技術(shù)編號：8191705
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及基于等離子體的濺射沉積。特別是，但非通過限制的方式，本發(fā)明涉及用于使用直流電源來進(jìn)行基于等離子體的處理的方法和裝置。背景技術(shù)等離子體處理技術(shù)已被廣泛使用在諸如等離子體氣相沉積、濺射等用于工業(yè)處理的工業(yè)生產(chǎn)中。這些處理在薄膜應(yīng)用中特別有用。為了產(chǎn)生等離子體，電源在位于等離子體室內(nèi)的陰極與一個(gè)或多個(gè)陽極之間產(chǎn)生電勢，該等離子體室含有形成等離子體的工藝氣體。當(dāng)使用這些處理進(jìn)行沉積時(shí)，等離子體作用在位于等離子體室內(nèi)的靶材(也稱作濺射源)的物質(zhì)上，該等離子體室通常包含陰極表面。等離子體離子被朝著靶材加速，并...
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