qū)D像轉(zhuǎn)移到基底上的光敏膜。它們形成負像或正像。在基底上涂 上光刻膠之后,涂層通過圖案化的光掩模曝光于激活能量源例如紫外線,在光刻膠涂層中 形成潛像。光掩模具有對活化輻射不透明和透明區(qū)域,這種區(qū)域能夠限定希望轉(zhuǎn)到下層基 底上的圖像。使光刻膠層中的潛像顯影提供立體像。 對于許多現(xiàn)有的商業(yè)應(yīng)用來說,已知的光刻膠可以提供足夠的分辨率和尺寸。然 而,對于許多其它應(yīng)用,需要能夠提供亞微...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。