專利名稱：利用光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種利用光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)，更具體而言，涉 及一種在不以大量生產(chǎn)為目的的、利用單位尺寸硅襯底的小規(guī)模研 究活動(dòng)中，利用了光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)，該光學(xué)顯孩t鏡以低廉的 費(fèi)用能夠形成多種選擇性圖案而不使用高價(jià)光掩模。
背景技術(shù)：
在如下一代電子器件的半導(dǎo)體開發(fā)研究中，制作所希望的圖
案，為了金屬蒸鍍或者蝕刻過(guò)程必定需要光刻(Photolithography)工程。
在此，光刻是在現(xiàn)有的半導(dǎo)體工序所必需的技術(shù)之一，是指在 半導(dǎo)體襯底上薄薄地涂敷其性質(zhì)見(jiàn)特定波長(zhǎng)的光就反應(yīng)變化的化 學(xué)物質(zhì)即感光劑(Photoresist),然后選擇性地曝光所希望的部分， 從而形成圖案的技術(shù)。
為了區(qū)分此時(shí)要曝光的部分和不曝光部分，采用由不使光線透 過(guò)的如金屬等物質(zhì)制作的掩模或者陰影清晰的薄膜掩模。
現(xiàn)有的光刻設(shè)備具有如下優(yōu)點(diǎn)能夠進(jìn)行微米(um)量級(jí)的圖 案制作，能夠?qū)⑺谱鞯囊粋€(gè)掩模反復(fù)使用，工序快，因此是使用 于現(xiàn)有的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中的具有代表性的必需設(shè)備之一。
但是，現(xiàn)有的光刻設(shè)備是以量產(chǎn)為目的而被制作的，而且價(jià)格 昂貴，總是需要掩模制作工序，所以存在研究階段不易輕松采用的 問(wèn)題。
另外，還存在如下問(wèn)題利用光刻的工序所必需的掩模的價(jià)格 也很昂貴，而且無(wú)法變更已制作好的掩模的圖案，要制造復(fù)雜的結(jié) 構(gòu)物則需要多片掩模。
因此，由于如上所述的現(xiàn)有的光刻設(shè)備具有其局限性，所以從 如下一代半導(dǎo)體研究等，不是以大量的器件的制作為目的而是以少量的器件的制作為目的的研究階段的實(shí)情上看，迫切地需要費(fèi)用低 廉且能夠選擇性地少量多樣地形成各種圖案的可輕松采用的光刻設(shè)備。
作為用于解決上述問(wèn)題的幾種方案，在研究階段使用如電子束
刻蝕裝置(e-beain lithography )或原子力顯樣t鏡刻蝕裝置(atomic force microscope lithography )的諸設(shè)備。
但是，即使在采用上述刻蝕設(shè)備的情況下，制作器件所花費(fèi)的 時(shí)間相對(duì)現(xiàn)有的光刻設(shè)備還多，而且購(gòu)買或工序費(fèi)用昂貴，所以存 在性價(jià)比低的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
所要解決的問(wèn)題
本發(fā)明是為了解決上述問(wèn)題而提出的，本發(fā)明的目的在于，提 供如下的利用光學(xué)顯微鏡的刻蝕系統(tǒng)直接利用如下一代半導(dǎo)體制 作等以少量的器件制作為目的的研究階段的實(shí)驗(yàn)室內(nèi)能夠相對(duì)輕 松采用的光學(xué)顯微鏡，不采用昂貴的刻蝕設(shè)備就能夠制作選擇性的 圖案。
另外，利用光學(xué)顯微鏡來(lái)取代半導(dǎo)體制作工序所需的光刻工 序，其目的在于，提供一種通過(guò)省略光刻工序所必需的掩模制作及 掩模工序來(lái)節(jié)省制作費(fèi)用和縮短工序所需時(shí)間的利用光學(xué)顯微鏡 的刻蝕系統(tǒng)。
問(wèn)題解決手段
為了達(dá)到如上所述的目的，本發(fā)明的利用光學(xué)顯微鏡的光刻系 統(tǒng)，其特征在于，包括光學(xué)顯微鏡部，利用具有使感光劑反應(yīng)的
波長(zhǎng)的光源對(duì)涂敷在村底上的感光劑表面對(duì)焦并進(jìn)行曝光；載物臺(tái)
部，與上述光學(xué)顯微鏡部的下部連接，裝載上述涂敷了感光劑的襯
底，以只對(duì)所期望的感光劑部位照射光源的方式移動(dòng)上述襯底；控 制部，控制上述光學(xué)顯微鏡部和栽物臺(tái)部的整個(gè)系統(tǒng)。
