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溫度控制系統(tǒng)及金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉淀設(shè)備及半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):8171763

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技術(shù)領(lǐng)域本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉淀(MOCVD)設(shè)備和半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備,及應(yīng)用于該MOCVD設(shè)備和半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備的溫度控制系統(tǒng)。背景技術(shù)半導(dǎo)體設(shè)備中加熱系統(tǒng)通常具有慣性大、反應(yīng)慢、延時(shí)、升溫單向性等特點(diǎn),同時(shí)還存在著復(fù)雜的熱傳導(dǎo)、熱輻射、熱對(duì)流等傳熱現(xiàn)象,實(shí)現(xiàn)精密溫度控制很困難。對(duì)于某些應(yīng)用場(chǎng)合,當(dāng)加熱面積或體積較大時(shí),由于不同區(qū)域熱損耗的不同,采用單個(gè)加熱器很難實(shí)現(xiàn)溫度的均勻性。因此,有必要將加熱器分解為若干單元,每個(gè)單元只加熱一小塊區(qū)域。同時(shí)還需要為每一塊區(qū)域配置測(cè)溫傳...
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