技術(shù)編號(hào)：8213690
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及曲面光學(xué)元件加工的，具體涉及。背景技術(shù)現(xiàn)代光學(xué)系統(tǒng)對(duì)光學(xué)元件的表面粗糙度提出了越來(lái)越苛刻的要求。在某些應(yīng)用領(lǐng)域，光學(xué)元件的表面粗糙度要求甚至優(yōu)于0.1nmo傳統(tǒng)的光學(xué)元件研磨技術(shù)往往難以滿(mǎn)足現(xiàn)代光學(xué)系統(tǒng)的上述超光滑表面要求，基于低能寬束離子源的離子束光滑技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。該技術(shù)是采用低能寬束離子源以較大入射角掠入射光學(xué)元件表面，在表面原子的表面迀移作用下達(dá)到改善光學(xué)元件表面粗糙度的目的。該技術(shù)在改善平面光學(xué)元件表面粗糙度時(shí)觀察到了較好的表面粗糙度改善...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。