在此，其特征在于，上述光學(xué)顯微鏡部包括光源部，產(chǎn)生具 有可使感光劑反應(yīng)的波長(zhǎng)的光源；光源控制部，具有光圏，裝載 于由上述光源部產(chǎn)生的光源的路徑上，并縮小、擴(kuò)大、變化光源的 形狀；遮擋部(Blank)，根據(jù)分離的圖案使光源曝光時(shí)，以使光源不能傳到不期望的區(qū)域的方式遮擋光源；光學(xué)顯微鏡，傳輸通過(guò) 上述光源控制部的光，對(duì)涂敷了感光劑的襯底表面對(duì)焦并進(jìn)行曝 光。
另外，其特征在于，上述光源部選擇性地產(chǎn)生具有可使涂敷在 襯底上的感光劑反應(yīng)的波段的光源。
另外，其特征在于，上述光學(xué)顯微鏡將上述光源部產(chǎn)生的光源 對(duì)涂敷了感光劑的襯底表面對(duì)焦后照射，此時(shí)，只曝光要形成圖案 的區(qū)域并進(jìn)行光刻。
另外，其特征在于，上述載物臺(tái)部包括第一載物臺(tái)，可沿著 X軸移動(dòng)；第二載物臺(tái)，與上述第一載物臺(tái)結(jié)合，可沿著Y軸移動(dòng)； 以及驅(qū)動(dòng)馬達(dá)，驅(qū)動(dòng)上述第一及第二載物臺(tái)。
另外，其特征在于，上述控制部包括光源控制模塊，對(duì)上述 光學(xué)顯微鏡部的光源部的光源產(chǎn)生、上述光源控制部的光圏以及遮 擋部進(jìn)行控制；載物臺(tái)控制模塊，對(duì)上述載物臺(tái)部驅(qū)動(dòng)以微米單位 進(jìn)行精密控制；數(shù)據(jù)處理模塊，通過(guò)分析圖案將對(duì)光源控制所需的 控制信號(hào)傳輸給上述光源控制模塊，并將使上述載物臺(tái)部正確移動(dòng) 的控制信號(hào)傳輸給上述載物臺(tái)控制模塊。
另外，其特征在于，上述控制部，分析由用戶輸入的圖案的形 狀及大小并決定光的形狀及大小，由此控制光源控制部，根據(jù)圖案 精密控制上述載物臺(tái)部的移動(dòng)。
另外，其特征在于，上述控制部還包括接口模塊，執(zhí)行與上述 光學(xué)顯微鏡部及載物臺(tái)部的接口連接，并對(duì)通過(guò)上述光學(xué)顯微鏡部 的圖案形成過(guò)程進(jìn)行監(jiān)控。
效果
通過(guò)上述用于解決問(wèn)題的手段可知，本發(fā)明的利用光學(xué)顯微鏡 的刻蝕系統(tǒng)在用于制造下一代半導(dǎo)體器件的研究活動(dòng)中使用現(xiàn)有 的光學(xué)顯微鏡，所以不需要現(xiàn)有的昂貴的刻蝕設(shè)備，所以能夠發(fā)揮 降低購(gòu)買設(shè)備及工序的費(fèi)用的優(yōu)異效果。
另外，還能夠發(fā)揮如下有益的效果由于不需要掩模，所以能 夠減少及降低掩模制作及掩模工序所需的時(shí)間和費(fèi)用，由于利用現(xiàn) 有半導(dǎo)體器件工序中所使用的光學(xué)顯微鏡，所以設(shè)備的管理及維持 保修特性優(yōu)異，而且能夠制作少量多樣的圖案，所以在光刻設(shè)備的利用率低的研究室中也可以有效地使用，從而不僅對(duì)于半導(dǎo)體相關(guān) 研究有積極貢獻(xiàn)，而且對(duì)于需要相關(guān)技術(shù)的研究活動(dòng)也起積極作用。


圖l是利用本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例中光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)的裝置 結(jié)構(gòu)圖。
圖2是圖1的系統(tǒng)框圖。
圖3a 圖3c是圖示了本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的控制部的程序畫面和 內(nèi)部編碼的圖。
圖4是圖示了由利用本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的光學(xué)顯微鏡的光刻系 統(tǒng)制作的圖案結(jié)果的圖。
附圖中主要部分的附圖標(biāo)記說(shuō)明
10 :光學(xué)顯微鏡部110 :光源部
120:光源控制部130 :光學(xué)顯微鏡
20 :栽物臺(tái)部210 :第一栽物臺(tái)
220:第二載物臺(tái)230 :驅(qū)動(dòng)馬達(dá)
