技術(shù)編號：8136273
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。, plasma processing device ...的制作方法技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及微波等離子體處理裝置的頂板、等離子體處理裝置以及等離子體處理 方法。背景技術(shù)在集成電路及液晶、太陽能電池等大量的半導(dǎo)體設(shè)備中廣泛地使用著等離子技 術(shù)。雖然在半導(dǎo)體制造過程的薄膜的堆積及刻蝕工序等得到使用，但是為了得到更高性能 且更高功能的產(chǎn)品(例如超微細加工技術(shù))等，要求高超的等離子體處理。特別是，能夠獲 得低氣壓高密度等離子體的微波等離子體裝置受到關(guān)注。使用RLSA(Radial Line Slot Antenna，徑向線縫隙...
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