30 :控制部310 :光源控制模塊
320:栽物臺(tái)控制模塊330 :數(shù)據(jù)處理模塊
340:接口模塊
具體實(shí)施例方式
下面，針對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施例，參照附圖進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。 圖l是利用本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例中光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)的裝置 結(jié)構(gòu)圖。
圖2是圖1的系統(tǒng)框圖。
參照?qǐng)Dl及圖2，本發(fā)明中光學(xué)性刻蝕系統(tǒng)可以包括光學(xué)顯微 鏡部10，載物臺(tái)部20以及控制部30而構(gòu)成。
更具體而言，上述光學(xué)顯微鏡部10利用具有可使感光劑反應(yīng) 的波長(zhǎng)的光源對(duì)襯底上涂敷的感光劑表面對(duì)焦，由此進(jìn)行刻蝕。
在此，上述光學(xué)顯微鏡部IO可包括光源部110，產(chǎn)生具有可 使感光劑反應(yīng)的波長(zhǎng)的光源；具有遮擋部121和光圏122的光源控制部120，其中，該遮擋部121在形成圖案的過(guò)程中遮擋光源，以 避免從上述光源部射入的光^L傳輸并曝光在分離的圖案之間的感 光劑上，該光圏122裝栽于由上述光源部產(chǎn)生的光源的路徑上，并 縮小、擴(kuò)大、變化光源的形狀；光學(xué)顯微鏡130,傳輸通過(guò)上迷光 源控制部的光源，并對(duì)上涂敷感光劑的村底表面對(duì)焦由此進(jìn)行光 刻。
上述光源部110包括具有可使感光劑反應(yīng)的波段，可與涂敷在 襯底的感光劑反應(yīng)，以此進(jìn)行光刻，起到進(jìn)行照射并供給的作用。
為此，上述光源部110所產(chǎn)生的光應(yīng)該具有使常用感光劑反應(yīng) 的波長(zhǎng)，并應(yīng)該能夠使涂敷在襯底上的感光劑的性質(zhì)變化。
例如，由于通常的感光劑為了發(fā)生光反應(yīng)而照射紫外線(UV light),因此光源部能供給對(duì)應(yīng)于紫外線(UVlight)波段的光源。
在將可視光為基準(zhǔn)時(shí)，刻蝕中通常使用的感光劑的性質(zhì)在與從 大致黃色以下波長(zhǎng)起紫外線區(qū)域?yàn)橹沟姆秶鷮?duì)應(yīng)的具有高能量的 波長(zhǎng)處變化。
作為本發(fā)明的顯微鏡刻蝕中所使用的光源部110，可以采用可 向光學(xué)顯微鏡親自提供光的光源部即卣素?zé)?，此時(shí)所產(chǎn)生的光為白 色，包括寬的波長(zhǎng)范圍的光，所以只要曝光時(shí)間足夠，則能夠使感 光劑的性質(zhì)改變。
上述光源控制部120基本上要有如下結(jié)構(gòu)為了決定想要形成 的圖案的大小且要形成物理學(xué)上相互分離的圖案，應(yīng)該能夠通過(guò)光 圏122來(lái)調(diào)整光源的大小，而且根據(jù)需要，應(yīng)該能夠通過(guò)遮擋部121 來(lái)遮擋光源。
為此，上述遮擋部121只要是在襯底移動(dòng)時(shí)能夠選擇性地遮擋 (close)或傳輸(open)從光學(xué)顯微鏡向分離的圖案入射的光的結(jié) 構(gòu)，則采用任意形態(tài)均可。
上述光學(xué)顯微鏡130可使用通常所使用的光學(xué)顯微鏡，結(jié)合上 述光源部110和光源控制部120來(lái)形成光學(xué)顯孩i鏡部。
上述光學(xué)顯微鏡130為了利用從上述光源部110通過(guò)光源控制 部120的光源來(lái)正確地形成圖案，向涂敷了感光劑的襯底表面對(duì)焦 并進(jìn)行照射，此時(shí)，通過(guò)控制后述的載物臺(tái)部20的移動(dòng)，只對(duì)要形成圖案的區(qū)域照射光源以實(shí)施光刻，從而能夠得到所期望的圖 案。
上述載物臺(tái)部20裝載在上述光學(xué)顯孩吏鏡部130下部，用于裝 載涂敷了上述感光劑的襯底，發(fā)揮使上述村底移動(dòng)以使光源只照射 至所期望的感光劑部位的作用。
為此，作為用于精密控制涂敷了感光劑的襯底上形成圖案的位 置(通過(guò)光學(xué)顯微鏡的光源照射區(qū)域)的裝置，可采用沿著二維的 X、 Y兩個(gè)軸方向能夠移動(dòng)的結(jié)構(gòu)。
更具體而言，該結(jié)構(gòu)包括第一載物臺(tái)210,沿著X軸或Y軸 能夠移動(dòng)；第二載物臺(tái)220，與上述第一載物臺(tái)結(jié)合，沿著Y軸或 X軸能夠移動(dòng)；驅(qū)動(dòng)馬達(dá)230，用于驅(qū)動(dòng)上述第一及第二載物臺(tái)。
在此，上述第一及第二載物臺(tái)210、 220可形成為上下交差結(jié) 合的結(jié)構(gòu)，此時(shí)，涂敷了感光劑的襯底位于上述第一及第二載物臺(tái) 中位于上部的載物臺(tái)上。
另外，上述控制部30起到如下作用控制上述光學(xué)顯微鏡部 IO和載物臺(tái)部20的全部系統(tǒng)，為了正確的圖案作業(yè)分析已設(shè)定的 圖案，向光學(xué)顯微鏡部10及載物臺(tái)部20傳輸對(duì)光刻所需的控制指 令，并確認(rèn)光刻狀態(tài)。
更具體而言，上述控制部30可包括光源控制模塊310,控制 通過(guò)上述光學(xué)顯微鏡部的光源部IIO的光源產(chǎn)生，并控制上述光源 控制部120的遮擋部121及光圏122;載物臺(tái)控制模塊320,以樹: 米單位精密控制上述載物臺(tái)部的驅(qū)動(dòng)；數(shù)據(jù)處理模塊330,分析圖 案，將對(duì)光源控制所需的控制信號(hào)傳輸給上述光源控制模塊，并將
制模塊，由此起到CPU作用。
上迷光源控制模塊310將用于產(chǎn)生具有使感光劑反應(yīng)的波長(zhǎng)的 光源的控制信號(hào)傳輸給光源部110，按照?qǐng)D案的形狀，根據(jù)光源大 小控制光圏122，傳輸根據(jù)圖案形狀控制遮擋部121的信號(hào)，由此 對(duì)光源部110及光源控制部120進(jìn)行精密控制。
另外，上述載物臺(tái)控制模塊320作為控制用于驅(qū)動(dòng)載物臺(tái)部20 的驅(qū)動(dòng)馬達(dá)230動(dòng)作的馬達(dá)驅(qū)動(dòng)器，起到通過(guò)精密控制第一及第二 載物臺(tái)210、 220的移動(dòng)來(lái)控制被形成圖案的襯底位置的作用。另外，微處理器內(nèi)置于數(shù)據(jù)處理模塊330中，如果要在襯底上 形成的圖案被輸入，則該數(shù)據(jù)處理模塊與上述圖案相應(yīng)地對(duì)上述光 源控制模塊310及載物臺(tái)控制模塊320進(jìn)行最合適的自動(dòng)控制。
圖3a 圖3c是圖示了本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的控制部的程序畫面和 內(nèi)部編碼的圖。
參照?qǐng)D3a 圖3c,上述控制部30的數(shù)據(jù)處理模塊330分析圖 案以光源在所期望的位置曝光，并通過(guò)控制光源和驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的程序 控制本發(fā)明的光刻系統(tǒng)。
在此，進(jìn)行如上述的控制的程序，支持如下功能的程序語(yǔ)言均 可使用，即，能夠控制由上述載物臺(tái)部和光源控制部提供的接口， 例如，GPIB (General Purpose Interface Bus) 、 RS232、 USB (Universal Serial Bus )等。
另外，如上述的程序內(nèi)部可包括以光源的形狀和大小為基礎(chǔ)高 效地完成要制作的圖案大小的算法。
作為一例，如果利用光團(tuán)將光源大小制造得小，能形成細(xì)致大 小的圖案，并在形成二維平面圖案的過(guò)程中可以適用排列(align), 混合與匹配(mix & match)等基本刻蝕技術(shù)。
下面，對(duì)本發(fā)明的刻蝕方法進(jìn)行說(shuō)明。
首先，將涂敷了感光劑的襯底裝載于與光學(xué)顯微鏡部10下部 結(jié)合的載物臺(tái)部20。
接著，如果用戶所期望的圖案形狀及形態(tài)通過(guò)接口模塊340輸 入，控制部30以如下方式進(jìn)行控制使光學(xué)顯微鏡部光源部110 產(chǎn)生具有使涂敷在襯底上的感光劑反應(yīng)的波長(zhǎng)的光；根據(jù)圖案開放 遮擋部121以使光源通過(guò)；通過(guò)分析用戶輸入的圖案形狀決定光源 的形狀和大小由此調(diào)節(jié)光團(tuán)122;使得通過(guò)上述光圏122射入到光 學(xué)顯微鏡130。
在此，將來(lái)自光學(xué)顯微鏡130的物鏡的、已對(duì)焦的光固定在涂 敷了感光劑的襯底的要形成圖案的部分。
接著，控制部的栽物臺(tái)控制模塊經(jīng)過(guò)圖案分析，通過(guò)控制驅(qū)動(dòng) 馬達(dá)使載物臺(tái)部的第一及第二栽物臺(tái)210、 220向X軸、Y軸移動(dòng)， 由此精密控制形成圖案的部分并照射光。在此，照射過(guò)光的感光劑部分通過(guò)反應(yīng)其感光劑性質(zhì)變化，之后，通過(guò)將試料浸泡于顯像液 的過(guò)程，可獲得只有曝光的部分被消除或者留下的圖案。
如果，如果感光劑是正型的，則只有光照射的曝光部分在顯像
時(shí)被消除；如果是負(fù)型的，則只有光照射的曝光部分在顯像時(shí)被留 下，從而形成圖案。
此時(shí)，在移動(dòng)圖案分離的部分時(shí)(移動(dòng)經(jīng)過(guò)無(wú)需照射光的部 分)，通過(guò)封閉遮擋部121來(lái)遮擋光，以免光通過(guò)光學(xué)顯微鏡射入 到襯底。上述遮擋部121在光學(xué)部110的、射出光的出口以屏幕狀 態(tài)構(gòu)成，能起到根據(jù)控制部130的選擇信號(hào)(select signal, ON/OFF 信號(hào))遮擋或者透射光的作用。因此，在需要曝光時(shí)，通過(guò)開放遮 擋部使光透射；在不需要曝光，通過(guò)關(guān)閉遮擋部遮擋光。
另外，如圖3a所示，為了根據(jù)圖案的種類調(diào)節(jié)照射光的強(qiáng)度， 可以以能調(diào)節(jié)載物臺(tái)停留在 一 個(gè)位置的時(shí)間和從 一 個(gè)位置到接著 要到達(dá)的位置之間距離的方式構(gòu)成，并通過(guò)顯示器部能夠利用坐標(biāo) 圖和坐標(biāo)確認(rèn)載物臺(tái)移動(dòng)的位置。
圖4是圖示了由利用本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的光學(xué)顯微鏡的光刻系 統(tǒng)制作的圖案結(jié)果的圖。
圖4圖示了如下結(jié)果利用稱作"NI"的計(jì)算機(jī)制作圖案，并以 文件形式保存之后，利用作為本發(fā)明的利用光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng) 分析圖案，并使光源在涂敷了感光劑的村底上選擇性地曝光之后， 進(jìn)行了顯像處理的結(jié)果。在此，為了確認(rèn)生成的圖案大小，與頭發(fā) 尺寸進(jìn)行了比較。
如上述所示，能夠確認(rèn)作為本發(fā)明的利用光學(xué)顯微鏡的光刻 系統(tǒng)能夠調(diào)整光源大小和形狀，并通過(guò)對(duì)馬達(dá)載物臺(tái)的準(zhǔn)確控制可 以選擇性地制作多種種類的微米單位的圖案。
以上說(shuō)明的本發(fā)明詳細(xì)說(shuō)明中，參照本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行了 說(shuō)明，而本發(fā)明的保護(hù)范圍并不限定于上述實(shí)施例，只要具有本技 術(shù)領(lǐng)域的通常知識(shí)，就能夠理解在不超出本發(fā)明的思想及技術(shù)領(lǐng)域 的范圍內(nèi)，對(duì)本發(fā)明可以進(jìn)行多種修改及變更。
權(quán)利要求
1. 一種利用光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)，其特征在于，包括光學(xué)顯微鏡部，利用具有使感光劑反應(yīng)的波長(zhǎng)的光源對(duì)涂敷在襯底上的感光劑表面對(duì)焦并進(jìn)行曝光；載物臺(tái)部，與上述光學(xué)顯微鏡部的下部連接，裝載有上述涂敷了感光劑的襯底，以只對(duì)所期望的感光劑部位照射光源的方式移動(dòng)上述襯底；控制部，控制上述光學(xué)顯微鏡部和載物臺(tái)部的整個(gè)系統(tǒng)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)，其特 征在于，上述光學(xué)顯微鏡部包括光源部，產(chǎn)生具有可使感光劑反應(yīng)的波長(zhǎng)的光源； 光源控制部，具有光圏，裝載于由上述光源部產(chǎn)生的光源的 路徑上，并縮小、擴(kuò)大、變化光源的形狀；遮擋部，根據(jù)分離的圖 案使光源曝光時(shí)，以使光源不能傳到不期望的區(qū)域的方式遮擋光 源；光學(xué)顯微鏡，傳輸通過(guò)上述光源控制部的光，對(duì)涂敷了感光劑 的襯底表面對(duì)焦并進(jìn)行曝光。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的利用光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)，其特 征在于，上述光源部選擇性地產(chǎn)生具有可使涂敷在襯底上的感光劑 反應(yīng)的波段的光源。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的利用光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)，其特 征在于，上述光學(xué)顯微鏡將上述光源部產(chǎn)生的光源對(duì)涂敷了感光劑 的襯底表面對(duì)焦后照射，此時(shí)，只曝光要形成圖案的區(qū)域并進(jìn)行光 刻。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)，其特 征在于，上述載物臺(tái)部包括第一載物臺(tái)，可沿著X軸移動(dòng)；第二載物臺(tái)，與上述第一載物臺(tái)結(jié)合，可沿著Y軸移動(dòng)；以及 驅(qū)動(dòng)馬達(dá)，驅(qū)動(dòng)上述第一及第二載物臺(tái)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)，其特 征在于，上述控制部包括光源控制模塊，對(duì)上述光學(xué)顯微鏡部的光源部的光源產(chǎn)生、上述光源控制部的光圏以及遮擋部進(jìn)行控制；載物臺(tái)控制模塊，對(duì)上述載物臺(tái)部驅(qū)動(dòng)以微米單位進(jìn)行精密控制；數(shù)據(jù)處理模塊，通過(guò)分析圖案將對(duì)光源控制所需的控制信號(hào)傳 輸給上述光源控制模塊，并將使上述載物臺(tái)部正確移動(dòng)的控制信號(hào) 傳輸給上述載物臺(tái)控制模塊。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的利用光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)，其特 征在于，上述控制部，分析由用戶輸入的圖案的形狀及大小并決定光的 形狀及大小，由此控制光源控制部，根據(jù)圖案精密控制上述載物臺(tái) 部的移動(dòng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的利用光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)，其特 征在于，上述控制部還包括接口模塊，執(zhí)行與上述光學(xué)顯微鏡部及載物 臺(tái)部的接口連接，并對(duì)通過(guò)上述光學(xué)顯微鏡部的圖案形成過(guò)程進(jìn)行 監(jiān)控。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種利用光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)，更具體而言，涉及一種在不以大量生產(chǎn)為目的的利用單位尺寸硅襯底的小規(guī)模研究活動(dòng)中，利用了光學(xué)顯微鏡的光刻系統(tǒng)，該光學(xué)顯微鏡以低廉的費(fèi)用能夠形成多種選擇性圖案而不使用高價(jià)光掩模。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101546130SQ20091000316
公開日2009年9月30日 申請(qǐng)日期2009年1月8日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月8日
發(fā)明者張度永, 樸應(yīng)皙, 李在祐, 金奎兌 申請(qǐng)人:高麗大學(xué)校產(chǎn)學(xué)協(xié)力團(tuán)